[發明專利]一種耐磨自清潔超雙疏涂層及制備方法

有效

• 申請號: 202011293068.5
• 申請日: 2020-11-18
• 公開（公告）號: CN112375244B
• 公開（公告）日: 2022-02-11
• 發明（設計）人: 康翼鴻;喻學鋒;吳列;程文杰;楊新耕
• 申請（專利權）人: 武漢中科先進技術研究院有限公司
• 主分類號: C08J7/046
• 分類號: C08J7/046;C08J7/04;C08J7/06;C08L25/06;C08L67/02;C08L69/00;C08L23/12;C08L33/12;C23C14/35;C23C14/20;C25D11/02;C03C17/38
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1.一種耐磨自清潔超雙疏涂層的制備方法，其特征在于，所述耐磨自清潔超雙疏涂層在透明基材上構造凹槽型微結構繼而在其上生長納米結構，再進行低表面能修飾制備得到，包括如下步驟：

1）將聚苯乙烯微球通過提拉鍍膜的方式鍍在透明基材上；

2）再通過磁控濺射鍍一層金屬膜，金屬為鋁、鈦、鋅膜中的一種或多種；

3）通過水浴超聲去除聚苯乙烯微球，得到具有凹槽微結構的金屬膜；

4）通過陽極氧化的方法在步驟3）的金屬膜上生長一層金屬氧化物；

5）在步驟4）的金屬氧化物結構上生長納米粒子；

6）進行低表面能的修飾，最后得到附在透明基材上的涂層。

2.一種如權利要求1所述制備方法制備得到的耐磨自清潔超雙疏涂層。

3.根據權利要求1所述的耐磨自清潔超雙疏涂層的制備方法，其特征在于，所述步驟1）中的透明基材提前做金屬鍍膜處理，金屬為鋁、鈦、鋅膜中的一種或多種。

4.根據權利要求1所述的耐磨自清潔超雙疏涂層的制備方法，其特征在于，所述透明基材為玻璃、聚苯乙烯、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚丙烯或聚甲基丙烯酸甲酯。

5.根據權利要求4所述的耐磨自清潔超雙疏涂層的制備方法，其特征在于，所述涂層厚度為50-150nm；涂層透明性在90%-95%。

6.根據權利要求4所述的耐磨自清潔超雙疏涂層的制備方法，其特征在于，所述步驟1）采用提拉鍍膜機，將透明基材垂直浸入聚苯乙烯乳液中浸漬15-30min；再以250-1000μm/s的速度將透明基材從鍍膜溶液中垂直提拉出來。

7.根據權利要求4所述的耐磨自清潔超雙疏涂層的制備方法，其特征在于，所述步驟2）中磁控濺射鍍膜利用直流磁控濺射方法，采用不同金屬靶材，在室溫下，工作氣壓范圍為0.5～2.0 Pa條件下，得到表面附有鋁、鈦、鋅膜的基材。

8.根據權利要求4所述的耐磨自清潔超雙疏涂層的制備方法，其特征在于，所述步驟3）中水浴超聲功率為70-100W，超聲時間為20-30min；所述步驟4）中陽極氧化的條件為10-20V，3-5A，反應時間為4-8h。

9.根據權利要求4所述的耐磨自清潔超雙疏涂層的制備方法，其特征在于，所述納米粒子為氧化鋅納米棒、氧化鋅納米顆粒、二氧化鈦納米顆粒或二氧化硅納米顆粒。

10.根據權利要求4所述的耐磨自清潔超雙疏涂層的制備方法，其特征在于，所述低表面能的修飾為氟烷修飾，采用的試劑為全氟辛基三氯硅烷、全氟癸基三氯硅烷、全氟辛基三乙氧基硅烷、全氟癸基三乙氧基硅烷中的一種或多種。