[發明專利]一種釹鐵硼磁鐵用真空鍍膜設備

在審

• 申請號: 202011292883.X
• 申請日: 2020-11-18
• 公開（公告）號: CN112281117A
• 公開（公告）日: 2021-01-29
• 發明（設計）人: 黃陽鑫
• 申請（專利權）人: 合肥春池工業設計有限公司
• 主分類號: C23C14/16
• 分類號: C23C14/16;C23C14/26
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明涉及材料加工技術領域，具體為一種釹鐵硼磁鐵用真空鍍膜設備，包括底座，底座的上方通過螺鈕固定安裝有罐體，且罐體的右側鉸接安裝有罐蓋，罐蓋的前端通過緊固螺鈕與罐體固定安裝。有益效果為：本發明設計的釹鐵硼磁鐵用真空鍍膜設備使用操作方便，能夠通過驅動電機來驅動這些釹鐵硼磁鐵在放置籠內進行旋轉，從而有效的使每個磁鐵的外表面都能夠被完整的鍍膜，同時每個釹鐵硼磁鐵都可以通過單獨的放置腔來放置從而有效的避免了磁鐵之間的相互吸附和碰撞影響加工的效果，而且通過可快速分離更換的轉動架來放置釹鐵硼磁鐵也能夠有效的實現在加工過程中完成部分上料操作，從而節省換料的時間，提高加工的效率。

技術領域

本發明涉及材料加工技術領域，具體為一種釹鐵硼磁鐵用真空鍍膜設備。

背景技術

釹鐵硼磁鐵是一種常見的磁鐵，在生產時為了能夠延長磁鐵的使用壽命，需要在磁鐵的表面進行真空鍍膜，現有的真空鍍膜設備中，由于缺乏合適的對釹鐵硼磁鐵的翻轉機構，容易使得釹鐵硼磁鐵在加工過程中由于相互吸附或者與設備中的其他部位貼合出現局部區域無法完成鍍膜加工，而部分提供翻轉機構的鍍膜設備也容易由于磁鐵之間缺乏隔離保護造成磁鐵之間碰撞而產生損傷。

如果發明一種能夠有效的保障對磁鐵表面的鍍膜完整性并且能夠提高鍍膜效率避免磁鐵之間碰撞的新型真空鍍膜設備就能夠有效的解決此類問題，為此我們提供了一種釹鐵硼磁鐵用真空鍍膜設備。

發明內容

本發明的目的在于提供一種釹鐵硼磁鐵用真空鍍膜設備，以解決上述背景技術中提出的問題。

為實現上述目的，本發明提供如下技術方案：一種釹鐵硼磁鐵用真空鍍膜設備，包括底座，所述底座的上方通過螺鈕固定安裝有罐體，且罐體的右側鉸接安裝有罐蓋，所述罐蓋的前端通過緊固螺鈕與罐體固定安裝；

所述罐體內通過螺鈕固定安裝有驅動電機，且驅動電機的輸出端驅動有轉軸，所述轉軸上滑動安裝有轉動架，且轉動架與轉軸之間通過緊固連接螺鈕固定安裝，所述轉動架上呈圓周陣列設置有至少一對放置籠，且放置籠包括通過限位固定螺鈕與轉動架固定的籠體；

所述籠體上鉸接安裝有籠蓋，且籠蓋的前端通過閉合固定螺鈕與籠體固定，所述籠體上和籠蓋上均設置有網孔，且每個所述籠體內通過隔板分隔有至少兩個用于放置釹鐵硼磁鐵的放置腔；

所述罐體的下方設置有料桶，且料桶上通過螺鈕固定安裝有與料桶的內腔連通的送料泵，所述罐體的下方一體成型有蒸發座，且蒸發座與送料泵的輸出端連通，所述蒸發座的上方固定安裝有導熱均溫板，且蒸發座的下方通過螺鈕固定安裝有用于對安裝在蒸發座上的導熱均溫板加熱的加熱器；

所述底座的后方設置有支撐座，且支撐座上通過螺鈕固定安裝有廢氣回收罐和真空泵，所述真空泵的輸出端連通廢氣回收罐，且真空泵的輸入端連通罐體，所述罐體的前端通過螺鈕固定安裝有控制器，且控制器通過導線分別與送料泵、真空泵、加熱器和驅動電機電性連接。

優選的，所述轉軸上一體成型有呈圓周陣列設置的至少三個限位凸起，且轉動架上開設有與限位凸起滑動配合的滑槽。

優選的，所述控制器為S7-200型PLC裝置，所述加熱器為電加熱器。

優選的，所述底座的后方設置有保護氣罐，且保護氣罐上通過螺鈕固定安裝有與保護氣罐連通的供氣泵，所述供氣泵的輸出端通過供氣管與罐體的內腔連通，且供氣泵通過導線與控制器電性連接。

優選的，所述罐蓋上通過螺鈕固定安裝有拉手，且籠蓋上一體成型有拉柄。

優選的，所述罐體的前端設置有觀察窗，且觀察窗上設置有透明隔離板。