[發明專利]一種真空磁控濺射鍍膜設備及其鍍膜方法

有效

• 申請號: 202011275208.6
• 申請日: 2020-11-16
• 公開（公告）號: CN112593193B
• 公開（公告）日: 2022-12-09
• 發明（設計）人: 王偉;張少波;樊黎虎;李剛;馬迎;鐘汝梅;周道鈞;姚婷婷
• 申請（專利權）人: 中建材玻璃新材料研究院集團有限公司;凱盛信息顯示材料（洛陽）有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/04
• 代理公司: 昆明合眾智信知識產權事務所 53113
• 代理人: 杜安杰

本發明公開了一種真空磁控濺射鍍膜設備及其鍍膜方法，包括轉筒、移動筒、活動靶組件和移動靶組件，所述移動筒靠近轉筒的一端開設有弧形開口槽，所述弧形開口槽內部活動填充有彈性層，且弧形開口槽兩端各固定設置有排斥磁鐵和吸引磁鐵，所述靶材板一一側與連接桿一間固定連接有彈性拉繩一，所述靶材板一遠離彈性拉繩一的一端與連接桿二間固定連接有彈性拉繩二，本發明在使用中，通過彈性拉繩一和彈性拉繩二，使得固定靶組件在轉動時帶動靶材板一在凹型結構中翻轉，對凹型結構的各個側面進行鍍膜處理，并通過移動筒、限位機構使得固定靶組件周期帶動靶材板一在凹型結構中正反轉，使得凹型結構中側面的鍍膜更為均勻。

技術領域

本發明涉及磁控濺射鍍膜設備技術領域，具體為一種真空磁控濺射鍍膜設備及其鍍膜方法。

背景技術

現有的真空磁控濺射鍍膜設備主要是對鍍膜件表面進行鍍膜，對管道類鍍膜件的內表面進行鍍膜的相關技術的描述較少，此外，在對不規則管道內部進行鍍膜時，易發生鍍膜不均勻等問題。

現有技術中，申請號為“201710949826.6”的一種磁控濺射鍍膜設備和磁控濺射鍍膜方法，包括產生磁場的螺線管和靶，將靶插入鍍膜件內部，實現對鍍膜件內部進行鍍膜。

但現有技術仍存在較多缺陷，如：當鍍膜件內表面存在溝壑等凹型結構時，利用上述技術無法對凹型結構的全部內表面進行鍍膜，凹型結構側面無法鍍膜，影響鍍膜質量。

發明內容

本發明的目的在于提供一種真空磁控濺射鍍膜設備及其鍍膜方法，以解決上述背景技術中提出的問題。

為實現上述目的，本發明提供如下技術方案：

一種真空磁控濺射鍍膜設備，包括：

螺線管，所述螺線管通電產生磁場；

轉筒，所述轉筒上固定設置有傳感器；

移動筒，所述移動筒與轉筒間活動連接有連桿，所述移動筒靠近轉筒的一端開設有弧形開口槽，所述弧形開口槽內部活動填充有彈性層，且弧形開口槽兩端各固定設置有排斥磁鐵和吸引磁鐵；

活動靶組件，所述活動靶組件位于轉筒和移動筒之間，所述活動靶組件包括連接桿一、伸出桿和靶材板一，所述伸出桿活動伸出連接桿一，且伸出桿伸出連接桿一的一端與靶材板一間通過轉輪活動連接，且靶材板一一側與連接桿一間固定連接有彈性拉繩一，所述靶材板一朝向鍍膜件內壁，所述連接桿一靠近連桿的一端與連桿活動連接；

所述連接桿一內部活動連接有插桿一，所述轉筒靠近連接桿一的一側開設有插孔一，且插桿一活動伸入插孔一中，所述連接桿一內設置有控制插桿一離開插孔一的運動組件，且連接桿一與伸出桿間設置有伸出組件；以及

固定靶組件，所述固定靶組件位于轉筒和移動筒之間，所述固定靶組件包括固定連接的連接桿二和靶材板二，所述靶材板一遠離彈性拉繩一的一端與連接桿二間固定連接有彈性拉繩二，所述靶材板二朝向鍍膜件內壁；

所述連接桿二內開設有通槽，所述通槽內活動設置有插桿二，所述轉筒靠近連接桿二的一側開設有插孔二，且插桿二活動伸入插孔二，所述連接桿二內設置有限制插桿二運動的限位組件，且插桿二與排斥磁鐵、吸引磁鐵相配合。

優選的，所述運動組件包括鐵塊一、電磁鐵一和電磁鐵二，且鐵塊一位于電磁鐵一和電磁鐵二之間，且電磁鐵二位于電磁鐵一和移動筒之間，所述連接桿一靠近轉筒的一側開設有空槽，且插桿一活動伸入插孔一和空槽，所述插桿一伸入空槽的一端固定連接有鐵塊一，所述空槽連接有連接槽一，且鐵塊一活動伸入連接槽一，所述電磁鐵一和電磁鐵二分別設置在連接槽一兩端。

優選的，所述伸出組件包括電機和螺紋絲桿，且螺紋絲桿安裝在電機上，所述螺紋絲桿活動伸入伸出桿中。