[發(fā)明專利]一種酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng)及方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011237059.4 | 申請日: | 2020-11-09 |
| 公開(公告)號: | CN112458463A | 公開(公告)日: | 2021-03-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 歐陽鋒;邰康乾;龍正 | 申請(專利權(quán))人: | 江蘇凈拓環(huán)保科技有限公司 |
| 主分類號: | C23F1/46 | 分類號: | C23F1/46;C25C7/00;C25C1/12;C25C7/06;C25C7/02;C25C7/04 |
| 代理公司: | 蘇州華博知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32232 | 代理人: | 黃珩 |
| 地址: | 215000 江蘇省蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 酸性 蝕刻 循環(huán) 再生 系統(tǒng) 方法 | ||
1.一種酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng),其特征在于,包括離子膜電解循環(huán)系統(tǒng)、氯氣吸收系統(tǒng)和再生液調(diào)配監(jiān)控系統(tǒng);
所述離子膜電解循環(huán)系統(tǒng)構(gòu)造為溶液循環(huán)回路,所述溶液循環(huán)回路包括電解系統(tǒng);
所述氯氣吸收系統(tǒng)包括氯氣處理缸和堿液池、氯氣處理塔二級吸收系統(tǒng);
所述氯氣處理缸和所述堿液池分別具有第一射流器和第二射流器,所述第一射流器用于通過壓力水流經(jīng)所述第一射流器的收縮段與喉徑接合處充分混合壓縮而形成的負(fù)壓將氯氣吸走并通入低ORP蝕刻藥液,所述第二射流器用于通過壓力水流經(jīng)所述第二射流器的收縮段與喉徑接合處充分混合壓縮而形成的負(fù)壓將氯氣吸走并通入所述堿液池的堿性溶液中;所述氯氣吸收系統(tǒng)與所述電解系統(tǒng)密封連接;
所述再生液調(diào)配監(jiān)控系統(tǒng),用于采集和監(jiān)測所述酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng)的運行數(shù)據(jù);所述再生液調(diào)配監(jiān)控系統(tǒng),包括ORP監(jiān)控儀,用于通過控制電解蝕刻液的ORP值以控制氯氣的產(chǎn)生。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng),其特征在于,所述電解系統(tǒng)包括電流控制模塊和電解槽,所述電解槽內(nèi)至少設(shè)有一塊或以上的電解板;所述電流控制模塊和電解板并聯(lián)連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng),其特征在于,所述溶液循環(huán)回路還包括酸性蝕刻液儲存桶以及設(shè)置于所述酸性蝕刻液儲存桶和所述電解系統(tǒng)之間的第一連接管路、電解后廢液儲存桶、廢水處理裝置以及設(shè)置于所述電解系統(tǒng)和所述電解后廢液儲存桶之間的第二連接管路。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng),其特征在于,所述再生液調(diào)配監(jiān)控系統(tǒng),還包括比重檢測儀、酸度計、流量計。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng),其特征在于,所述電極板包括陽極電極板、陰極電極板、隔離板,所述隔離板將所述陽極電極板與所述陰極電極板分隔開。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng),其特征在于,所述酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng)構(gòu)造為若干個三道噴淋結(jié)構(gòu),所述若干個三道噴淋結(jié)構(gòu)分別布設(shè)于所述氯氣處理缸和堿液池、氯氣處理塔二級吸收系統(tǒng)中。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng),其特征在于,還包括液體泵,所述液體泵為CQF工程塑料泵,設(shè)置于所述第一連接管路上。
8.一種酸性蝕刻液循環(huán)再生方法,其特征在于,所述方法包括以下步驟:
S1、酸性蝕刻液進(jìn)入離子膜電解系統(tǒng),低ORP的酸性蝕刻液從離子膜電解槽陽極低位進(jìn)入,蝕刻液在電解作用下,酸性蝕刻液中的一價銅離子在陽極失去電子氧化成二價銅離子;
S2、高含銅量的蝕刻液從離子膜電解槽陰極區(qū)低位進(jìn)入,蝕刻廢液在電解作用下,銅離子在陰極被還原為銅單質(zhì)從而使銅離子濃度降低,降低銅離子含量之后的蝕刻液從陰極高位流出,經(jīng)調(diào)配后返回蝕刻工序使用,形成溶液循環(huán)回路;
S3、電解過程中產(chǎn)生的氯氣,將氯氣通過第一射流器吸入到含低ORP的蝕刻液中充分混合,然后通過三道噴淋設(shè)計,部分氯氣在低ORP的蝕刻液被吸收,又一部分氯氣通過第二射流器吸入到氫氧化鈉溶液中充分混合,然后在通過三道噴淋裝置充分反應(yīng),最后殘留的少量氯氣再通過兩道化氣塔處理及一道吸附塔后達(dá)標(biāo)排放。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的酸性蝕刻液循環(huán)再生方法,其特征在于,所述方法還包括以下步驟:再生液調(diào)配監(jiān)控系統(tǒng)采集和監(jiān)測酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng)的運行數(shù)據(jù);所述運行數(shù)據(jù)包括比重檢測儀、ORP監(jiān)控儀、酸度計、流量計采集的數(shù)據(jù)。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的酸性蝕刻液循環(huán)再生方法,其特征在于,所述ORP監(jiān)控儀通過控制電解蝕刻液的ORP值以控制氯氣的產(chǎn)生,在射流吸收不完全或ORP控制器失靈的突發(fā)狀況下,ORP過高氯氣析出時,采用氫氧化鈉與氯氣反應(yīng)對酸霧進(jìn)行處理,處理后的氣體再經(jīng)過廢氣塔凈化后才排放。
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