[發(fā)明專利]一種氟化物熔鹽中四氟化鋯的提純方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011412927.8 | 申請(qǐng)日： | 2020-12-02 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN112479256B | 公開（公告）日： | 2022-05-31 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 錢淵;湯睿;竇強(qiáng);趙素芳;劉陽;葛敏;申淼;傅杰;李晴暖;王建強(qiáng) | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 中國科學(xué)院上海應(yīng)用物理研究所 |
| 主分類號(hào)： | C01G25/04 | 分類號(hào)： | C01G25/04;B01D3/14;B01D3/32 |
| 代理公司： | 上海弼興律師事務(wù)所 31283 | 代理人： | 王衛(wèi)彬;鄒玲 |
| 地址： | 201800 上*** | 國省代碼： | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 氟化物 熔鹽中四 氟化 提純 方法 | ||
1.一種氟化物熔鹽中四氟化鋯的提純方法，其特征在于，其包括以下步驟：將所述氟化物熔鹽加至板式精餾塔的塔釜中，進(jìn)行精餾；經(jīng)所述精餾后，由所述板式精餾塔的塔頂收集餾出物即可，回流物再回流至所述板式精餾塔的塔釜中；所述板式精餾塔的塔板溫度為450～1000℃；
所述板式精餾塔的塔釜溫度為500～950℃；
所述板式精餾塔的塔釜溫度高于所述氟化物熔鹽的熔點(diǎn)30～50℃；
所述板式精餾塔的塔板溫度比所述板式精餾塔中的回流物的熔點(diǎn)高30～50℃；
所述板式精餾塔中的塔板數(shù)15～40塊塔板；所述氟化物熔鹽含有ZrF4，且含有LiF、NaF、KF、RbF和CsF中的一種或多種；或者，所述ZrF4在所述氟化物熔鹽中的摩爾百分比為1～100％。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氟化物熔鹽中四氟化鋯的提純方法，其特征在于，所述氟化物熔鹽為LiF-NaF-ZrF4、LiF-NaF-KF-ZrF4、NaF-ZrF4、NaF-KF-ZrF4、KF-ZrF4或者含氧量為100ppm以上的ZrF4。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氟化物熔鹽中四氟化鋯的提純方法，其特征在于，所述LiF-NaF-ZrF4熔鹽中，LiF:NaF:ZrF4的摩爾百分比為(0.1-85):(0.1-79):(0.1-84)；
所述LiF-NaF-KF-ZrF4熔鹽中，LiF:NaF:KF:ZrF4的摩爾百分比為(6-74):(1-48):(1-70):(0.1-3.0)；
所述NaF-ZrF4熔鹽中，NaF:ZrF4的摩爾百分比為(33-80):(20-67)；
所述NaF-KF-ZrF4熔鹽中，NaF:KF:ZrF4的摩爾百分比為(1-82):(1-82):(1-84)；
所述KF-ZrF4熔鹽中，KF：ZrF4的摩爾百分比為(20-67):(33-80)；
當(dāng)所述氟化物熔鹽為摩爾百分比24.5:38.5:37的LiF-NaF-ZrF4時(shí)，所述板式精餾塔的塔釜溫度為530～850℃，所述板式精餾塔的塔板溫度為530～950℃；
當(dāng)所述氟化物熔鹽為摩爾百分比46:11.5:41.5:1的LiF-NaF-KF-ZrF4時(shí)，所述板式精餾塔的塔釜溫度為450～950℃，所述板式精餾塔的塔板溫度為450～1000℃；
當(dāng)所述氟化物熔鹽為摩爾百分比46.3:11.4:41.8:0.5的LiF-NaF-KF-ZrF4時(shí)，所述板式精餾塔的塔釜溫度為500～550℃，所述板式精餾塔的塔板溫度為480～700℃；
當(dāng)所述氟化物熔鹽為摩爾百分比47:53的NaF-ZrF4時(shí)，所述板式精餾塔的塔釜溫度為530～900℃，所述板式精餾塔的塔板溫度為530～1000℃；
當(dāng)所述氟化物熔鹽為摩爾百分比60:40的NaF-ZrF4時(shí)，所述板式精餾塔的塔釜溫度為530～900℃，所述板式精餾塔的塔板溫度為530～1000℃；
當(dāng)所述氟化物熔鹽為摩爾百分比20:29:51的NaF-KF-ZrF4時(shí)，所述板式精餾塔的塔釜溫度為500～900℃，所述板式精餾塔的塔板溫度為750～1000℃；
當(dāng)所述氟化物熔鹽為摩爾百分比24.5:38.5:37的NaF-KF-ZrF4時(shí)，所述板式精餾塔的塔釜溫度為500～650℃，所述板式精餾塔的塔板溫度為700～1000℃。
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