[發(fā)明專利]一種碳化硅襯底位錯自動識別方法及系統(tǒng)

有效

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• 申請日: 2020-11-16
• 公開（公告）號: CN112329687B
• 公開（公告）日: 2022-10-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張九陽;舒天宇;許曉林;李霞;趙樹春;高超
• 申請（專利權(quán)）人: 山東天岳先進科技股份有限公司
• 主分類號: G06V20/69
• 分類號: G06V20/69;G06V10/764;G06V10/774;G06V10/82;G06N3/08
• 代理公司: 北京君慧知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) 11716
• 代理人: 劉德順

本申請公開了一種碳化硅襯底位錯自動識別方法及系統(tǒng)，用以解決現(xiàn)有的位錯識別方法無法進行自動拍照記錄，進而無法實現(xiàn)自動識別碳化硅襯底位錯的技術(shù)問題。方法包括：通過顯微鏡對待測碳化硅襯底進行自動掃描，并對掃描區(qū)域進行自動拍照記錄；通過計算機設(shè)備接收顯微鏡發(fā)送的與待測碳化硅襯底有關(guān)的位錯圖像，并將位錯圖像輸入至碳化硅襯底位錯識別神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型中；基于碳化硅襯底位錯識別神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型，對待測碳化硅襯底中的位錯進行識別；將碳化硅襯底位錯識別神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型輸出的位錯信息在計算機設(shè)備上進行顯示。本申請通過上述方法實現(xiàn)了對碳化硅襯底位錯掃描區(qū)域的自動拍照記錄，進而實現(xiàn)了自動識別碳化硅襯底位錯的過程。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請涉及半導體材料技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種碳化硅襯底位錯自動識別方法及系統(tǒng)。

背景技術(shù)

目前，碳化硅晶體工業(yè)生產(chǎn)多采用物理氣相傳輸(physical vapor transport,PVT)法，由于碳化硅晶體的生長條件要求較高，在生長過程中引入的缺陷限制了碳化硅晶體性能的提高和進一步的應用與發(fā)展。因此，對生長過程中碳化硅襯底的缺陷進行識別表征，就顯得尤為重要。

位錯，作為碳化硅晶體生長過程中最常見的缺陷之一?，F(xiàn)有的對碳化硅襯底位錯缺陷進行識別的方法，存在無法實現(xiàn)對掃描區(qū)域的自動記錄，進而無法實現(xiàn)自動識別碳化硅襯底位錯的問題。

發(fā)明內(nèi)容

本申請實施例提供了一種碳化硅襯底位錯自動識別方法及系統(tǒng)，用以解決現(xiàn)有的對碳化硅襯底位錯進行識別的方法，無法進行自動拍照記錄，進而無法實現(xiàn)自動識別的技術(shù)問題。

一方面，本申請實施例提供了一種碳化硅襯底位錯自動識別方法，包括：通過顯微鏡對待測碳化硅襯底進行自動掃描，并對掃描區(qū)域進行自動拍照記錄；通過計算機設(shè)備接收顯微鏡發(fā)送的與待測碳化硅襯底有關(guān)的位錯圖像，并將位錯圖像輸入至碳化硅襯底位錯識別神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型中；基于碳化硅襯底位錯識別神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型，對待測碳化硅襯底中的位錯進行識別；將碳化硅襯底位錯識別神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型輸出的位錯信息在計算機設(shè)備上進行顯示。

本申請實施例提供的一種碳化硅襯底位錯自動識別方法，通過顯微鏡對待測碳化硅襯底進行自動掃描，配合顯微鏡自帶的定頻拍照功能，實現(xiàn)了對待測碳化硅襯底掃描區(qū)域的自動拍照記錄功能。通過計算機設(shè)備上的碳化硅襯底位錯識別神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型對顯微鏡拍攝的位錯圖像進行識別，避免了檢測人員的參與，實現(xiàn)了碳化硅襯底位錯識別過程的自動進行。

在本申請的一種實現(xiàn)方式中，在顯微鏡對待測碳化硅襯底進行自動掃描之前，方法還包括：確定待檢測碳化硅襯底；將待檢測碳化硅襯底通過熔融熱堿液進行腐蝕，得到待測碳化硅襯底；其中，待測碳化硅襯底上包括若干碳化硅襯底位錯腐蝕坑。

本申請實施例中將待檢測碳化硅襯底通過熔融熱堿液進行腐蝕，以使其包含的位錯缺陷以腐蝕坑的形式顯示出來。不同的位錯類型對應不同的腐蝕坑形狀，因此，將位錯通過腐蝕坑的形式進行檢測，便于后期識別位錯類型，保證了本申請實施例提供的識別方法的便利性及可行性。

在本申請的一種實現(xiàn)方式中，通過顯微鏡對待測碳化硅襯底進行自動掃描，并對掃描區(qū)域進行自動拍照記錄，具體包括：通過顯微鏡載物臺移動輔助裝置，使顯微鏡載物臺帶動待測碳化硅襯底以第一預設(shè)頻率進行定頻移動；其中，顯微鏡載物臺移動輔助裝置主要包括第一連接件、第二連接件、轉(zhuǎn)角減速機、驅(qū)動電機以及觸摸顯示屏；通過顯微鏡對待測碳化硅襯底以第二預設(shè)頻率進行定頻拍照；其中，第一預設(shè)頻率與第二預設(shè)頻率相等。

在本申請的一種實現(xiàn)方式中，第一連接件的一端包括限位部，用于與顯微鏡載物臺的旋鈕配合；第一連接件的另一端包括插接部，用于與第二連接件配合；限位部包括限位孔及限位槽；限位槽設(shè)置于限位部的內(nèi)表面，用于在插接方向?qū)︼@微鏡載物臺的旋鈕進行限位；限位孔設(shè)置于限位部的外表面，用于在插接方向的垂直方向?qū)︼@微鏡載物臺的旋鈕進行限位；插接部包括限位柱；限位柱設(shè)置于插接部的外表面，用于與第二連接件配合。