[發(fā)明專利]一種具有納米復(fù)合結(jié)構(gòu)的光學(xué)防偽標(biāo)識(shí)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011332570.2
• 申請日: 2020-11-24
• 公開（公告）號: CN112590419A
• 公開（公告）日: 2021-04-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 潘安練;李梓維;黃明
• 申請（專利權(quán)）人: 湖南大學(xué)
• 主分類號: B42D25/328
• 分類號: B42D25/328;B42D25/405;B42D25/41
• 代理公司: 長沙市和協(xié)專利代理事務(wù)所(普通合伙) 43115
• 代理人: 熊曉妹

1.一種具有納米復(fù)合結(jié)構(gòu)的光學(xué)防偽標(biāo)識(shí)，其特征在于，采用如下方法制得，步驟一：制備納米復(fù)合結(jié)構(gòu)，所述納米復(fù)合結(jié)構(gòu)包括襯底以及襯底上方的金納米結(jié)構(gòu)層，襯底包括單晶硅片或金屬氧化物制成，步驟二：納米復(fù)合結(jié)構(gòu)陣列組合成任意圖形；步驟三：利用白光照射所述圖形，對光進(jìn)行明場與暗場區(qū)分，從而顯示出不同的明暗場圖案而實(shí)現(xiàn)光學(xué)防偽。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有納米復(fù)合結(jié)構(gòu)的光學(xué)防偽標(biāo)識(shí)，其特征在于，所述金納米結(jié)構(gòu)層為螺旋結(jié)構(gòu)或圓柱的立體結(jié)構(gòu)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的具有納米復(fù)合結(jié)構(gòu)的光學(xué)防偽標(biāo)識(shí)，其特征在于，所述螺旋結(jié)構(gòu)是單匝的阿基米德螺旋光柵結(jié)構(gòu)，且分為順時(shí)針或逆時(shí)針兩種，螺旋層的螺旋起始半徑為100nm，光柵寬度為100nm，光柵間距為200nm，硅片為100或111晶向單面拋光本征單晶硅片；圖形根據(jù)多個(gè)順時(shí)針螺旋單元和逆時(shí)針螺旋單元根據(jù)預(yù)先的設(shè)計(jì)組成，相鄰螺旋單元之間的間距為1000nm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有納米復(fù)合結(jié)構(gòu)的光學(xué)防偽標(biāo)識(shí)，其特征在于，所述金屬氧化物為氧化鋁、氧化鎂、氧化鈣或氧化鉀中的一種。

5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的具有納米復(fù)合結(jié)構(gòu)的光學(xué)防偽標(biāo)識(shí)，其特征在于，所述納米復(fù)合結(jié)構(gòu)通過以下方法制得，首先選取硅片或金屬氧化物作為襯底，利用電子束曝光系統(tǒng)將設(shè)計(jì)優(yōu)化的納米復(fù)合結(jié)構(gòu)，通過納米圖案生成軟件，曝光在事先準(zhǔn)備好的硅片上制得。