[發明專利]電光調制激光干涉線位移及角位移測量裝置和方法

有效

• 申請號: 202011344390.6
• 申請日: 2020-11-25
• 公開（公告）號: CN112629571B
• 公開（公告）日: 2021-10-29
• 發明（設計）人: 黃騰超;王先帆;車雙良;舒曉武
• 申請（專利權）人: 浙江大學
• 主分類號: G01D5/353
• 分類號: G01D5/353;G01B11/26;G01B11/02
• 代理公司: 杭州求是專利事務所有限公司 33200
• 代理人: 林松海

1.一種電光調制激光干涉線位移及角位移測量裝置，其特征在于，所述測量裝置包括單頻He-Ne激光器（1）、二分之一波片（2）、第一分束立方體（3）、電光相位調制器（4）、第二分束立方體（5）、參考角錐反射鏡（6）、第三分束立方體（7）、第四分束立方體（8）、第一光電探測器（9）、第一偏振分束立方體（10）、反射鏡（11）、第一測量角錐反射鏡（12）、第二測量角錐反射鏡（13）、第二偏振分束立方體（14）、第二光電探測器（15）和第三光電探測器（16）；所述單頻He-Ne激光器（1）發出的光束為豎直方向線偏振光，經過旋轉角度22.5度的二分之一波片（2），線偏振光由豎直方向變為與豎直方向成45度，在第一分束立方體（3）分光作用下，50%的激光反射進入電光相位調制器（4），調制后激光透射過第二分束立方體（5），被參考角錐反射鏡（6）反射，反射激光透射過第一分束立方體（3）至第二偏振分束立方體（14），水平方向分量的激光反射照射到第二光電探測器（15）上，而豎直方向分量的激光透射照射到第三光電探測器（16）上；由第二分束立方體（5）反射的調制后激光再由第四分束立方體（8）反射，照射在第一光電探測器（9）上；由第一分束立方體（3）透射的50%的激光在第三分束立方體（7）作用下，其中50%的激光反射透過到第四分束立方體（8），然后照射在第一光電探測器（9）上；經第三分束立方體（7）透射過的45度線偏振光照射在第一偏振分束立方體（10）上，水平方向的線偏振光分量透射然后照射到第一測量角錐反射鏡（12）上，反射光相繼經過第一偏振分束立方體（10）的透射，第一分束立方體（3）的反射，第二偏振分束立方體（14）的透射，最后照射到第三光電探測器（16）；在第一偏振分束立方體（10）作用下，豎直方向的線偏振光分量由第一偏振分束立方體（10）和反射鏡（11）的反射，照射到第二測量角錐反射鏡（13）上，反射光相繼經過反射鏡（11）的反射，第一偏振分束立方體（10）的反射，第一分束立方體（3）的反射和第二偏振分束立方體（14）的反射，最終照射到第二光電探測器（15）上。

2.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述第一光電探測器（9）所測信號為參考激光干涉信號，參與干涉的兩束激光分別經過第二分束立方體（5）和第三分束立方體（7）反射，然后在第四分束立方體（8）匯合干涉；所述第二光電探測器（15）所測信號為測量激光干涉信號，參與干涉的兩束激光分別經過參考角錐反射鏡（6）反射和第一測量角錐反射鏡（12）反射，然后在第二偏振分束立方體（14）的反射面匯合干涉；所述第三光電探測器（16）所測信號為測量激光干涉信號，參與干涉的兩束激光分別經過參考角錐反射鏡（6）反射和第一測量角錐反射鏡（12）反射，然后透射過第二偏振分束立方體（14）匯合干涉。

3.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述電光相位調制器（4）繞其通光軸旋轉45度，使得電光相位調制器的晶體主軸與激光偏振方向一致。