[發明專利]一種防反應物殘留的濕法脫硫塔除霧器

在審

• 申請號: 202011301608.X
• 申請日: 2020-11-19
• 公開（公告）號: CN112426806A
• 公開（公告）日: 2021-03-02
• 發明（設計）人: 陳中海;葛棟
• 申請（專利權）人: 江蘇綠都環境工程有限公司
• 主分類號: B01D45/08
• 分類號: B01D45/08;B01D45/04
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種防反應物殘留的濕法脫硫塔除霧器，包括第一板片（1）、第二板片（6）、及安裝于第一板片（1）和第二板片（6）之間的波形葉片（5），所述波形葉片（5）至少設置有兩個，且兩個波形葉片（5）的頂部和底部均通過卡接機構卡接有至少一個卡條（2），其特征在于：還包括將波形葉片（5）與第一板片（1）和第二板片（6）安裝的連接機構以及拼接機構，所述連接機構包括插接組件和緊固組件，其中：

所述插接組件包括等距離安裝于波形葉片（5）兩端的插接塊（3），所述第一板片（1）和第二板片（6）相向的一側均開設有插接槽（13），且插接槽（13）與插接塊（3）相匹配；

所述緊固組件包括鎖緊機構和導向機構，其中，所述鎖緊機構包括：

開設于插接塊（3）的內部的內腔（23），所述內腔（23）的內部固定有復位彈簧（16），且復位彈簧（16）的兩端均連接有移動板（15），兩個所述移動板（15）相對于復位彈簧（16）的一端均安裝有卡塊（14）；

卡槽（22），所述卡槽（22）的數量與卡塊（14）的數量相一致，且兩個卡塊（14）對稱開設于插接槽（13）的內壁兩側。

2.根據權利要求1所述的一種防反應物殘留的濕法脫硫塔除霧器，其特征在于：所述拼接機構包括拼接組件以及將拼接組件限位的榫接組件，其中：

所述拼接組件包括收納槽（9）和拼接槽（7），所述收納槽（9）共設有四個，且四個收納槽（9）呈矩形陣列開設于第二板片（6）的前表面，四個所述收納槽（9）的內部均設置有拼接塊（10），四個所述拼接塊（10）的一端均安裝有阻尼轉軸（12），且四個拼接塊（10）與收納槽（9）之間均通過阻尼轉軸（12）轉動連接，所述拼接槽（7）的數量與拼接塊（10）的數量相一致，且四個拼接槽（7）與四個拼接塊（10）一一對應。

3.根據權利要求2所述的一種防反應物殘留的濕法脫硫塔除霧器，其特征在于：將所述拼接組件限位的榫接組件包括榫接塊（8）和榫接槽（18），其中，所述榫接塊（8）共設置有四個，且四個榫接塊（8）分別安裝于四個拼接槽（7）的內部中間，所述榫接槽（18）的數量與榫接塊（8）的數量相一致，且四個榫接槽（18）分別開設于四個拼接塊（10）的一端，四個所述榫接槽（18）與四個拼接塊（10）一一對應。

4.根據權利要求1所述的一種防反應物殘留的濕法脫硫塔除霧器，其特征在于：所述導向機構包括導向組件和聯動組件，其中：

所述導向組件包括導向塊（25）和導向槽（24），所述導向塊（25）共設置有四個，且四個導向塊（25）分別安裝于兩個移動板（15）的兩端，所述導向槽（24）的數量與導向塊（25）的數量相一致，且四個導向槽（24）分別開設于內腔（23）的內壁兩側，四個所述導向槽（24）與四個導向塊（25）一一對應。

5.根據權利要求4所述的一種防反應物殘留的濕法脫硫塔除霧器，其特征在于：所述聯動組件包括伸縮桿（17），所述伸縮桿（17）由內桿和外桿組成，且內桿和外桿的端部分別與兩個移動板（15）的端部相連接，所述復位彈簧（16）套設于伸縮桿（17）的外部。

6.根據權利要求1所述的一種防反應物殘留的濕法脫硫塔除霧器，其特征在于：所述卡條（2）與波形葉片（5）卡接的卡接機構包括卡接組件和限位組件，其中：

所述卡接組件包括卡接部（21）和卡接槽（19），所述卡接部（21）共設有兩個，且兩個卡接部（21）分別一體成型于波形葉片（5）的兩端，所述卡接槽（19）的數量與卡接部（21）的數量相一致，且兩個卡接槽（19）分別開設于卡條（2）的內部。

7.根據權利要求6所述的一種防反應物殘留的濕法脫硫塔除霧器，其特征在于：所述限位組件包括：

限位條（4），所述限位條（4）共設置有四個，且四個限位條（4）分別對稱安裝于兩個卡接部（21）的兩側；

限位槽（20），所述限位槽（20）的數量與限位條（4）的數量相一致，且四個限位槽（20）分別對稱開設于兩個卡接槽（19）的內壁兩側，四個所述限位槽（20）與四個限位條（4）一一對應。