[發明專利]光學級PET離型膜分切工藝質量監控系統在審
| 申請號： | 202011251432.1 | 申請日： | 2020-11-10 |
| 公開（公告）號： | CN112518849A | 公開（公告）日： | 2021-03-19 |
| 發明（設計）人： | 趙波;夏克彬;王亮亮;范興寶;許顯成 | 申請（專利權）人： | 四川羽璽新材料股份有限公司 |
| 主分類號： | B26D5/00 | 分類號： | B26D5/00 |
| 代理公司： | 北京中索知識產權代理有限公司 11640 | 代理人： | 霍春月 |
| 地址： | 641000 四川省*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光學 pet 離型膜分切 工藝 質量 監控 系統 | ||
1.光學級PET離型膜分切工藝質量監控系統，其特征在于，包括采集模塊(1)、判斷模塊(2)、處理模塊(3)和預警模塊(4)，其中；
所述判斷模塊(2)用于對膜厚判斷并傳輸判斷指令至所述處理模塊(3)，所述處理模塊(3)接收指令并通過所述采集模塊(1)采集膜厚參數并驗證所述判斷模塊(2)判斷指令，驗證完成后通過所述預警模塊(4)進行預警，其中；
所述采集模塊(1)包括光源發射單元(5)、信號接收單元(6)和計算單元(7)，其中；
所述光源發射單元(5)，用于向預涂滾筒表面發射入射光；
所述信號接收單元(6)，在涂布涂層前用于接收入射光經預涂滾筒表面反射后的第一反射光，在涂布涂層后用于接收入射光經預涂滾筒上的涂層表面反射后的第二反射光；
所述計算單元(7)，獲取反射光信號得到預涂滾筒上的涂層厚度。
2.根據權利要求1所述的光學級PET離型膜分切工藝質量監控系統，其特征在于，所述判斷模塊(2)包括：
向涂布機輸入工藝參數K，表現式為K＝V/P，K為工藝參數，V為光學膜的涂布速度，P為噴嘴的吐出壓力，其中；
當M值穩定時，涂布機判定膜厚均勻，當M值不穩定時，涂布機判定膜厚異常。
3.根據權利要求2所述的光學級PET離型膜分切工藝質量監控系統，其特征在于，進一步還包括當V曲線與P曲線吻合時，涂布機判定膜厚均勻，以及當V曲線與P曲線不吻合時，涂布機判定膜厚異常。
4.根據權利要求3所述的光學級PET離型膜分切工藝質量監控系統，其特征在于，還包括涂布機判定膜厚偏差小于或等于0.05為無風險。
5.根據權利要求4所述的光學級PET離型膜分切工藝質量監控系統，其特征在于，還包括涂布機判定膜厚大于0.05為有風險。
6.根據權利要求1所述的光學級PET離型膜分切工藝質量監控系統，其特征在于，還包括存儲模塊，用于建立存儲預涂滾筒上的涂層厚度和基板上的涂層厚度的對應關系。
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