[發明專利]一種用于氮化鎵功放芯片的玻璃微流道散熱器制備方法有效
| 申請號: | 202011208598.5 | 申請日: | 2020-11-03 |
| 公開(公告)號: | CN112340694B | 公開(公告)日: | 2023-05-12 |
| 發明(設計)人: | 王文博;向偉瑋;盧茜;張劍;秦躍利;王春富;李彥睿;李陽陽;蔣苗苗;張健 | 申請(專利權)人: | 中國電子科技集團公司第二十九研究所 |
| 主分類號: | B81C1/00 | 分類號: | B81C1/00;B81C3/00;H01L23/473 |
| 代理公司: | 成都九鼎天元知識產權代理有限公司 51214 | 代理人: | 李想 |
| 地址: | 610036 四川*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 氮化 功放 芯片 玻璃 微流道 散熱器 制備 方法 | ||
1.一種用于氮化鎵功放芯片的玻璃微流道散熱器制備方法,該方法包括:
S1:準備至少3片可光刻玻璃圓片,分別為:A玻璃圓片、B玻璃圓片和C玻璃圓片;
S2:利用光刻腐蝕工藝在A玻璃圓片上刻蝕若干個TGV通孔,在B玻璃圓片上刻蝕微流道結構和B進出液口且兩者之間通過分流網絡連通,微流道結構包括多個呈平行設置的微流道,各個微流道通過分流網絡連通至B進出液口,微流道為高深寬比,在C玻璃圓片上刻蝕C進出液口應當分別與各個B進出液口對齊連通;
S3:對A玻璃圓片作實心電鍍工藝,以得到TGV實心互連結構;
實心電鍍工藝包括:
S31:在A玻璃圓片上濺射擴散阻擋層和種子層;擴散阻擋層選用TiN、Ta、TaN,種子層為金屬導電層;
S32:通過種子層導電以對A玻璃圓片的各個TGV通孔進行實心電鍍銅;實心電鍍銅填滿各個TGV通孔;
S33:對A玻璃圓片作表面化學機械拋光,以獲取TGV實心互連結構;
S4:分別在A玻璃圓片的下表面、B玻璃圓片的兩側表面和C玻璃圓片的上表面設置連接膜層;
S5:將A玻璃圓片、B玻璃圓片和C玻璃圓片依次鍵合形成復合圓片;
步驟S5具體包括:
S51:將A玻璃圓片的下表面與B玻璃圓片的上表面鍵合;
S52:將B玻璃圓片的B進出液口與C玻璃圓片的C進出液口相對齊并將B玻璃圓片的下表面與C玻璃圓片的上表面鍵合;
S6:復合圓片通過分片工藝獲得單個微流道散熱器。
2.根據權利要求1所述的用于氮化鎵功放芯片的玻璃微流道散熱器制備方法,其特征在于,在步驟S2之前,分別對A玻璃圓片和C玻璃圓片進行減薄拋光。
3.根據權利要求1所述的用于氮化鎵功放芯片的玻璃微流道散熱器制備方法,其特征在于,在步驟S4之前,分別對A玻璃圓片、B玻璃圓片和C玻璃圓片進行化學機械拋光。
4.根據權利要求1所述的用于氮化鎵功放芯片的玻璃微流道散熱器制備方法,其特征在于,在步驟S4中,所述連接膜層通過沉積生長或涂覆而成。
5.根據權利要求1所述的用于氮化鎵功放芯片的玻璃微流道散熱器制備方法,其特征在于,在步驟S5中,通過熱壓鍵合工藝對A玻璃圓片、B玻璃圓片和C玻璃圓片進行依次鍵合。
6.根據權利要求1所述的用于氮化鎵功放芯片的玻璃微流道散熱器制備方法,其特征在于,在步驟S6中,所述分片工藝為砂輪分片工藝或激光分片工藝。
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