[發(fā)明專利]襯底處理裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011373950.0
• 申請日: 2020-11-30
• 公開（公告）號: CN113314435A
• 公開（公告）日: 2021-08-27
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 澤島隼;山口貴大;小林健司
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社斯庫林集團
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/677
• 代理公司: 北京律盟知識產(chǎn)權(quán)代理有限責任公司 11287
• 代理人: 陳甜甜

本發(fā)明涉及一種襯底處理裝置。所有處理單元中，處理室、藥液配管空間及排氣室沿著搬送空間排列配置，且從搬送空間側(cè)觀察時，在處理室的一側(cè)配置著藥液配管空間，并以隔著處理室與藥液配管空間對向的方式配置著排氣室。由于排氣室隔著處理室與藥液配管空間對向配置，因此能夠防止排氣管妨礙配管通過的通路，所述配管是用來向保持在保持旋轉(zhuǎn)部上的襯底供給藥液。另外，以往是由2種處理單元構(gòu)成，而本發(fā)明中通過1種處理單元即可解決。因此，能夠使零件在所有處理單元中共通化。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種對襯底進行處理的襯底處理裝置。關(guān)于襯底，例如可列舉半導(dǎo)體襯底、FPD(Flat Panel Display，平板顯示器)用襯底、光掩膜用玻璃襯底、光盤用襯底、磁盤用襯底、陶瓷襯底、太陽能電池用襯底等。FPD例如可列舉液晶顯示裝置、有機EL(electroluminescence，電致發(fā)光)顯示裝置等。

背景技術(shù)

以往的襯底處理裝置，如圖1或例如日本專利特開2014-197592號公報所示，具備移載傳送部203及處理塊211。移載傳送部203具備載體載置部204及移載傳送機構(gòu)(機器人)206。在載體載置部204上載置對襯底W進行收容的載體C。移載傳送機構(gòu)206在載體載置部204上載置的載體C與處理塊211之間搬送襯底W。處理塊211具備襯底搬送機構(gòu)(機器人)216及多個處理單元221。多個處理單元221在上下方向上以多級(例如2級)構(gòu)成。

參照圖2。在上下方向上為多級(例如2級)的各處理單元221中設(shè)置著排氣口252。另外，在最上級的處理單元221的上方，設(shè)置著供酸系排氣、堿系排氣及有機系排氣分別流動的3條分離的排氣管281、282、283。排氣管241的一端連接于處理單元221的排氣口252，排氣管241的另一端連接于排氣切換裝置251。排氣切換裝置251設(shè)置在最上級的處理單元221的上方，構(gòu)成為將來自處理單元221的排氣口252的排氣分配至3條分離的排氣管281、282、283(例如參照日本專利特開2019-016818號公報)。

發(fā)明內(nèi)容

[發(fā)明要解決的問題]

但是，以往的襯底處理裝置存在如下問題。例如，圖2中，當上下方向上存在2級處理單元221時，2條排氣管241以在縱方向上延伸至設(shè)置在上級(最上級)的處理單元221的上方的排氣切換裝置251的方式配置。圖3是上級的處理單元221的示意性俯視圖。處理單元221具備處理室223及配管部294。處理室223具備保持襯底W、且使所保持的襯底旋轉(zhuǎn)的保持旋轉(zhuǎn)部231。配管部294例如具備用來供給酸系、堿系及有機系藥液的配管(未圖示)、以及用于上級及下級的處理單元221的2條排氣管241。

此處，2條排氣管241與處理室223相鄰配置以進行處理室223的排氣。例如，增加處理單元221的級數(shù)，在上下方向上配置6個(6級)處理單元221。此情況下，在最上級的處理單元221的配管部294中，添加圖3的虛線所示的4條排氣管241，由此成為設(shè)置著6條排氣管241。因此，6條排氣管241成為障礙，例如圖3的符號PT所示，用來向保持在保持旋轉(zhuǎn)部231上的襯底W供給藥液的配管通過的通路變窄。

另外，如圖1的符號A、符號B所示，以往的襯底處理裝置中，盡管是進行相同的藥液處理，但卻具備2種處理單元221。因此，必須得準備符號A所示的處理單元221用零件與符號B所示的處理單元221用零件，所以迫切期望零件共通化。

本發(fā)明是鑒于這種狀況而完成的，其目的在于，提供一種防止排氣管妨礙到配管通向處理室的通路，并且能夠?qū)崿F(xiàn)零件共通化的襯底處理裝置。

[解決問題的技術(shù)手段]