[發(fā)明專利]一種新材料加工領(lǐng)域的循環(huán)冷卻水處理裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011253552.5
• 申請(qǐng)日: 2020-11-11
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112408512A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-02-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 朱藝錨;劉雪花
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廣州雛鳥(niǎo)新材料有限公司
• 主分類號(hào): C02F1/00
• 分類號(hào): C02F1/00;C02F103/02
• 代理公司: 上海精晟知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31253
• 代理人: 李佼佼

1.一種新材料加工領(lǐng)域的循環(huán)冷卻水處理裝置，其特征在于：包括一循環(huán)水箱(1)，所述循環(huán)水箱(1)內(nèi)豎直設(shè)置隔板一(2)和隔板二(3)，位于所述隔板一(2)和隔板二(3)之間形成第二儲(chǔ)水區(qū)(20)；

位于所述隔板一(2)/隔板二(3)的一側(cè)分別與循環(huán)水箱(1)的箱體形成第一儲(chǔ)水區(qū)(10)和第三儲(chǔ)水區(qū)(30)；

其中，所述第一儲(chǔ)水區(qū)(10)內(nèi)設(shè)置水泵(4)和第一液位傳感器(11)；

所述第二儲(chǔ)水區(qū)(20)內(nèi)設(shè)置第二液位傳感器(12)和電導(dǎo)率測(cè)定儀A(14)；所述第三儲(chǔ)水區(qū)(30)內(nèi)設(shè)置第三液位傳感器(13)和電導(dǎo)率測(cè)定儀B(15)；

位于所述第二儲(chǔ)水區(qū)(20)上方還設(shè)置有補(bǔ)水口(16)；

所述第二儲(chǔ)水區(qū)(20)和第三儲(chǔ)水區(qū)(30)的底側(cè)面分別設(shè)置有排水口一(22)和排水口二(32)；位于所述第三儲(chǔ)水區(qū)(30)一側(cè)的循環(huán)水箱(1)上設(shè)置回水口(31)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新材料加工領(lǐng)域的循環(huán)冷卻水處理裝置，其特征在于，所述水泵(4)的一端通過(guò)出水管連接有水泵供給設(shè)備，所述水泵供給設(shè)備通過(guò)一循環(huán)水管與回水口(31)連通。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新材料加工領(lǐng)域的循環(huán)冷卻水處理裝置，其特征在于，還包括

一處理器，所述處理器的信號(hào)輸入端連接第一液位傳感器(11)、第二液位傳感器(12)、電導(dǎo)率測(cè)定儀A(14)、第三液位傳感器(13)和電導(dǎo)率測(cè)定儀B(15)；

所述補(bǔ)水口(16)、排水口一(22)和排水口二(32)處分別設(shè)置有閥門(mén)a、閥門(mén)b和閥門(mén)c；

所述處理器的信號(hào)輸出端連接閥門(mén)a、閥門(mén)b和閥門(mén)c。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種新材料加工領(lǐng)域的循環(huán)冷卻水處理裝置，其特征在于，所述隔板一(2)的底側(cè)面設(shè)置有一通孔(21)并于所述通孔(21)處設(shè)置有與處理器信號(hào)輸出端連接的閥門(mén)d。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或4所述的一種新材料加工領(lǐng)域的循環(huán)冷卻水處理裝置，其特征在于，所述循環(huán)水箱(1)的深度為H1，所述隔板一(2)和隔板二(3)的高度分別為H2和H3；

其中，H2＜H3＜H1，且H1≥1.2H2、且H≤2H2。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種新材料加工領(lǐng)域的循環(huán)冷卻水處理裝置，其特征在于，所述循環(huán)水箱(1)上方還設(shè)置有用于對(duì)循環(huán)水箱(1)內(nèi)循環(huán)水進(jìn)行了冷卻的風(fēng)扇。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種新材料加工領(lǐng)域的循環(huán)冷卻水處理裝置，其特征在于，基于上述循環(huán)冷卻水處理裝置的循環(huán)冷卻水處理方法包括：

Stp1、通過(guò)電導(dǎo)率測(cè)定儀A(14)和電導(dǎo)率測(cè)定儀B(15)檢測(cè)循環(huán)水箱(1)內(nèi)循環(huán)水的電導(dǎo)率、并計(jì)算平均值P1；待所得平均值P1高出或等于預(yù)設(shè)值M1時(shí)，進(jìn)入Stp2，反之不進(jìn)行任何操作；

Stp2、打開(kāi)排水口一(22)和排水口二(32)底部的閥門(mén)b和閥門(mén)c、并關(guān)閉閥門(mén)d；

Stp3、待通過(guò)第一液位傳感器(11)檢測(cè)到第一儲(chǔ)水區(qū)(10)內(nèi)液面高度低于L1、或通過(guò)第二液位傳感器(12)檢測(cè)到第二儲(chǔ)水區(qū)(20)內(nèi)液面高度低于L2時(shí)，此時(shí)關(guān)閉閥門(mén)b，并打開(kāi)閥門(mén)a；

Stp4、待通過(guò)第一液位傳感器(11)檢測(cè)到第一儲(chǔ)水區(qū)(10)內(nèi)液面高度低于L3時(shí)，此時(shí)打開(kāi)閥門(mén)d，則通過(guò)通孔(21)將第二儲(chǔ)水區(qū)(20)內(nèi)的水排入第一儲(chǔ)水區(qū)(10)內(nèi)；

Stp5、待通過(guò)電導(dǎo)率測(cè)定儀A(14)和電導(dǎo)率測(cè)定儀B(15)檢測(cè)循環(huán)水箱(1)內(nèi)循環(huán)水的電導(dǎo)率、并計(jì)算平均值P2；待所得平均值P2低于或等于M2時(shí)，此時(shí)關(guān)閉閥門(mén)c；

Stp6、待通過(guò)第二液位傳感器(12)檢測(cè)到第二儲(chǔ)水區(qū)(20)內(nèi)液面高度大于H2、第三液位傳感器(13)檢測(cè)到第三儲(chǔ)水區(qū)(30)內(nèi)高度大于H3、且第一液位傳感器(11)檢測(cè)到第一儲(chǔ)水區(qū)(10)內(nèi)液面高度大于H2，此時(shí)控制關(guān)閉閥門(mén)a。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種新材料加工領(lǐng)域的循環(huán)冷卻水處理裝置，其特征在于，所述L2＞L3，M1＞M2，P1＞P2。