[發(fā)明專利]光學(xué)膜片、磨砂效果及其制備方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011201840.6
• 申請(qǐng)日: 2020-11-02
• 公開（公告）號(hào): CN114445516A
• 公開（公告）日: 2022-05-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 韓春芳;楊穎;沈悅;劉曉寧;張瑾
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 蘇州蘇大維格科技集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號(hào): G06T11/20
• 分類號(hào): G06T11/20;G06T7/33;G03F7/00;G03F7/40
• 代理公司: 蘇州謹(jǐn)和知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 32295
• 代理人: 唐靜芳

1.一種磨砂效果的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括：

S1、采用圖文處理軟件通過隨機(jī)點(diǎn)組合得到具有若干像素點(diǎn)的隨機(jī)圖案；

S2、加入若干單點(diǎn)模板，用所述單點(diǎn)模板替換所述像素點(diǎn)，得到磨砂效果圖案；

S3、依據(jù)所述磨砂效果圖案，在膠版上進(jìn)行光刻得到磨砂效果。

2.如權(quán)利要求1所述的磨砂效果的制備方法，其特征在于，所述制備方法還包括：在步驟S3后，對(duì)所述膠版進(jìn)行加熱烘烤，從而使得所述膠版內(nèi)具有凸起結(jié)構(gòu)或凹陷結(jié)構(gòu)。

3.如權(quán)利要求2所述的磨砂效果的制備方法，其特征在于，所述凸起結(jié)構(gòu)或凹陷結(jié)構(gòu)的大小為4um-70um。

4.如權(quán)利要求1所述的磨砂效果的制備方法，其特征在于，所述單點(diǎn)模板替換所述像素點(diǎn)時(shí)，所述單點(diǎn)模板的中心點(diǎn)對(duì)應(yīng)所述像素點(diǎn)的中心點(diǎn)。

5.如權(quán)利要求1所述的磨砂效果的制備方法，其特征在于，所述隨機(jī)圖案具有至少一種顏色，所述像素點(diǎn)的顏色設(shè)定依據(jù)所述磨砂效果圖案得到。

6.如權(quán)利要求5所述的磨砂效果的制備方法，其特征在于，所述單點(diǎn)模板具有至少一種，每種所述單點(diǎn)模板替換一種顏色的所述像素點(diǎn)。

7.如權(quán)利要求1所述的磨砂效果的制備方法，其特征在于，所述單點(diǎn)模板內(nèi)的形狀為圓形、方形、三角形、多邊形或不規(guī)則形狀。

8.如權(quán)利要求1所述的磨砂效果的制備方法，其特征在于，所述單點(diǎn)模板內(nèi)的形狀的邊不與所述單點(diǎn)模板的外框邊相交。

9.一種磨砂效果，其特在在于，所述磨砂效果由如權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的磨砂效果的制備方法得到。

10.一種光學(xué)膜片，其特在在于，所述光學(xué)膜片包括基層，所述基層上或內(nèi)具有如權(quán)利要求9中所述的磨砂效果。