[發(fā)明專利]一種紅外透明陶瓷晶粒尺寸的測(cè)量方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011178769.4 | 申請(qǐng)日: | 2020-10-29 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112454014B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-10-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張春雨;李國(guó);劉晗;趙清亮;宋成偉;張海軍;黃滟荻;劉世忠;高林 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)工程物理研究院激光聚變研究中心 |
| 主分類號(hào): | B24B1/00 | 分類號(hào): | B24B1/00;B24B49/12 |
| 代理公司: | 成都弘毅天承知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 51230 | 代理人: | 茍莉 |
| 地址: | 621900 四*** | 國(guó)省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 紅外 透明 陶瓷 晶粒 尺寸 測(cè)量方法 | ||
1.一種紅外透明陶瓷晶粒尺寸的測(cè)量方法,其特征在于:包括以下步驟,
步驟1:將平片狀紅外透明陶瓷樣品粘貼在拋光機(jī)的可旋轉(zhuǎn)的工件臺(tái)上、將可旋轉(zhuǎn)的柔性拋光墊壓在樣品表面上對(duì)其進(jìn)行拋光,且拋光墊對(duì)工件的壓力可調(diào);
步驟2:用白光干涉儀對(duì)拋光后的紅外透明陶瓷樣品表面進(jìn)行三維形貌檢測(cè),選用放大10倍的鏡頭,對(duì)樣品拋光表面進(jìn)行表面三維形貌檢測(cè);檢測(cè)范圍為L(zhǎng)1×L2,L1、L2分別為檢測(cè)范圍的兩個(gè)邊長(zhǎng)、單位μm,
其中,由于晶粒間材料去除率的不同在拋光表面產(chǎn)生了明顯橘皮效應(yīng),在高精度的白光干涉儀的檢測(cè)結(jié)果中,不同區(qū)域顏色尺寸對(duì)應(yīng)相應(yīng)的晶粒尺寸,可統(tǒng)計(jì)出檢測(cè)面積內(nèi)的晶粒數(shù)目N,根據(jù)公式1進(jìn)一步計(jì)算出該樣品的平均晶粒尺寸d、單位μm;
d=((L1×L2)/N)1/2 (1)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種紅外透明陶瓷晶粒尺寸的測(cè)量方法,其特征在于:所述步驟1中拋光過(guò)程包括磨平狀態(tài)、粗拋狀態(tài)和精拋狀態(tài)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種紅外透明陶瓷晶粒尺寸的測(cè)量方法,其特征在于:所述磨平狀態(tài)選用40μm粒度的金剛石懸濁液,工件臺(tái)轉(zhuǎn)速為100r/min,拋光盤的轉(zhuǎn)速為200r/min,壓力為60N,拋光時(shí)間為15-20分鐘。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種紅外透明陶瓷晶粒尺寸的測(cè)量方法,其特征在于:所述粗拋狀態(tài)選用15μm粒度的金剛石懸濁液,工件臺(tái)轉(zhuǎn)速為40r/min,拋光盤的轉(zhuǎn)速為60r/min,壓力為40N,拋光時(shí)間為10-15分鐘。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種紅外透明陶瓷晶粒尺寸的測(cè)量方法,其特征在于:所述精拋狀態(tài)選用1μm粒度的金剛石懸濁液,工件臺(tái)轉(zhuǎn)速為20r/min,拋光盤的轉(zhuǎn)速為30r/min,壓力為10N,拋光時(shí)間為20~30分鐘。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國(guó)工程物理研究院激光聚變研究中心,未經(jīng)中國(guó)工程物理研究院激光聚變研究中心許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011178769.4/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。





