[發明專利]一種高絕緣性納米防護涂層的制備方法在審
| 申請號: | 202011414005.0 | 申請日: | 2017-08-23 |
| 公開(公告)號: | CN112680722A | 公開(公告)日: | 2021-04-20 |
| 發明(設計)人: | 宗堅 | 申請(專利權)人: | 江蘇菲沃泰納米科技股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/50 | 分類號: | C23C16/50;C23C16/56;C23C16/515;C23C16/52 |
| 代理公司: | 北京商專永信知識產權代理事務所(普通合伙) 11400 | 代理人: | 鄔玥;方挺 |
| 地址: | 214000 江蘇省無錫市*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 絕緣性 納米 防護 涂層 制備 方法 | ||
一種高絕緣性納米防護涂層的制備方法,屬于等離子體技術領域,該方法中,將反應腔室抽真空度,并通入惰性氣體,使基材產生運動,通入單體蒸汽到反應腔室內,開啟等離子體放電,進行化學氣相沉積,在基材表面化學氣相沉積制備高絕緣性納米涂層,單體蒸汽成分為:至少一種低偶極矩有機物單體和至少一種多官能度不飽和烴及烴類衍生物的混合物,本發明篩選出具有低偶極矩和高化學惰性的有機物單體,通過多官能度單體調控涂層的自由體積和致密性,由于等離子化學氣相沉積方法不僅可適用于多種單體,且對形成的涂層的成分與結構的可控性強,可使沉積的涂層在相同厚度下比派瑞林等現有涂層具有更優異的防護性能和絕緣性能。
本申請是2017年8月23日提交的名稱為“一種高絕緣性納米防護涂層的制備方法”,申請號為201710729368.5的中國發明申請的分案申請。
技術領域
本發明屬于等離子體化學氣相沉積技術領域,具體涉及到一種納米防護涂層的制備方法。
背景技術
防霉菌、防潮濕、防鹽霧(簡稱三防)是電子器件在存儲、運輸及使用過程中需要解決的重要問題。而霉菌、鹽霧和潮濕通常導致電子器件由于短路而失效。因此,對于應用于電子行業的防護涂層,除了具有優異的“三防”性能,還必須有良好的絕緣性。
目前,采用防護涂層對電子產品進行防護,是提高電子產品使用壽命的有效方法。獲得防護涂層通常有兩種方法,液相法和氣相法。液相法通常采用三防漆,對電子產品進行涂敷后,利用熱固化或光固化,在電路板上形成一層致密有機涂層,用于保護線路板及其相關設備免受環境的侵蝕。三防漆具有良好的耐高低溫性能;其固化后成一層透明保護膜,具有優越的絕緣、防潮、防漏電、防震、防塵、防腐蝕、防老化、耐電暈等性能。但液相方法會產生廢水、廢氣和廢液,使用的溶劑會對電子器件基板本身產生一定損傷,此外其厚度大多為幾十微米,難以控制在納米級別,對于一些需要散熱和信號傳輸的電子器件功能會有一定影響。
氣相法則包括蒸鍍、等離子體氣相沉積等方法。最典型的蒸鍍涂層為派瑞林涂層,由美國Union Carbide Co.開發并大量應用在電子產品防護當中。派瑞林涂層是一種對二甲苯的聚合物,先將對二甲苯加熱到680攝氏度,形成具有活性對二甲苯二聚體,在沉積腔降低溫度后,這種二聚體沉積在電子產品表面,形成聚合物薄膜。由于對二甲苯結構高度對稱,偶極矩為0,且由于苯環的存在,聚合物分子具有較大的自由體積;同時由于聚合物分子量相對較大,使得涂層致密性高。由于以上特征,派瑞林涂層具有低水、氣體滲透性、高屏障效果能夠達到防潮、防水、防銹、抗酸堿腐蝕的作用。這種聚對二甲苯是在真空狀態下沉積產生,可以應用在液態涂料所無法涉及的領域如高頻電路、極弱電流系統的保護。聚合物薄膜涂層厚度是影響聚對二甲苯氣相沉積敷形涂層防護失效的主要原因,印制電路板組件聚合物薄膜涂層在3~7微米厚度易發生局部銹蝕失效,在不影響高頻介電損耗情況下涂層厚度應≥30微米。派瑞林涂層對于需要防護的印刷線路板的預處理要求較高,例如導電組件、信號傳輸組件、射頻組件等,在氣相沉積敷形涂層時需要對線路板組件做遮蔽預處理,避免對組件性能造成影響。這一弊端給派瑞林涂層的應用帶來了極大限制。派瑞林涂層制備原料成本高、涂層制備條件苛刻(高溫、高真空度要求)、成膜速率低,難以廣泛應用。此外,厚涂層易導致散熱差、信號阻隔、涂層缺陷增多、生產效率低等諸多問題。
針對以上問題,開發一種環保、絕緣性好,在涂層較薄情況下具有優異防護性能的涂層及制備方法,具有重要的應用價值。
等離子體化學氣相沉積(plasma chemical vapor deposition,PCVD)是一種用等離子體激活反應氣體,促進在基體表面或近表面空間進行化學反應,生成固態膜的技術。等離子體化學氣相沉積法涂層具有以下優點:
(1)是干式工藝,生成薄膜均勻無針孔。
(2)等離子體聚合膜的耐溶劑性、耐化學腐蝕性、耐熱性、耐磨損性能等化學、物理性質穩定。
(3)等離子體聚合膜與基體黏接性良好。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





