[發(fā)明專利]顯示面板及其制作方法、顯示裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011240168.1 | 申請(qǐng)日: | 2020-11-09 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112366208A | 公開(公告)日: | 2021-02-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 盧玉群;李杰;虞陽(yáng);姜春桐;陳騰;王玲玲;王文強(qiáng) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;重慶京東方顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/12 | 分類號(hào): | H01L27/12;H01L27/32;H01L21/77 |
| 代理公司: | 北京市立方律師事務(wù)所 11330 | 代理人: | 張?bào)銓?/td> |
| 地址: | 100015 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 面板 及其 制作方法 顯示裝置 | ||
1.一種顯示面板,包括:基底,所述基底包括屏下攝像頭區(qū)域,所述屏下攝像頭區(qū)域包括開口區(qū),其特征在于,還包括:
柔性層,位于所述基底一側(cè),在所述基底上的正投影與所述開口區(qū)無(wú)重疊;
背板層,位于所述柔性層遠(yuǎn)離所述基底一側(cè),包括多層透光膜層,且至少一層所述透光膜層在所述基底上的正投影覆蓋所述開口區(qū);
發(fā)光器件層,位于所述背板層遠(yuǎn)離所述基底一側(cè),包括陰極,所述陰極在所述基底上的正投影與所述開口區(qū)無(wú)重疊。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述背板層包括:依次疊層在所述柔性層上的第一透光膜層、有源層、第二透光膜層、柵極、第三透光膜層、源漏極、第四透光膜層、第五透光膜層、陽(yáng)極、第六透光膜層和第七透光膜層;其中:
所述第一透光膜層、所述第二透光膜層、所述第三透光膜層和所述第四透光膜層為無(wú)機(jī)膜層;
所述第五透光膜層、所述第六透光膜層和所述第七透光膜層為有機(jī)膜層。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示面板,其特征在于,在所述開口區(qū):所述基底被所述第五透光膜層、所述第六透光膜層和所述第七透光膜層中的一層或多層覆蓋。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示面板,其特征在于,在所述開口區(qū):所述基底被所述第一透光膜層、所述第二透光膜層、所述第三透光膜層和所述第四透光膜層中的一層或多層覆蓋。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示面板,其特征在于,在所述開口區(qū):基底被所述第一透光膜層、所述第二透光膜層、所述第三透光膜層、所述第四透光膜層、所述第五透光膜層、所述第六透光膜層和所述第七透光膜層中的一層或多層覆蓋。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述發(fā)光器件層包括:依次疊層設(shè)置的有機(jī)發(fā)光層、陰極、光耦合層和光取出層;
所述有機(jī)發(fā)光層、所述光耦合層和所述光取出層分別在所述基底上的正投影區(qū)域均覆蓋所述開口區(qū);
所述陰極在所述基底上的正投影區(qū)域與所述柔性層在所述基底上的正投影區(qū)域部分重疊。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,還包括封裝層,位于所述發(fā)光器件層遠(yuǎn)離所述基底的一側(cè),且在所述基底上的正投影覆蓋所述屏下攝像頭區(qū)域。
8.一種顯示裝置,其特征在于,包括:如權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的顯示面板。
9.一種顯示面板的制作方法,其特征在于,包括:
提供一基底,所述基底包括屏下攝像頭區(qū)域,所述屏下攝像頭區(qū)域包括開口區(qū);
在所述基底上依次制作柔性層和背板層,所述背板層包括多層透光膜層,其中,所述柔性層在所述基底上的正投影與所述開口區(qū)無(wú)重疊,且至少一層所述透光膜層在所述基底上的正投影覆蓋所述開口區(qū);
在所述背板層上制作發(fā)光器件層,所述發(fā)光器件層包括陰極,所述陰極在所述基底上的正投影與所述開口區(qū)無(wú)重疊。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的制作方法,其特征在于,所述在所述基底上依次制作柔性層和背板層,包括:
在所述基底上制作柔性層;
通過(guò)構(gòu)圖工藝在所述柔性層上依次制作緩沖層、有源層、柵極絕緣層、柵極、層間絕緣層、源漏極、鈍化層、平坦層、陽(yáng)極、像素定義層和隔墊層;其中:
在所述開口區(qū),所述基底上制作有所述緩沖層、所述柵極絕緣層、所述層間絕緣層和所述鈍化層中的至少一層;或,在所述開口區(qū),所述基底上制作有所述平坦層、所述像素定義層和所述隔墊層中的至少一層;或,在所述開口區(qū),所述基底上制作有所述緩沖層、所述柵極絕緣層、所述層間絕緣層、所述鈍化層、所述平坦層、所述像素定義層和所述隔墊層中的至少一層。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于京東方科技集團(tuán)股份有限公司;重慶京東方顯示技術(shù)有限公司,未經(jīng)京東方科技集團(tuán)股份有限公司;重慶京東方顯示技術(shù)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011240168.1/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





