[發明專利]一種數字曝光設備和曝光方法

在審

• 申請號: 202011195247.5
• 申請日: 2020-10-30
• 公開（公告）號: CN114442436A
• 公開（公告）日: 2022-05-06
• 發明（設計）人: 馮京;欒興龍;王志沖;劉鵬;袁廣才
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 胡影;顧春天

1.一種數字曝光設備，其特征在于，包括光源、透鏡陣列和光線轉置組件，所述透鏡陣列設置于所述光源的出射光路上，所述透鏡陣列至少包括第一透鏡單元和第二透鏡單元，所述第一透鏡單元和所述第二透鏡單元的數量均為多個，且陣列排布，所述光線轉置組件設置于所述第二透鏡單元的出射光路上，所述光線轉置組件用于控制所述第二透鏡單元出射的光線關于所述數字曝光設備的曝光方向轉置。

2.如權利要求1所述的數字曝光設備，其特征在于，所述光線轉置組件至少包括第一凹面鏡和第二凹面鏡，所述第一凹面鏡和所述第二凹面鏡相對設置，且所述第一凹面鏡和所述第二凹面鏡的光軸方向相互平行。

3.如權利要求1所述的數字曝光設備，其特征在于，所述第一透鏡單元和所述第二透鏡單元分別位于所述透鏡陣列的目標軸線的兩側，其中，所述目標軸線為所述透鏡陣列垂直于所述數字曝光設備的曝光方向的中軸線。

4.如權利要求1所述的數字曝光設備，其特征在于，還包括檢測組件，所述檢測組件包括光傳感器和光路控制模塊，所述光路控制模塊至少具有第一工作狀態和第二工作狀態；

在所述第一工作狀態下，沿所述透鏡陣列出射的光線通過所述光路控制模塊透射至所述數字曝光設備的曝光區；

在所述第二工作狀態下，沿所述透鏡陣列出射的光線通過所述光路控制模塊傳遞至所述光傳感器。

5.如權利要求4所述的數字曝光設備，其特征在于，所述光路控制模塊包括第一導光件，所述第一導光件包括第一表面，

所述第一表面位于所述第一導光件內側的垂線的方向與所述透鏡陣列的光線出射方向的夾角，小于所述光源的光線由第一導光件傳遞至所述數字曝光設備工作的氣體環境時對應的全反射角。

6.如權利要求5所述的數字曝光設備，其特征在于，所述光路控制模塊包括第二導光件，所述第二導光件包括第二表面，所述第一導光件的材料和所述第二導光件的材料相同，所述第一導光件的第一表面與所述第二導光件的第二表面相對設置，且在所述第一工作狀態下，所述第一導光件的第一表面與所述第二導光件的第二表面相抵接，在所述第二工作狀態下，所述第一導光件的第一表面與所述第二導光件的第二表面相分離。

7.如權利要求6所述的數字曝光設備，其特征在于，所述光傳感器包括基底和多個傳感器單元，所述多個傳感器單元在所述基底上陣列排布，所述光傳感器設置于所述光源的光線在所述第一表面發生全反射對應的光路上。

8.一種曝光方法，應用于權利要求1至7中任一項所述的數字曝光設備，其特征在于，所述方法包括對所述數字曝光設備曝光區曝光的步驟，所述對所述數字曝光設備曝光區曝光的步驟包括：

控制所述光源發出的光線通過所述第一透鏡單元，利用通過所述第一透鏡單元的光線對所述曝光區進行曝光；

控制所述光源發出的光線依次通過所述第二透鏡單元和所述光線轉置組件，利用通過所述第二透鏡單元且轉置后的光線對所述曝光區進行曝光。

9.如權利要求8所述的方法，其特征在于，在應用于權利要求4所述的數字曝光設備的情況下，所述對所述數字曝光設備曝光區曝光，包括：

控制所述光路控制模塊處于所述第一工作狀態，以使通過所述透鏡陣列的光線通過所述光路控制模塊透射至所述數字曝光設備的曝光區。

10.如權利要求9所述的方法，其特征在于，在應用于權利要求4所述的數字曝光設備的情況下，所述方法還包括：

控制所述光路控制模塊處于所述第二工作狀態；

利用所述光傳感器檢測通過所述光路控制模塊傳遞至所述光傳感器的光線的強度和均一性；

根據檢測結果對所述光源進行補償。