[發明專利]一種純硅沸石復合膜及其制備方法和應用在審
| 申請號: | 202011177144.6 | 申請日: | 2020-10-28 |
| 公開(公告)號: | CN112387130A | 公開(公告)日: | 2021-02-23 |
| 發明(設計)人: | 吳蘇州;陳俊孚;任嵬 | 申請(專利權)人: | 武漢市晶博特科技有限公司 |
| 主分類號: | B01D71/02 | 分類號: | B01D71/02;B01D67/00 |
| 代理公司: | 深圳峰誠志合知識產權代理有限公司 44525 | 代理人: | 李明香 |
| 地址: | 430000 湖北省武漢市東湖新技*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 純硅沸石 復合 及其 制備 方法 應用 | ||
1.一種純硅沸石復合膜的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
(1)多孔載體的預處理:首先,利用稀鹽酸對多孔載體進行浸泡處理,然后依次用丙酮、去離子水對載體進行洗滌、干燥,獲得無油、無金屬雜質的多孔載體;
(2)多孔載體的改性處理:將步驟(1)所得多孔載體加入到含硅烷偶聯劑的改性溶液中,于40-60℃下攪拌反應6-12h后將混合物分離、干燥,然后將處理后的多孔載體于600-1200℃下碳化處理3-6h,碳化處理結束后采用砂紙打磨、漂洗、干燥即獲得改性處理的多孔載體;
(3)純硅沸石復合膜的合成:配制一定濃度的純硅沸石晶化液,并將步驟(2)制得的改性多孔載體放置的聚四氟乙烯反應釜中心,然后將純硅沸石晶化液小心加入不銹鋼反應釜中至液面浸沒載體,進行水熱反應,晶化結束后將所得純硅沸石復合膜用去離子水洗滌、干燥、高溫焙燒脫出模板劑即得。
2.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(1)中所述的多孔載體為管狀的氧化鋁、氧化硅或氧化鋯陶瓷材料,平均孔徑為0.5-10μm,孔隙率為30%-70%。
3.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(2)中所述改性溶液為選自酚醛樹脂溶液、糠醇樹脂溶液、聚丙烯腈溶液中的一種或多種,所述溶液的質量分數為10-40%。
4.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(2)中所述硅烷偶聯劑為X-(CH2)n-Si(Y)3;其中,X選自-NH2、Cl、-COOH;Y為選自EtO或MeO,n為2-6的整數;所述改性溶液與硅烷偶聯劑的質量比為2-5:0.1-0.2。
5.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(2)中所述多孔載體與含硅烷偶聯劑的改性溶液的質量比為1-3:10-20。
6.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(3)中所述純硅沸石晶化液包括硅源、堿源、造孔劑和去離子水,所述晶化液中水與硅的摩爾比為500-800。
7.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(3)中所述水熱反應的溫度為80-200℃,時間為3-24h。
8.一種根據權利要求1-7所述方法制備得到的純硅沸石復合膜。
9.一種權利要求8所述純硅沸石復合膜在氣體混合物分離、液體混合物分離中的應用。
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