[發(fā)明專(zhuān)利]一種沖擊式刀盤(pán)裝置的控制系統(tǒng)及方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011374409.1 | 申請(qǐng)日: | 2020-11-30 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112502726B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-11-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉飛香;程永亮;廖金軍;趙貴生;蔣海華;范文軍;易達(dá)云;伍容;孔文 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 中國(guó)鐵建重工集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | E21D9/10 | 分類(lèi)號(hào): | E21D9/10 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 紀(jì)志超 |
| 地址: | 410100 湖南省長(zhǎng)*** | 國(guó)省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 沖擊 式刀盤(pán) 裝置 控制系統(tǒng) 方法 | ||
1.一種沖擊式刀盤(pán)裝置的控制方法,其特征在于,包括:
獲取刀盤(pán)轉(zhuǎn)速、沖擊設(shè)備沖擊頻率和沖擊設(shè)備轉(zhuǎn)速;
根據(jù)所述刀盤(pán)轉(zhuǎn)速、所述沖擊設(shè)備沖擊頻率和所述沖擊設(shè)備轉(zhuǎn)速控制沖擊設(shè)備或刀盤(pán),以使刀盤(pán)(01)的轉(zhuǎn)速與沖擊設(shè)備(02)的沖擊頻率和轉(zhuǎn)速相匹配;
所述根據(jù)所述刀盤(pán)轉(zhuǎn)速、所述沖擊設(shè)備沖擊頻率和所述沖擊設(shè)備轉(zhuǎn)速控制沖擊設(shè)備或刀盤(pán),以使刀盤(pán)(01)的轉(zhuǎn)速與沖擊設(shè)備(02)的沖擊頻率和轉(zhuǎn)速相匹配的步驟,包括:
根據(jù)所述刀盤(pán)轉(zhuǎn)速得到預(yù)設(shè)沖擊頻率參數(shù)和預(yù)設(shè)沖擊設(shè)備轉(zhuǎn)速參數(shù);
比對(duì)所述預(yù)設(shè)沖擊頻率參數(shù)和所述沖擊設(shè)備沖擊頻率,以及所述預(yù)設(shè)沖擊設(shè)備轉(zhuǎn)速參數(shù)和所述沖擊設(shè)備轉(zhuǎn)速并得到比對(duì)結(jié)果;
根據(jù)所述比對(duì)結(jié)果控制沖擊設(shè)備(02)調(diào)整所述沖擊設(shè)備沖擊頻率和所述沖擊設(shè)備轉(zhuǎn)速至與所述刀盤(pán)轉(zhuǎn)速相匹配,或者控制刀盤(pán)(01)調(diào)整所述刀盤(pán)轉(zhuǎn)速至與所述沖擊設(shè)備沖擊頻率和所述沖擊設(shè)備轉(zhuǎn)速相匹配。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的沖擊式刀盤(pán)裝置的控制方法,其特征在于,所述根據(jù)所述刀盤(pán)轉(zhuǎn)速得到預(yù)設(shè)沖擊頻率參數(shù)和預(yù)設(shè)沖擊設(shè)備轉(zhuǎn)速參數(shù)的步驟,包括:
獲取預(yù)設(shè)調(diào)整參數(shù)組;
根據(jù)所述刀盤(pán)轉(zhuǎn)速?gòu)乃鲱A(yù)設(shè)調(diào)整參數(shù)組中選擇與所述刀盤(pán)轉(zhuǎn)速相匹配的所述預(yù)設(shè)沖擊頻率參數(shù)和所述預(yù)設(shè)沖擊設(shè)備轉(zhuǎn)速參數(shù)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的沖擊式刀盤(pán)裝置的控制方法,其特征在于,所述比對(duì)結(jié)果包括第一比對(duì)結(jié)果、第二比對(duì)結(jié)果和第三比對(duì)結(jié)果,其中,
所述第一比對(duì)結(jié)果為:所述預(yù)設(shè)沖擊頻率參數(shù)等于所述沖擊設(shè)備沖擊頻率,且所述預(yù)設(shè)沖擊設(shè)備轉(zhuǎn)速參數(shù)等于所述沖擊設(shè)備轉(zhuǎn)速;
所述第二比對(duì)結(jié)果為:所述預(yù)設(shè)沖擊頻率參數(shù)小于沖擊設(shè)備額定沖擊頻率,且所述預(yù)設(shè)沖擊設(shè)備轉(zhuǎn)速參數(shù)小于沖擊設(shè)備額定轉(zhuǎn)速;
所述第三比對(duì)結(jié)果為:所述預(yù)設(shè)沖擊頻率參數(shù)大于沖擊設(shè)備額定沖擊頻率,且所述預(yù)設(shè)沖擊設(shè)備轉(zhuǎn)速參數(shù)大于沖擊設(shè)備額定轉(zhuǎn)速。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的沖擊式刀盤(pán)裝置的控制方法,其特征在于,所述根據(jù)所述比對(duì)結(jié)果控制沖擊設(shè)備(02)調(diào)整所述沖擊設(shè)備沖擊頻率和所述沖擊設(shè)備轉(zhuǎn)速至與所述刀盤(pán)轉(zhuǎn)速相匹配,或者控制刀盤(pán)(01)調(diào)整所述刀盤(pán)轉(zhuǎn)速至與所述沖擊設(shè)備沖擊頻率和所述沖擊設(shè)備轉(zhuǎn)速相匹配的步驟包括:
當(dāng)所述比對(duì)結(jié)果為所述第二比對(duì)結(jié)果時(shí),將所述第二比對(duì)結(jié)果傳輸至控制模塊(3),所述控制模塊(3)控制沖擊設(shè)備(02)調(diào)整所述沖擊設(shè)備沖擊頻率和所述沖擊設(shè)備轉(zhuǎn)速分別與所述刀盤(pán)轉(zhuǎn)速相匹配;
當(dāng)所述比對(duì)結(jié)果為所述第三比對(duì)結(jié)果時(shí),將所述第二比對(duì)結(jié)果傳輸至所述控制模塊(3),所述控制模塊(3)控制刀盤(pán)(01)調(diào)整所述刀盤(pán)轉(zhuǎn)速至與所述沖擊設(shè)備額定轉(zhuǎn)速和所述沖擊設(shè)備額定轉(zhuǎn)速相匹配。
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