[發(fā)明專利]輻照下鋯基合金中位錯(cuò)環(huán)半徑動(dòng)力學(xué)模擬方法及模型系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011371063.X | 申請日: | 2020-11-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112507539B | 公開(公告)日: | 2022-04-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吳璐;張偉;信天緣;何文;伍曉勇;潘榮劍;覃檢濤;滕常青;方忠強(qiáng);楊帆;溫榜;毛建軍;張爍;宋小蓉 | 申請(專利權(quán))人: | 中國核動(dòng)力研究設(shè)計(jì)院 |
| 主分類號(hào): | G06F30/20 | 分類號(hào): | G06F30/20;G06F17/11;G06F111/10;G06F119/14 |
| 代理公司: | 成都行之專利代理事務(wù)所(普通合伙) 51220 | 代理人: | 林菲菲 |
| 地址: | 610000 四川省*** | 國省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 輻照 下鋯基 合金 中位錯(cuò)環(huán) 半徑 動(dòng)力學(xué) 模擬 方法 模型 系統(tǒng) | ||
1.輻照下鋯基合金中位錯(cuò)環(huán)半徑動(dòng)力學(xué)模擬方法,其特征是,包括以下步驟:
S101:基于反應(yīng)速率理論方法建立模擬位錯(cuò)結(jié)構(gòu)的演化和輻照生長模型;
S102:建立基于演化和輻照生長模型的位錯(cuò)環(huán)半徑動(dòng)力學(xué)模型;
S103:將獲取的材料參數(shù)作為數(shù)值模擬參數(shù)輸入至位錯(cuò)環(huán)半徑動(dòng)力學(xué)模型;
S104:位錯(cuò)環(huán)半徑動(dòng)力學(xué)模型根據(jù)數(shù)值模擬參數(shù)模擬計(jì)算位錯(cuò)環(huán)半徑與合金元素含量、晶粒尺寸、溫度、劑量率的依賴關(guān)系;
所述演化和輻照生長模型建立具體為:
二元鋯基合金中A、B兩種原子的濃度分別為cA、cB,cA、cB服從守恒定律cA+cB=1;
若鋯基合金受到持續(xù)輻照,則根據(jù)NRT標(biāo)準(zhǔn)的劑量率計(jì)算:KNRT≈σdvFPΦ;其中,KNRT是輻照劑量率;σd是中子橫截面,vFP是級(jí)聯(lián)中產(chǎn)生的Frenkel對數(shù),Φ是總的粒子通量;
若在級(jí)聯(lián)中存在部分重組的缺陷∈r,則以最短表示法表示損傷速率K:K=KNRT(1-∈r);
在級(jí)聯(lián)中產(chǎn)生的間隙原子、空位分別以效率εi、εv團(tuán)簇化,間隙原子的總量為:
基于反應(yīng)速率理論方法設(shè)定每種類型的間隙原子都是由相應(yīng)類型的原子產(chǎn)生的,當(dāng)原子離開相應(yīng)位置時(shí),級(jí)聯(lián)會(huì)產(chǎn)生空位;空位產(chǎn)生過程速率由損傷速率K定義,湮滅過程由點(diǎn)缺陷阱和擴(kuò)散系數(shù)定義的速率描述;每種間隙原子均考慮復(fù)合過程,點(diǎn)缺陷的動(dòng)力學(xué)方程如下:
其中,表示每種間隙原子的擴(kuò)散系數(shù),表示對應(yīng)網(wǎng)絡(luò)位錯(cuò)、位錯(cuò)環(huán)、晶界和沉淀的吸收阱強(qiáng)度;其中,表示每種間隙原子的濃度,cv表示空位的濃度;
將間隙原子的吸收阱強(qiáng)度定義為表示在所有晶體學(xué)方向j的總和,考慮了網(wǎng)絡(luò)位錯(cuò)密度間隙環(huán)和空位環(huán)的密度其中,分別表示對應(yīng)的環(huán)半徑和環(huán)數(shù)密度;
與半徑λn GB在三個(gè)笛卡爾方向n=(x,y,z)之一的晶界有關(guān);
是尺寸為rp和密度為Np的沉淀物的吸收阱強(qiáng)度;
表示引起點(diǎn)缺陷運(yùn)動(dòng)與位錯(cuò)、環(huán)、晶界和相界面差異的偏差系數(shù),α{·}與相應(yīng)的復(fù)合速率常數(shù)有關(guān),計(jì)算公式具體為:
其中,與捕獲半徑有關(guān);aA,B是由合金成分定義的有效晶格參數(shù);與每個(gè)相中的空位擴(kuò)散率有關(guān);ΩA,B是相應(yīng)的原子體積;若晶格失配足夠小,則將并且假設(shè)
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻照下鋯基合金中位錯(cuò)環(huán)半徑動(dòng)力學(xué) 模擬方法,其特征是,所述偏差系數(shù)具體為:
偏差系數(shù)之間具有以下關(guān)系:表示基面上不形成間隙環(huán);
若考慮晶界,則將ZGB作為位錯(cuò)環(huán)半徑的函數(shù)來描述多晶鋯合金的輻照生長和蠕變;至少有空位和間隙型的位錯(cuò)環(huán)、晶界和界面的偏差系數(shù)是輻照過程中位錯(cuò)環(huán)半徑增長的函數(shù),而網(wǎng)絡(luò)位錯(cuò)的偏差系數(shù)保持不變;
將代入考慮晶界的模型中,則位錯(cuò)環(huán)的偏差系數(shù)取值具體為:
μ={i,v},Υ={I,V}
設(shè)定環(huán)的捕獲半徑是柏氏向量的對應(yīng)值;是相應(yīng)環(huán)半徑的衰減函數(shù),通過引入限制取值;
則偏差系數(shù)取值為:
λn GB=λGB
若Zn p與Zn GB具有相同的結(jié)構(gòu),則rp代替λGB。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的輻照下鋯基合金中位錯(cuò)環(huán)半徑動(dòng)力學(xué)模擬方法,其特征是,所述二元鋯基合金中,通過組合兩個(gè)間隙原子的方程得到描述間隙原子和空位總量動(dòng)態(tài)的簡化體系,具體為:
設(shè)定A組分是主元,則B組分是次元;在平均場近似中,合金成分的平均濃度為則
間隙原子遵循點(diǎn)缺陷之和的定律關(guān)系:
將兩個(gè)間隙原子的方程組合得到以下的簡化體系:
其中,是空位的位錯(cuò)吸收阱強(qiáng)度,
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國核動(dòng)力研究設(shè)計(jì)院,未經(jīng)中國核動(dòng)力研究設(shè)計(jì)院許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011371063.X/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 一種半導(dǎo)體器件及其制備方法
- SiC晶片及SiC晶片的制造方法
- 一種位錯(cuò)環(huán)原子結(jié)構(gòu)的建模方法
- 一種穿越垂直位錯(cuò)活動(dòng)斷層的盾構(gòu)隧道管片結(jié)構(gòu)
- 碳化硅外延基板和制造碳化硅半導(dǎo)體器件的方法
- 一種鎳鋁合金涂層及其制備鎳鋁合金涂層的方法
- 輻照下鋯基合金中位錯(cuò)環(huán)半徑動(dòng)力學(xué)模擬方法及模型系統(tǒng)
- 基于速率理論的鋯基合金中輻照硬化模擬方法及模型系統(tǒng)
- 一種圓筒針織機(jī)及其錯(cuò)針位控制裝置
- 一種位錯(cuò)特征的三維圖示化表示方法





