[發(fā)明專利]一種汞污染土壤的淋洗系統(tǒng)及工藝在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011307657.4 | 申請(qǐng)日： | 2020-11-20 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN112718837A | 公開(kāi)（公告）日： | 2021-04-30 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 諸毅;張汝壯;方興斌;徐子茜;李影輝;姚振楠;李明;孫爽 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 上海環(huán)境綠色生態(tài)修復(fù)科技有限公司 |
| 主分類號(hào)： | B09C1/02 | 分類號(hào)： | B09C1/02;B09C1/08 |
| 代理公司： | 上海申浩律師事務(wù)所 31280 | 代理人： | 龔敏 |
| 地址： | 200232 上海市*** | 國(guó)省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 污染 土壤 淋洗 系統(tǒng) 工藝 | ||
1.一種汞污染土壤的淋洗系統(tǒng)，其特征在于，包括通過(guò)管道依次連接的加熱氧化池、機(jī)械篩分設(shè)備、淋洗攪拌池、一級(jí)濃密池、清水淋洗攪拌池、二級(jí)濃密池、板框壓濾機(jī)，所述管道用于單向運(yùn)輸泥土；
所述加熱氧化池外環(huán)設(shè)導(dǎo)熱循環(huán)溝，所述導(dǎo)熱循環(huán)溝中設(shè)熱源，所述熱源為導(dǎo)熱循環(huán)溝中的導(dǎo)熱介質(zhì)提供循環(huán)動(dòng)力和加熱；
所述一級(jí)濃密池分別設(shè)下、上層清液出水口并分別連通至混凝沉淀池與所述淋洗攪拌池；所述二級(jí)濃密池和所述板框壓濾機(jī)的出水口連通至所述混凝沉淀池。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的淋洗系統(tǒng)，其特征在于，所述導(dǎo)熱循環(huán)溝中排布加熱管，所述加熱管內(nèi)流通所述導(dǎo)熱介質(zhì)，所述導(dǎo)熱介質(zhì)為高溫導(dǎo)熱油；所述加熱管還排布至所述加熱氧化池內(nèi)，所述加熱氧化池內(nèi)的加熱管外設(shè)土壤攪拌器。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的淋洗系統(tǒng)，其特征在于，所述機(jī)械篩分設(shè)備為滾筒篩分機(jī)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的淋洗系統(tǒng)，其特征在于，所述淋洗攪拌池與所述一級(jí)濃密池、二級(jí)濃密池分別為密封狀態(tài)。
5.一種汞污染土壤的淋洗工藝，其特征在于，采用權(quán)利要求1至4任一所述的淋洗系統(tǒng)，其淋洗工藝為：
第一步：將汞污染土臨時(shí)儲(chǔ)存在加熱氧化池中，并投加氧化劑以進(jìn)行氧化和加熱預(yù)處理；
第二步：在機(jī)械篩分設(shè)備中對(duì)氧化和加熱預(yù)處理后的泥土進(jìn)行篩分，將設(shè)定粒徑以下的小顆粒運(yùn)輸至淋洗攪拌池；
第三步：在所述淋洗攪拌池中對(duì)分離出的土壤進(jìn)行化學(xué)淋洗，充分反應(yīng)，隨后將形成的泥漿運(yùn)輸進(jìn)一級(jí)濃密池進(jìn)行分離；
第四步：在所述一級(jí)濃密池中固液分離后的下層泥漿運(yùn)輸至清水淋洗攪拌池淋洗、上清液頂層部分回用至所述淋洗攪拌池、上清液下層部分抽提進(jìn)入混凝沉淀池；
第五步：將所述清水淋洗攪拌池中清水淋洗后的泥漿導(dǎo)入二級(jí)濃密池，所述二級(jí)濃密池中的上層清液運(yùn)輸至所述混凝沉淀池，下層泥漿輸出至板框壓濾機(jī)進(jìn)行脫水；
第六步：所述板框壓濾機(jī)壓濾后的濾液運(yùn)輸至所述混凝沉淀池；所述板框壓濾機(jī)壓濾后的固態(tài)壓實(shí)體為修復(fù)后的土壤，填放至目標(biāo)位置進(jìn)行養(yǎng)護(hù)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的淋洗工藝，其特征在于，土壤修復(fù)完成后，在所述混凝沉淀池內(nèi)投加氧化劑，并對(duì)所述混凝沉淀池加蓋密封，等待反應(yīng)完成；所述混凝沉淀池中的沉淀物在反應(yīng)完成并經(jīng)脫水后作為危廢處理。
7.根據(jù)權(quán)利要求5或6任一所述的淋洗工藝，其特征在于，所述氧化劑為硫酸鈉配檸檬酸溶液，所述氧化劑的硫酸鈉濃度范圍在1％～4％，所述氧化劑的檸檬酸濃度范圍在0.1～0.5mol/L；所述加熱氧化池中的氧化停留時(shí)間為15～30分鐘。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的淋洗工藝，其特征在于，所述淋洗攪拌池投入的淋洗劑為半胱氨酸溶液。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的淋洗工藝，其特征在于，所述淋洗劑的半胱氨酸濃度范圍在0.01～0.1mol/L；所述淋洗攪拌池中的淋洗攪拌停留時(shí)間為2～3小時(shí)。
10.根據(jù)權(quán)利要求5所述的淋洗工藝，其特征在于，所述一級(jí)濃密池與所述淋洗攪拌池的容積比1:2～5。
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