[發明專利]一種自帶粘性無片基裝飾薄層GDX層及其制備工藝在審
| 申請號: | 202011244860.1 | 申請日: | 2020-11-10 |
| 公開(公告)號: | CN112373152A | 公開(公告)日: | 2021-02-19 |
| 發明(設計)人: | 任憲德 | 申請(專利權)人: | 深圳市鈞合通德科技有限公司 |
| 主分類號: | B32B17/06 | 分類號: | B32B17/06;B32B7/12;B32B7/06;B32B27/06;B32B27/36;B32B33/00;B29D7/01 |
| 代理公司: | 廣東中科華海知識產權代理有限公司 44668 | 代理人: | 常潔 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市寶安區沙*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 粘性 無片基 裝飾 薄層 gdx 及其 制備 工藝 | ||
1.一種自帶粘性無片基裝飾薄層GDX層,包括玻璃表層(8),其特征在于:所述在玻璃表層(8)一面設有GDX層(1),且GDX層一面與玻璃相貼合時撕掉有離型膜,所述GDX層另一面依次設有粘接層(2)、連接層(3)、UV轉印層(4)、真空鍍膜層(5)、著色保護層(6)及保護膜(7)總厚度在10-30um。
2.一種自帶粘性無片基裝飾薄層GDX層的制備工藝,其特征在于:包括以下步驟:
Sp1:將準備好的離型膜,將離型膜作為制作GDX層(1)的載體;
Sp2:通過將貼好的離型膜表層涂抹均勻厚度的粘黏膠;
Sp3:將脫模均勻過后的粘黏膠表層粘合有連接層(3);
Sp4:通過將UV轉印層(4)粘合在連接層(3)一面,對UV轉印層(4)進行厚度檢測;
Sp5:將UV轉印層(4)底部進行真空鍍膜,且真空鍍膜主要利用輝光放電將氬氣離子撞擊靶材的表面,靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜且真空鍍膜利用電鍍法成型,與UV轉印層(4)連接;
Sp6:上述的著色保護層(6)一面覆蓋有保護膜(7)。
3.根據權利要求1所述的一種自帶粘性無片基裝飾薄層GDX層,其特征在于:所述粘接層(2)涂布在GDX層(1)底面,所述粘接層(2)底部粘合有連接層(3),所述連接層(3)底面設有UV轉印層(4),且UV轉印層(4)粘合于連接層(3)底面,所述UV轉印層(4)底面固定有真空鍍膜層(5),所述真空鍍膜層(5)表層設有著色保護層(6),且著色保護層(6)粘合于真空鍍膜層(5)表面,所述著色保護層(6)底面粘合有保護膜(7)。
4.根據權利要求2所述的一種自帶粘性無片基裝飾薄層GDX層,其特征在于:所述粘接層(2)為OCA光學膠層,且OCA光學膠層的厚度為4-5um,且OCA光學膠層為無基體材料雙面貼合膠帶。
5.根據權利要求2所述的一種自帶粘性無片基裝飾薄層GDX層及其制備工藝,其特征在于:所述連接層(3)的厚度為2-4um,且連接層(3)與粘接層(2)粘合固定,所述UV轉印層(4)為UV轉印微紋理層,且UV轉印層(4)的厚度為5um左右。
6.根據權利要求2所述的一種自帶粘性無片基裝飾薄層GDX層及其制備工藝,其特征在于:所述著色保護層(6)是將保護油墨印刷或者涂布在真空鍍膜層(5)表面,對真空鍍膜層(5)進行保護。
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