[發(fā)明專利]硫和/或氮摻雜石墨烯納米片的制備方法、應(yīng)用有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011347785.1 | 申請日: | 2020-11-26 |
| 公開(公告)號: | CN112593203B | 公開(公告)日: | 2022-09-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 許交興;官輪輝;崔亞琪 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院福建物質(zhì)結(jié)構(gòu)研究所 |
| 主分類號: | C23C16/26 | 分類號: | C23C16/26;C25B11/091;C25B1/30;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 北京睿智保誠專利代理事務(wù)所(普通合伙) 11732 | 代理人: | 周新楣 |
| 地址: | 350002 福建*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 摻雜 石墨 納米 制備 方法 應(yīng)用 | ||
本申請公開了一種硫和/或氮摻雜石墨烯納米片的制備方法及應(yīng)用,所述方法包括:在非活性氣氛下,將含有摻雜源和碳源的原料,在催化劑的存在下,進(jìn)行化學(xué)沉積,反應(yīng),之后除去催化劑,即可得到所述硫和/或氮摻雜石墨烯納米片;所述摻雜源選自硫源、氮源中的至少一種。本申請?zhí)峁┑幕诨瘜W(xué)氣相沉積(CVD)方法策略合成一種S和/或N摻雜石墨烯納米片,其作為催化劑在酸性介質(zhì)下表現(xiàn)出非凡的電催化氧還原產(chǎn)H2O2的性能,是目前酸性介質(zhì)中報(bào)道的最高速率和法拉第效率。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請涉及一種硫和/或氮摻雜石墨烯納米片的制備方法、應(yīng)用,屬于復(fù)合材料技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
作為“綠色化學(xué)品”,雙氧水在造紙,紡織,化工環(huán)保等行業(yè)的應(yīng)用廣泛,需求迅猛,其主成分過氧化氫(H2O2)已成為近十年用量增長最快的化學(xué)品之一。傳統(tǒng)工業(yè)蒽醌法包含復(fù)雜有機(jī)體系反應(yīng)和后處理步驟:危險(xiǎn)性高,能耗大等缺點(diǎn)。而電化學(xué)合成過氧化氫的方法具有設(shè)備簡單、高效低耗、綠色環(huán)保等特點(diǎn),有望取代傳統(tǒng)的工業(yè)蒽醌法。
電化學(xué)氧還原合成過氧化氫是將氧氣和水(H+)轉(zhuǎn)化成H2O2的過程,存在伴生競爭性的四電子氧還原副反應(yīng),導(dǎo)致能量效率和產(chǎn)物選擇性不高。更為突出的是,過去所報(bào)道的催化劑大多為貴金屬,如Pd-Au、Pt-Pd、W-Au、Pd-Hg和Pt-Hg、Ag-Hg等合金催化劑,特別是Pd-Hg在酸性條件下表現(xiàn)高的選擇性與穩(wěn)定性,是當(dāng)前最好的二電子還原催化劑,但其高成本和汞流失對環(huán)境的危害,限制了它們的廣泛應(yīng)用。
近來報(bào)道的一些原料低廉且電化學(xué)穩(wěn)定的碳材料以及過渡金屬復(fù)合納米碳材料有望發(fā)展為最具潛力的二電子氧還原催化劑,如氧化的多壁碳納米管和石墨烯,N摻雜碳納米角,N摻雜介孔碳等。但是這些催化劑絕大多數(shù)在堿性/中性介質(zhì)條件下表現(xiàn)出優(yōu)越的氧還原產(chǎn)雙氧水性能(如過電位低,大電流),在酸性介質(zhì)中則表現(xiàn)平庸。不幸的是,雙氧水產(chǎn)物在堿性和中性介質(zhì)中不穩(wěn)定,易分解。而在酸性條件下反而能長期共存,有利于產(chǎn)物收集。為此,開發(fā)酸性介質(zhì)中高效的非(貴)金屬具有重要的現(xiàn)實(shí)意義。
發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本申請的一個(gè)方面,提供了一種硫和/或氮摻雜石墨烯納米片的制備方法,基于化學(xué)氣相沉積(CVD)方法策略合成一種S和/或N摻雜石墨烯納米片,其作為催化劑在酸性介質(zhì)下表現(xiàn)出非凡的電催化氧還原產(chǎn)H2O2的性能:其中啟動電位達(dá)到0.616V(酸性介質(zhì)有利于H2O2穩(wěn)定),高于絕大部分的報(bào)道的材料如N-摻雜碳納米角(0.4V),N-摻雜介孔碳(0.55V)和介孔碳球(0.37V)。產(chǎn)過氧化氫選擇性在電化學(xué)窗口(0.2-0.55V區(qū)間)均高于90%,速率最高達(dá)到4.79mol·g-1·h-1,法拉第效率達(dá)到92%,是目前酸性介質(zhì)中報(bào)道的最高速率和法拉第效率。
根據(jù)本申請的第一方面,提供了一種硫和/或氮摻雜石墨烯納米片的制備方法,所述方法包括:在非活性氣氛下,將含有摻雜源和碳源的原料,在催化劑的存在下,進(jìn)行化學(xué)沉積,反應(yīng),之后除去催化劑,即可得到所述硫和/或氮摻雜石墨烯納米片;
所述摻雜源選自硫源、氮源中的至少一種。
可選地,所述催化劑包括活性組分和載體;所述活性組分負(fù)載在所述載體上;所述活性組分選自金屬元素;所述金屬元素選自鐵、鈷、鎳中的至少一種;
所述載體選自γ-Al2O3、SiO2、MgO中的至少一種;
所述硫源選自噻吩、硫脲中的至少一種;
所述碳源選自噻吩、嘧啶、吡啶、硫脲、吡咯中的至少一種;
所述氮源選自嘧啶、吡啶,吡咯中的至少一種。
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C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
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C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的





