[發明專利]干燥光束通路在審
| 申請號: | 202011160108.9 | 申請日: | 2020-10-27 |
| 公開(公告)號: | CN112721151A | 公開(公告)日: | 2021-04-30 |
| 發明(設計)人: | H·佩雷特;S·帕特爾諾斯特 | 申請(專利權)人: | EOS有限公司電鍍光纖系統 |
| 主分類號: | B29C64/153 | 分類號: | B29C64/153;B29C64/268;B29C64/20;B33Y10/00;B33Y30/00 |
| 代理公司: | 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038 | 代理人: | 許劍樺 |
| 地址: | 德國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 干燥 光束 通路 | ||
1.一種增材制造方法,所述增材制造方法用于利用激光輻射進行照射而通過建造材料(13)的層狀選擇固化而在增材制造裝置(1)中制造三維物體(2),其中:
在處理腔室(3)中重復地將建造材料層施加在先前選擇固化的建造材料層上,并利用激光輻射在對應于物體在所述層中的橫截面的位置處掃描,
激光輻射通過激光源(21)來產生,并通過多個光學部件而引導至建造材料層上,其中,由光學隔腔殼體(20a)來封裝的光學隔腔容納所述光學部件,
其特征在于,確定的氣體氣氛保持在光學隔腔內部,其中,所述確定的氣體氣氛的相對濕度保持低于3%。
2.根據權利要求1所述的增材制造方法,其中:在光學隔腔殼體(20a)內部的所述確定的氣體氣氛的相對濕度保持低于1%。
3.根據權利要求1或2所述的增材制造方法,其中:確定的處理腔室氣體氣氛保持在處理腔室(3)中,所述處理腔室氣體氣氛的相對濕度保持低于3%。
4.根據前述任意一項權利要求所述的增材制造方法,其中:從激光源(21)的出口至輻射進入處理腔室(3)所穿過的光束進入窗口(25),激光輻射沿它在光學部件外部的整個光束通路在確定的氣體氣氛內引導。
5.根據前述任意一項權利要求所述的增材制造方法,其中:所述確定的氣體氣氛的相對濕度使用表征確定的氣體氣氛的相對濕度的至少一個測量值進行反饋控制,所述測量值通過布置在光學隔腔中的至少一個濕度傳感器(70)來輸出,用于反饋控制所述確定的氣體氣氛的相對濕度。
6.根據前述任意一項權利要求所述的增材制造方法,其中:在光學隔腔中的所述確定的氣體氣氛通過供給體積流速大于或等于2l/min和/或小于或等于15l/min、優選是10l/min的氣體來維持。
7.根據前述任意一項權利要求所述的增材制造方法,其中:在光學隔腔中的確定的氣體氣氛通過在體積流速大于50l/min和優選大于80l/min和/或小于120l/min和優選小于150l/min的情況下灌注光學隔腔而建立。
8.根據前述任意一項權利要求所述的增材制造方法,其中:基于塑料的粉末用作建造材料。
9.一種增材制造裝置,所述增材制造裝置用于利用激光輻射進行照射而通過建造材料(13)的層狀選擇固化而制造三維物體(2),所述增材制造裝置包括:
處理腔室(3),在所述處理腔室(3)中,能夠重復地將建造材料層施加在先前選擇固化的建造材料層上,并能夠利用激光輻射在對應于物體在所述層中的橫截面的位置處掃描;
激光源(21),用于產生激光輻射;
多個光學部件,用于將激光輻射引導至建造材料層上,其中,所述多個光學部件布置在由光學隔腔殼體(20a)包圍的光學隔腔中,所述光學隔腔殼體設置成保持在所述光學隔腔中的確定的氣體氣氛;
其特征在于,還包括濕度控制單元,所述濕度控制單元在增材制造裝置的操作過程中使得光學隔腔殼體(20a)內部的確定的氣體氣氛的相對濕度保持低于3%。
10.根據權利要求9所述的增材制造裝置,其中:光學隔腔通過形成在處理腔室和光學隔腔之間的公共壁中的輻射進入窗口(25)而與處理腔室(3)分離。
11.根據權利要求9或10所述的增材制造裝置,其中:激光源(21)布置在光學隔腔殼體(20a)的外部,并通過激光束殼體(20b)而與光學隔腔殼體(20a)連接,優選是通過氣密連接,其中,激光束殼體(20b)設置成保持所述確定的氣體氣氛,并設計成使得激光輻射能夠從激光源穿過激光束殼體(20b)而引導至光學隔腔殼體(20a)中。
12.根據權利要求9至11中任意一項所述的增材制造裝置,其中:激光源(21)是CO激光器。
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