[發(fā)明專利]一種基站天線共口面REV幅相校正方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011168109.8
• 申請(qǐng)日: 2020-10-27
• 公開（公告）號(hào): CN112467385A
• 公開（公告）日: 2021-03-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 杜海龍;韓運(yùn)忠;李鴻斌;高文軍;石海然;段江年;張杰;董世林
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京空間飛行器總體設(shè)計(jì)部
• 主分類號(hào): H01Q3/28
• 分類號(hào): H01Q3/28
• 代理公司: 北京理工大學(xué)專利中心 11120
• 代理人: 李微微

1.一種基站天線共口面REV幅相校正方法，其特征在于，包括：

在基站天線陣前面，設(shè)置校正反射板，校正反射板有兩種工作狀態(tài)，即全透波狀態(tài)和半透波狀態(tài)；基站天線正常工作時(shí)，校正反射板工作在全透波狀態(tài)；基站天線在線幅相校正時(shí)，校正反射板工作在半透波狀態(tài)，用于反射校正信號(hào)；

在基站天線的天線陣元中選擇若干天線陣元作為校正天線；

利用校正天線，采用REV幅相校正方法，對(duì)基站天線進(jìn)行幅相校正。

2.如權(quán)利要求1所述的一種基站天線共口面REV幅相校正方法，其特征在于，在基站天線正常的工作周期中，增加校正時(shí)隙，在該校正時(shí)隙中進(jìn)行校正數(shù)據(jù)采集，下一個(gè)校正時(shí)隙到來時(shí)再進(jìn)行校正數(shù)據(jù)的采集，周而復(fù)始，直到全部校正數(shù)據(jù)采集完畢，然后取消校正數(shù)據(jù)采集時(shí)隙。

3.如權(quán)利要求1所述的一種基站天線共口面REV幅相校正方法，其特征在于，對(duì)各個(gè)通道的相位設(shè)置一定的擾動(dòng)量，得到第一次REV校正各通道的幅度和相位；采用REV進(jìn)行第二次校正，得到第二次各通道的幅度和相位；設(shè)A1,A2分別表示任意一個(gè)天線陣元a第一次校正中得到的兩個(gè)幅度值，A1′,A2′分別表示該陣元第二校正得到的兩個(gè)幅度值；B1,B2分別表示任意一個(gè)天線陣元b第一次校正中得到的兩個(gè)幅度值，B1′,B2′分別表示該陣元第二校正得到的兩個(gè)幅度值；計(jì)算A1-A1′的差值ΔA1和A2-A2′的差值ΔA2；B1-B1′的差值ΔB1和B2-B2′的差值ΔB2；判斷ΔA1和ΔB1以及ΔA2和ΔB2之間的關(guān)系；如果ΔA1和ΔB1相等，表明每次校正中得到兩個(gè)幅度值中第一個(gè)為真值，相位真值也為第一個(gè)，其它天線陣元的真值也為第一個(gè)；如果ΔA2和ΔB2相等，表明每次校正中得到兩個(gè)幅度值中第二個(gè)為真值，相位真值也為第二個(gè)，其它天線陣元的真值也為第二個(gè)。

4.如權(quán)利要求1所述的一種基站天線共口面REV幅相校正方法，其特征在于，將基站天線分為多個(gè)互相嵌套的分區(qū)；每個(gè)分區(qū)中在中心位置選擇一個(gè)天線陣元作為校正天線，形成獨(dú)立的校正通道，采用REV方法對(duì)每個(gè)分區(qū)進(jìn)行幅相校正，得到各個(gè)天線陣元相對(duì)于自己所在分區(qū)的幅值和相位校正數(shù)據(jù)；然后根據(jù)各個(gè)分區(qū)之間的位置關(guān)系，將各分區(qū)之間通過重疊單元的校正數(shù)據(jù)進(jìn)行關(guān)聯(lián)，最終獲得各天線陣元相對(duì)于一個(gè)校正天線的校正數(shù)據(jù)，由此得到滿陣的校正數(shù)據(jù)。

5.如權(quán)利要求4所述的一種基站天線共口面REV幅相校正方法，其特征在于，每個(gè)分區(qū)大小為m×n，且m≤10，n≤10。