[發(fā)明專利]一種污水分級(jí)清理環(huán)保設(shè)備

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011279579.1
• 申請(qǐng)日: 2020-11-16
• 公開（公告）號(hào): CN112358007A
• 公開（公告）日: 2021-02-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 周訓(xùn)倫
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 泉州市森利電子設(shè)備有限公司
• 主分類號(hào): C02F1/40
• 分類號(hào): C02F1/40
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種污水分級(jí)清理環(huán)保設(shè)備，其結(jié)構(gòu)包括過濾倉(1)、電機(jī)(2)、傳導(dǎo)管(3)、水箱(4)，所述過濾倉(1)右側(cè)端面嵌固安裝著電機(jī)(2)，所述電機(jī)(2)位于水箱(4)的正下方，所述傳導(dǎo)管(3)鑲嵌卡合安裝在過濾倉(1)的外側(cè)端面，所述水箱(4)通過焊接安裝在過濾倉(1)的外側(cè)上端面；其特征在于：

所述過濾倉(1)包括排泄機(jī)構(gòu)(11)、流動(dòng)管(12)、弧狀槽(13)、收集機(jī)構(gòu)(14)，所述排泄機(jī)構(gòu)(11)鑲嵌卡合于流動(dòng)管(12)的內(nèi)側(cè)端面，所述流動(dòng)管(12)活塞安裝在收集機(jī)構(gòu)(14)的左側(cè)方，所述弧狀槽(13)嵌固安裝在收集機(jī)構(gòu)(14)正下方，所述收集機(jī)構(gòu)(14)鑲嵌設(shè)于流動(dòng)管(12)的右側(cè)方。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種污水分級(jí)清理環(huán)保設(shè)備，所述排泄機(jī)構(gòu)(11)包括嵌固條(111)、彈簧(112)、活動(dòng)機(jī)構(gòu)(113)、鑲嵌塊(114)，所述嵌固條(111)左右兩側(cè)端面鑲嵌卡合連接著彈簧(112)，所述彈簧(112)嵌固連接在活動(dòng)機(jī)構(gòu)(113)的外側(cè)端面，所述活動(dòng)機(jī)構(gòu)(113)上端左右兩側(cè)鑲嵌卡合著鑲嵌塊(114)，所述鑲嵌塊(114)位于彈簧(112)的正上方。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種污水分級(jí)清理環(huán)保設(shè)備，所述活動(dòng)機(jī)構(gòu)(113)包括滑槽(131)、嵌固塊(132)、攔截塊(133)、流動(dòng)口(134)，所述滑槽(131)對(duì)稱鑲嵌于攔截塊(133)的上下兩端，所述嵌固塊(132)外側(cè)端面通過焊接連接著彈簧(112)，所述攔截塊(133)對(duì)稱安裝在流動(dòng)口(134)的左右兩側(cè)，所述流動(dòng)口(134)鑲嵌設(shè)于活動(dòng)機(jī)構(gòu)(113)的內(nèi)側(cè)端面。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種污水分級(jí)清理環(huán)保設(shè)備，所述攔截塊(133)包括滲漏孔(331)、第二滑軌(332)、矩形塊(333)、第二嵌固塊(334)，所述滲漏孔(331)鑲嵌設(shè)于矩形塊(333)的內(nèi)側(cè)端面，所述第二滑軌(332)對(duì)稱安裝在矩形塊(333)的下端左右兩側(cè)，所述矩形塊(333)左側(cè)上端面均勻鑲嵌卡合安裝著第二嵌固塊(334)。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種污水分級(jí)清理環(huán)保設(shè)備，所述收集機(jī)構(gòu)(14)包括傳送帶(141)、匯集槽(142)、滾軸(143)、攔截板(144)，所述傳送帶(141)鑲嵌設(shè)于收集機(jī)構(gòu)(14)的內(nèi)側(cè)端面，所述匯集槽(142)外側(cè)端面貼合包裹著傳送帶(141)，所述滾軸(143)活動(dòng)卡合安裝在收集機(jī)構(gòu)(14)的內(nèi)側(cè)端面，且外側(cè)端面與傳送帶(141)相貼合，所述攔截板(144)均勻活動(dòng)卡合安裝在傳送帶(141)的內(nèi)側(cè)端面。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種污水分級(jí)清理環(huán)保設(shè)備，所述攔截板(144)包括滾軸(441)、第二鑲嵌塊(442)、凹槽板(443)，所述滾軸(441)鑲嵌卡合安裝在凹槽板(443)的正上方，所述第二鑲嵌塊(442)均勻鑲嵌設(shè)于凹槽板(443)的左側(cè)端面。