[發明專利]一種四葉草形天線的石墨烯光電探測器及制備方法在審
| 申請號: | 202011292424.1 | 申請日: | 2020-11-18 |
| 公開(公告)號: | CN112331736A | 公開(公告)日: | 2021-02-05 |
| 發明(設計)人: | 王林;侯時聰;郭萬龍;陳效雙;陸衛 | 申請(專利權)人: | 中國科學院上海技術物理研究所 |
| 主分類號: | H01L31/101 | 分類號: | H01L31/101;H01L31/0352;H01L31/028;H01L31/18 |
| 代理公司: | 上海滬慧律師事務所 31311 | 代理人: | 郭英 |
| 地址: | 200083 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 四葉草形 天線 石墨 光電 探測器 制備 方法 | ||
1.一種四葉草形天線的石墨烯光電探測器,其特征在于:
所述的探測器的結構為:在Si襯底(1)上是SiO2氧化層(2),在SiO2氧化層(2)上有單層石墨烯(3),源電極(4)和漏電極(5)位于單層石墨烯(3)兩端,氧化鋁薄膜(6)覆蓋在單層石墨烯(3)、源電極(4)和漏電極(5)上,并且保證每個電極有部分裸露在外,在氧化鋁薄膜(6)上有柵電極(7),所述的柵電極(7)位于源電極(4)和漏電極(5)的之間,柵電極(7)和源電極(4)構成了四葉草形天線結構;
所述Si襯底(1)是高阻硅,電阻率大于10000Ω·cm;
所述的單層石墨烯(3)長度是6μm到10μm,寬度是4μm。
2.一種制備如權利要求1所述的光電探測器的方法,其特征在于方法如下:
采用化學氣相沉積方法在銅箔上生長制備單層石墨烯;將化學氣相沉積生長的單層石墨烯轉移到有SiO2氧化層的Si襯底上,利用紫外光刻技術、熱蒸鍍、氧刻、原子層沉積、剝離和濕法腐蝕等步驟制作源、漏和頂柵電極,形成頂柵石墨烯場效應晶體管器件;將頂柵器件與做好的底座點焊連接起來,制備成具有四葉草形天線結構的單層石墨烯光電探測器。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





