[發(fā)明專利]一種共面帶狀線行波電極及硅基馬赫曾德爾調(diào)制器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011290716.1 | 申請日: | 2020-11-17 |
| 公開(公告)號: | CN112379538B | 公開(公告)日: | 2023-05-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 徐珍珠;朱宇鵬;高旭東;曹繼明;崇毓華;梅理 | 申請(專利權(quán))人: | 中國電子科技集團(tuán)公司第三十八研究所 |
| 主分類號: | G02F1/025 | 分類號: | G02F1/025;G02F1/21 |
| 代理公司: | 合肥昊晟德專利代理事務(wù)所(普通合伙) 34153 | 代理人: | 王瑞 |
| 地址: | 230000 安徽省合*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 帶狀線 行波 電極 馬赫 曾德爾 調(diào)制器 | ||
1.一種共面帶狀線行波電極,其特征在于,具有共面波導(dǎo)-共面帶狀線的寬帶過渡結(jié)構(gòu),所述共面帶狀線行波電極包括第一接地線、信號線、第二接地線;
所述第一接地線包括第一地極接入端、第一過渡段、第一行波電極段,所述第一過渡段設(shè)置在所述第一地極接入端與所述第一行波電極段之間;所述第一接地線位于硅基馬赫曾德爾調(diào)制器的第一調(diào)制臂外側(cè)上方,末端與第一端接電阻相連;
所述信號線包括信號接入端、第二過渡段、第二行波電極段,所述第二過渡段設(shè)置在所述信號接入端與所述第二行波電極段之間的;所述信號線位于硅基馬赫曾德爾調(diào)制器的第二調(diào)制臂外側(cè)上方,末端與第二端接電阻相連;
所述第二接地線包括第二地極接入端、場耗散過渡段;
所述第一地極接入端、所述信號接入端、所述第二地極接入端、所述第一過渡段、所述第二過渡段、所述場耗散過渡段構(gòu)成共面波導(dǎo)-共面帶狀線的過渡結(jié)構(gòu);所述第一地極接入端、所述信號接入端、所述第二地極接入端構(gòu)成的共面波導(dǎo)結(jié)構(gòu)具有50Ω的特征阻抗。
2.如權(quán)利要求1所述的共面帶狀線行波電極,其特征在于,所述第一地極接入端、所述信號接入端、所述第二地極接入端、所述第一過渡段、所述第二過渡段、所述場耗散過渡段均包括第一金屬層、第二金屬層和第一通孔,所述第一金屬層通過所述第一通孔與所述第二金屬層相連。
3.如權(quán)利要求2所述的共面帶狀線行波電極,其特征在于,所述第一行波電極段、所述第二行波電極段均包括所述第一金屬層、所述第二金屬層、所述第一通孔、第二通孔,所述第一金屬層通過所述第一通孔與所述第二金屬層相連,所述第二金屬層通過所述第二通孔與所述第一調(diào)制臂或所述第二調(diào)制臂的p++摻雜區(qū)相連。
4.如權(quán)利要求3所述的共面帶狀線行波電極,其特征在于,所述第一行波電極段、所述第二行波電極段與對應(yīng)的所述p++摻雜區(qū)等長。
5.如權(quán)利要求3所述的共面帶狀線行波電極,其特征在于,所述第一金屬層、所述第二金屬層的材料為Cu,所述第一通孔的材料為Cu,所述第二通孔的材料為W。
6.如權(quán)利要求3所述的共面帶狀線行波電極,其特征在于,所述第一過渡段、所述第二過渡段、所述場耗散過渡段采用錐形結(jié)構(gòu)。
7.一種硅基馬赫曾德爾調(diào)制器,其特征在于,包括:
光分束器,用于將光信號分成兩路,分別進(jìn)入第一調(diào)制臂和第二調(diào)制臂;
光合束器,用于將所述第一調(diào)制臂和所述第二調(diào)制臂中的光信號合成一路;
移相器,用于調(diào)節(jié)調(diào)制器的工作偏置點;
如權(quán)利要求3-6中任一項所述的共面帶狀線行波電極。
8.如權(quán)利要求7所述的硅基馬赫曾德爾調(diào)制器,其特征在于,所述光分束器和所述光合束器均采用基于條形波導(dǎo)的多模干涉器結(jié)構(gòu),所述第一調(diào)制臂和所述第二調(diào)制臂均采用脊形波導(dǎo)結(jié)構(gòu),所述條形波導(dǎo)與所述脊形波導(dǎo)之間采用錐形平板過渡區(qū)連接。
9.如權(quán)利要求8所述的硅基馬赫曾德爾調(diào)制器,其特征在于,在所述脊形波導(dǎo)內(nèi)均設(shè)置有P++摻雜區(qū)、P摻雜區(qū)、N摻雜區(qū)、N++摻雜區(qū),所述P摻雜區(qū)和所述N摻雜區(qū)在脊區(qū)形成PN結(jié)電學(xué)結(jié)構(gòu);所述第一調(diào)制臂和所述第二調(diào)制臂形成的兩PN結(jié)反向串聯(lián),共用同一所述N++摻雜區(qū),所述第一調(diào)制臂和所述第二調(diào)制臂形成P++PNN++NPP++的摻雜結(jié)構(gòu);一所述P++區(qū)連接所述第一接地線,另一所述P++區(qū)連接所述信號線,所述N++區(qū)通過直流線導(dǎo)線連接直流偏置電壓。
10.如權(quán)利要求9所述的硅基馬赫曾德爾調(diào)制器,其特征在于,位于所述第一調(diào)制臂和所述第二調(diào)制臂的中間上方設(shè)置所述直流線導(dǎo)線,所述直流線導(dǎo)線包括所述第二金屬層和所述第二通孔,所述第二金屬層經(jīng)所述第二通孔與所述N++摻雜區(qū)相連。
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G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
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