[發明專利]一種自潔鍍膜玻璃及鍍膜方法

在審

• 申請號: 202011272365.1
• 申請日: 2020-11-13
• 公開（公告）號: CN112358197A
• 公開（公告）日: 2021-02-12
• 發明（設計）人: 范少峰;田力;孫大海;曹宇
• 申請（專利權）人: 天津耀皮玻璃有限公司;上海耀皮玻璃集團股份有限公司
• 主分類號: C03C17/34
• 分類號: C03C17/34;C03C1/04;C03B18/02
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 鞏克棟

1.一種自潔鍍膜玻璃，其特征在于，所述鍍膜玻璃由玻璃基板和鍍膜層構成，所述玻璃基板包括著色玻璃基板，所述鍍膜層包括離子阻擋層和功能層，自玻璃基板表面向外依次為離子阻擋層和功能層。

2.根據權利要求1所述的自潔鍍膜玻璃，其特征在于，所述著色玻璃基板包括黑?；澹?/p>

優選地，所述黑玻基板的著色劑的組成包括過渡金屬氧化物和非金屬單質；

優選地，所述過渡金屬氧化物包括Fe₂O₃、CoO和NiO；

優選地，所述非金屬單質包括Se。

3.根據權利要求1或2所述的自潔鍍膜玻璃，其特征在于，所述離子阻擋層包括二氧化硅層；

優選地，所述功能層為光催化膜層；

優選地，所述光催化膜層包括二氧化鈦層；

優選地，所述鍍膜層位于玻璃基板的外表面。

4.根據權利要求1-3任一項所述的自潔鍍膜玻璃，其特征在于，所述鍍膜玻璃的厚度為2～12mm；

優選地，所述鍍膜層中離子阻擋層的厚度為20～40nm；

優選地，所述鍍膜層中功能層的厚度為10～30nm。

5.根據權利要求1-4任一項所述的自潔鍍膜玻璃的鍍膜方法，其特征在于，所述鍍膜方法包括以下步驟：

在著色玻璃基板從上游向下游移動過程中，在著色玻璃基板表面進行在線沉積鍍膜；

其中，在著色玻璃基板上方沿著色玻璃基板移動方向依次設有離子阻擋層鍍膜器和功能層鍍膜器。

6.根據權利要求5所述的鍍膜方法，其特征在于，所述在線沉積鍍膜在浮法錫槽中進行；

優選地，所述著色玻璃基板的移動速率為200～1200m/h；

優選地，所述浮法錫槽中進行在線沉積鍍膜的區域為錫槽窄端。

7.根據權利要求5或6所述的鍍膜方法，其特征在于，所述著色玻璃基板的在線沉積鍍膜采用化學氣相沉積法；

優選地，所述著色玻璃基板的在線沉積鍍膜的溫度為630～720℃；

優選地，所述離子阻擋層鍍膜器和功能層鍍膜器并排設置于浮法錫槽窄端；

優選地，所述離子阻擋層鍍膜器的數量至少為一個，優選為兩個；

優選地，所述功能層鍍膜器的數量至少為一個，優選為一個。

8.根據權利要求5-7任一項所述的鍍膜方法，其特征在于，所述離子阻擋層鍍膜器的工藝氣體包括承載氣體、氧氣、乙烯和含硅氣體；

優選地，所述承載氣體包括惰性氣體和/或氮氣；

優選地，所述含硅氣體包括硅烷。

9.根據權利要求5-8任一項所述的鍍膜方法，其特征在于，所述功能層鍍膜器的的工藝氣體分為兩部分，其中一部分的組成包括承載氣體和乙酸乙酯，另一部分的組成包括承載氣體和含鈦化合物；

優選地，所述承載氣體包括惰性氣體和/或氮氣；

優選地，所述含鈦化合物包括四氯化鈦。

10.根據權利要求5-9任一項所述的鍍膜方法，其特征在于，所述鍍膜方法包括以下步驟：

所述著色玻璃基板在浮法錫槽中從上游向下游移動過程中，在著色玻璃基板表面進行在線沉積鍍膜，所述著色玻璃基板的移動速率為200～1200m/h；所述在線沉積鍍膜采用化學氣相沉積法，在線沉積鍍膜溫度為630～720℃；

其中，在著色玻璃基板上方沿著色玻璃基板移動方向依次設有離子阻擋層鍍膜器和功能層鍍膜器，所述離子阻擋層鍍膜器和功能層鍍膜器并排設置于浮法錫槽窄端，所述離子阻擋層鍍膜器和功能層鍍膜器的數量獨立地至少為一個，所述離子阻擋層鍍膜器的工藝氣體包括承載氣體、氧氣、乙烯和含硅氣體，所述功能層鍍膜器的的工藝氣體分為兩部分，其中一部分的組成包括承載氣體和乙酸乙酯，另一部分的組成包括承載氣體和含鈦化合物。