[發(fā)明專利]一種基于面積比的剔除細小殘留物的膠粘薄膜褶皺缺陷檢測方法

在審

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• 申請日: 2020-11-11
• 公開（公告）號: CN112651923A
• 公開（公告）日: 2021-04-13
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 不公告發(fā)明人
• 申請（專利權(quán)）人: 北京平恒智能科技有限公司
• 主分類號: G06T7/00
• 分類號: G06T7/00;G06T7/13;G06T7/136;G06T7/187;G06T7/194;G06T7/62
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1.一種基于面積比的剔除細小殘留物的膠粘薄膜褶皺缺陷檢測方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟1：以紅色同軸光作為光源，獲取帶有褶皺缺陷的膠粘薄膜圖片，此圖片為單通道灰度圖；

步驟2：所述膠粘薄膜褶皺缺陷檢測方法，提取感興趣區(qū)域，包括褶皺、細小白色殘留物料、以及膠粘薄膜輪廓；

步驟3：所述膠粘薄膜褶皺缺陷檢測方法，剔除膠粘薄膜輪廓，只保留褶皺、細小白色殘留物料區(qū)域；

步驟4：所述膠粘薄膜褶皺缺陷檢測方法，提取褶皺，剔除細小白色殘留物料。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于面積比的剔除細小殘留物的膠粘薄膜褶皺缺陷檢測方法，其特征在于，所述步驟2中：

所述處理方法包括如下步驟：

步驟2.1：將帶有褶皺缺陷的膠粘薄膜圖片通過sobel算子進行邊緣提取，sobel算子可以識別像素突變的部分，即褶皺、細小白色殘留物料、以及膠粘薄膜輪廓這三部分感興趣區(qū)域；

步驟2.2：對步驟2.1所得灰度圖進行二值化，得到褶皺、細小白色殘留物料、以及膠粘薄膜輪廓這三部分的二值圖；

步驟2.3：對步驟2.2所得二值圖進行形態(tài)學(xué)開運算，使用半徑為1像素的圓形模板，剔除干擾像素點。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于面積比的剔除細小殘留物的膠粘薄膜褶皺缺陷檢測方法，其特征在于，所述步驟3中：

所述處理方法包括如下步驟：

步驟3.1：對步驟1所得帶有褶皺缺陷的膠粘薄膜灰度圖進行固定閾值分割，剔除背景區(qū)域，得到膠粘薄膜區(qū)域的二值圖；

步驟3.2：對步驟3.1所得二值圖進行形態(tài)學(xué)腐蝕運算，采用7像素半徑的圓形模板，可以腐蝕掉膠粘薄膜二值圖的邊緣部分；

步驟3.3：步驟2所得二值圖包含褶皺、細小白色殘留物料、以及膠粘薄膜輪廓這三部分，步驟3.2所得二值圖是去除了邊緣輪廓的膠粘薄膜區(qū)域，對這兩者取交集，剔除步驟2中膠粘薄膜輪廓，保留褶皺和細小白色殘留物料區(qū)域。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于面積比的剔除細小殘留物的膠粘薄膜褶皺缺陷檢測方法，其特征在于，所述步驟4中：

所述處理方法包括如下步驟：

步驟4.1：步驟3得到了褶皺和細小白色殘留物料這兩部分區(qū)域的二值圖，不可避免的，也有一些步驟2.3未剔除的其他像素區(qū)域，但是這些區(qū)域面積較小，通過面積進行剔除；

步驟4.2：對步驟4.1得到的二值圖進行形態(tài)學(xué)閉運算，使得離散的褶皺區(qū)域可以連接起來，形成面積較大的連通域；

步驟4.3：以步驟4.2所得二值區(qū)域為模板，將步驟1所得單通道灰度原圖進行域縮減，得到只有褶皺、細小白色殘留物料的灰度圖；

步驟4.4：對步驟4.3所得灰度圖進行動態(tài)閾值分割，獲取亮色部分細小白色殘留物料亮色部分所占面積超過了其所在的連通域面積的90%，通過面積比剔除細小白色殘留物料所在的連通域，只保留褶皺所在的連通域；

步驟4.5：以步驟4.4所得二值區(qū)域為模板，將步驟1所得單通道灰度原圖進行域縮減，得到只有褶皺區(qū)域的灰度圖。