[發明專利]一種高爐氣體噴吹裝置、高爐氣體噴吹系統和方法

有效

• 申請號: 202011384524.7
• 申請日: 2020-12-01
• 公開（公告）號: CN112501373B
• 公開（公告）日: 2022-08-23
• 發明（設計）人: 張玉文;葉水鑫;肖宇陽;耿淑華;魯雄剛;祝凱
• 申請（專利權）人: 上大新材料（泰州）研究院有限公司;上海大學
• 主分類號: C21B7/16
• 分類號: C21B7/16;C21B7/22;C21B7/00;C21B5/06;C21B5/00
• 代理公司: 上海劍秋知識產權代理有限公司 31382
• 代理人: 應風曄

1.一種高爐氣體噴吹氣流分布裝置，其特征在于，包括環形管和自所述環形管向下傾斜延伸而出的多根均勻間隔的支管，所述支管分別與所述環形管連通，所述的環形管和所述的支管上設置有多個噴吹孔，所述的環形管和所述的支管被設置為使得通過所述支管進入的氣體進入所述環形管，并通過各個所述的噴吹孔噴出；且所述環形管和所述支管被設置為使得自所述的噴吹孔噴出的氣流在高爐內以倒V形均勻分布。

2.如權利要求1所述的高爐氣體噴吹氣流分布裝置，其中，所述的噴吹孔向上或向下設置在所述的環形管和所述的支管上。

3.一種高爐氣體噴吹系統，其特征在于，包括如權利要求1所述的高爐氣體噴吹氣流分布裝置，所述的高爐氣體噴吹氣流分布裝置被設置在高爐的軟熔部上方，所述的支管設置在高爐爐身下部或爐腰部風口處，還包括預熱裝置和噴吹控制裝置，所述的噴吹控制裝置控制噴吹氣體通過所述預熱裝置預熱后，通過所述的支管進入所述的高爐氣體噴吹氣流分布裝置。

4.如權利要求3所述的高爐氣體噴吹系統，其中，所述的噴吹控制裝置與含氫氣體氣源相連，用于噴吹含氫氣體。

5.如權利要求3所述的高爐氣體噴吹系統，其中，還包括用于循環爐頂煤氣的兩級除塵裝置和分離富集裝置，所述的分離富集裝置被設置為可去除循環爐頂煤氣中的CO₂ 和N₂ ，從而對循環爐頂煤氣中的H₂ 和CO氣體進行富集，所述的噴吹控制裝置與所述的分離富集裝置相連，用于噴吹循環爐頂煤氣。

6.如權利要求5所述的高爐氣體噴吹系統，其中，在所述的兩級除塵裝置和所述的分離富集裝置間還設置有冷凝水分離裝置；所述的噴吹控制裝置同時與含氫氣體氣源和所述的分離富集裝置相連，用于同時噴吹循環爐頂煤氣和來自外部氣源的含氫氣體。

7.一種高爐氣體噴吹方法，其特征在于，包括步驟：

在高爐的軟熔部上方設置如權利要求1所述的高爐氣體噴吹氣流分布裝置，所述的支管設置在高爐爐身下部或爐腰部風口處；

將噴吹氣體通過噴吹控制裝置，經預熱裝置預熱后，通過所述的支管進入所述的高爐氣體噴吹氣流分布裝置噴吹入高爐內，使氣流在高爐內以倒V形均勻分布。

8.如權利要求7所述的高爐氣體噴吹方法，其中，所述的噴吹氣體為與所述噴吹控制裝置相連的外部氣源提供的含氫氣體。

9.如權利要求7所述的高爐氣體噴吹方法，其中，所述的噴吹氣體為循環爐頂煤氣，所述的循環爐頂煤氣經過兩級除塵裝置和分離富集裝置后進入所述的噴吹控制裝置。

10.如權利要求9所述的高爐氣體噴吹方法，其中，在所述的兩級除塵裝置和所述的分離富集裝置間還設置有冷凝水分離裝置；所述的噴吹控制裝置同時與含氫氣體氣源和所述的分離富集裝置相連，同時噴吹循環爐頂煤氣和來自外部氣源的含氫氣體。