[發(fā)明專利]一種醫(yī)院放射科質(zhì)控光盤的制作方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011146905.1
• 申請(qǐng)日: 2020-10-23
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112233751A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-01-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳亮
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 漢中市中心醫(yī)院
• 主分類號(hào): G16H15/00
• 分類號(hào): G16H15/00;G06F40/186;G06F16/2458;G06K7/14;G11B7/0045
• 代理公司: 西安合創(chuàng)非凡知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 61248
• 代理人: 惠銀銀

1.一種醫(yī)院放射科質(zhì)控光盤的制作方法，其特征在于：包括如下步驟：

S1、挖取符合當(dāng)前醫(yī)院的放射科質(zhì)控標(biāo)準(zhǔn)和要求；

S2、基于所述放射科質(zhì)控標(biāo)準(zhǔn)和要求調(diào)用對(duì)應(yīng)的質(zhì)控報(bào)表模板；

S3、基于所述質(zhì)控報(bào)表模板內(nèi)載的數(shù)據(jù)挖掘模型組實(shí)現(xiàn)質(zhì)控報(bào)表的制作，所述質(zhì)控報(bào)表內(nèi)載的每一個(gè)數(shù)據(jù)均攜帶有其對(duì)應(yīng)的源數(shù)據(jù)二維碼；

S4、基于所述質(zhì)控報(bào)表進(jìn)行質(zhì)控光盤的刻錄。

2.如權(quán)利要求1所述的一種醫(yī)院放射科質(zhì)控光盤的制作方法，其特征在于：所述步驟S1中，首先基于錄入的醫(yī)院名稱爬取該醫(yī)院的等級(jí)參數(shù)以及對(duì)應(yīng)的設(shè)備型號(hào)配置參數(shù)，然后通過(guò)數(shù)據(jù)挖掘模塊基于爬取到的醫(yī)院等級(jí)參數(shù)以及設(shè)備型號(hào)配置參數(shù)實(shí)現(xiàn)放射科質(zhì)控標(biāo)準(zhǔn)和要求的挖取。

3.如權(quán)利要求1所述的一種醫(yī)院放射科質(zhì)控光盤的制作方法，其特征在于：所述步驟S3中，所述數(shù)據(jù)挖掘模型首先進(jìn)行質(zhì)控報(bào)表內(nèi)每一個(gè)參數(shù)/參數(shù)相關(guān)參數(shù)群的挖掘，然后基于模型內(nèi)載算法根據(jù)參數(shù)/參數(shù)相關(guān)參數(shù)群實(shí)現(xiàn)目標(biāo)參數(shù)及其對(duì)應(yīng)的源數(shù)據(jù)二維碼標(biāo)記的獲取，最后，將獲取到的目標(biāo)參數(shù)及其對(duì)應(yīng)的源數(shù)據(jù)二維碼標(biāo)記填充到質(zhì)控報(bào)表對(duì)應(yīng)位置處，完成質(zhì)控報(bào)表的編制。

4.如權(quán)利要求1所述的一種醫(yī)院放射科質(zhì)控光盤的制作方法，其特征在于：通過(guò)微信掃描所述源數(shù)據(jù)二維碼標(biāo)記即可實(shí)現(xiàn)源數(shù)據(jù)的查看。

5.如權(quán)利要求3所述的一種醫(yī)院放射科質(zhì)控光盤的制作方法，其特征在于：所述步驟S3中，基于Hadoop同時(shí)運(yùn)行數(shù)據(jù)挖掘模型組實(shí)現(xiàn)質(zhì)控報(bào)表內(nèi)載所有目標(biāo)參數(shù)及其對(duì)應(yīng)的源數(shù)據(jù)二維碼的同步獲取。

6.如權(quán)利要求1所述的一種醫(yī)院放射科質(zhì)控光盤的制作方法，其特征在于：所述質(zhì)控報(bào)表采用PDF格式。

7.如權(quán)利要求1所述的一種醫(yī)院放射科質(zhì)控光盤的制作方法，其特征在于：還包括：

完成光盤的質(zhì)檢的步驟，質(zhì)檢時(shí)，通過(guò)讀取光盤內(nèi)載的質(zhì)控報(bào)表的方式進(jìn)行，遍歷每一個(gè)參數(shù)及其對(duì)應(yīng)的源數(shù)據(jù)二維碼，并將識(shí)別到的每一個(gè)參數(shù)及其對(duì)應(yīng)的源數(shù)據(jù)二維碼與對(duì)應(yīng)的質(zhì)控報(bào)表數(shù)據(jù)進(jìn)行一一核對(duì)。