[發(fā)明專利]激光標刻的控制方法和裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011224919.0 | 申請日: | 2020-11-05 |
| 公開(公告)號: | CN112388173A | 公開(公告)日: | 2021-02-23 |
| 發(fā)明(設計)人: | 鄧楨;余長豪;袁昌達;莫玉麟;劉世基;周冠鴻 | 申請(專利權)人: | 珠海格力智能裝備有限公司;珠海格力電器股份有限公司 |
| 主分類號: | B23K26/362 | 分類號: | B23K26/362;B23K26/70 |
| 代理公司: | 北京康信知識產(chǎn)權代理有限責任公司 11240 | 代理人: | 周春枚 |
| 地址: | 519015 廣東省珠海市九洲大道中*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 激光 控制 方法 裝置 | ||
本發(fā)明公開了一種激光標刻的控制方法和裝置。其中,該方法包括:獲取待標刻的目標對象的信息,其中,目標對象由多個點位組成,信息至少包括每個點位的位置信息;基于動態(tài)鏈接庫、靜態(tài)鏈接庫和信息,將目標對象標刻在當前模組上,其中,動態(tài)鏈接庫用于控制激光對當前模組的當前點位進行標刻,靜態(tài)鏈接庫用于根據(jù)信息控制當前模組的運動;在當前模組上顯示目標對象。本發(fā)明解決了現(xiàn)有技術中,對模組進行激光標刻時的操作繁瑣的技術問題。
技術領域
本發(fā)明涉及激光加工領域,具體而言,涉及一種激光標刻的控制方法和裝置。
背景技術
激光打標技術是激光加工最大的應用領域之一。激光打標是利用高能量密度的激光對工件進行局部照射,使表層材料汽化或發(fā)生顏色變化的化學反應,從而留下永久性標記的一種打標方法。
激光打標技術因為其具備非接觸加工,可在任何異型表面標刻,工件不會變形和產(chǎn)生內應力;熱影響區(qū)域小,加工精細,可實現(xiàn)常規(guī)方法無法實現(xiàn)的工藝;加工速度快,成本低廉,加工由計算機自動控制,生產(chǎn)時不需人為干預等優(yōu)點,在目前標刻行業(yè)中得到廣泛應用。
傳統(tǒng)的激光打標的運動控制系統(tǒng)通常由PLC(Programmable Logic Controller,可編程邏輯控制器)與觸摸屏組成,計算機作為激光控制系統(tǒng)。雖然運動控制系統(tǒng)與激光控制系統(tǒng)能夠聯(lián)合通信,完成打標任務,但此種實現(xiàn)方式過于繁瑣,現(xiàn)場操作不便,通常需要在觸摸屏上設置動作,然后再在計算機上設置打標圖案。
針對上述的問題,目前尚未提出有效的解決方案。
發(fā)明內容
本發(fā)明實施例提供了一種激光標刻的控制方法和裝置,以至少解決現(xiàn)有技術中,對模組進行激光標刻時的操作繁瑣的技術問題。
根據(jù)本發(fā)明實施例的一個方面,提供了一種激光標刻的控制方法,包括:獲取待標刻的目標對象的信息,其中,目標對象由多個點位組成,信息至少包括每個點位的位置信息;基于動態(tài)鏈接庫、靜態(tài)鏈接庫和信息,將目標對象標刻在當前模組上,其中,動態(tài)鏈接庫用于控制激光對當前模組的當前點位進行標刻,靜態(tài)鏈接庫用于根據(jù)信息控制當前模組的運動;在當前模組上顯示目標對象。
進一步地,在目標對象為多個的情況下,每個目標對象與一個模組相對應,激光標刻的控制方法還包括:檢測激光照射的光點是否位于當前模組的當前點位上;在確定激光照射的光點位于當前模組的當前點位上時,確定當前模組對應的目標對象;基于當前模組對應的目標對象的信息對當前模組上的當前點位進行標刻。
進一步地,激光標刻的控制方法還包括:在基于動態(tài)鏈接庫、靜態(tài)鏈接庫和信息,將目標對象標刻在當前模組上之前,根據(jù)信息確定對當前模組進行標刻的標刻路徑。
進一步地,激光標刻的控制方法還包括:根據(jù)如下任意一種方式確定標刻路徑:根據(jù)信息所包含的每個點位的位置信息確定對當前模組進行標刻的待標刻路徑,確定距離最短的待標刻路徑為標刻路徑;根據(jù)信息所包含的每個點位的位置信息確定對當前模組進行標刻的標刻時長,確定標刻時長最短的待標刻路徑為標刻路徑。
進一步地,激光標刻的控制方法還包括:在基于動態(tài)鏈接庫、靜態(tài)鏈接庫和信息,將目標對象標刻在當前模組上之后,檢測當前模組是否存在未標刻的點位;如果當前模組存在未標刻的點位,則控制當前模組運動,以使激光對下一個點位進行標刻;如果當前模組不存在未標刻的點位,則停止標刻。
進一步地,激光標刻的控制方法還包括:在基于動態(tài)鏈接庫、靜態(tài)鏈接庫和信息,將目標對象標刻在當前模組上之后,檢測當前模組的運動速度;在運動速度大于預設速度的情況下,控制激光延遲預設時長之后對當前模組進行標刻。
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