[發明專利]一種耐伽馬照射材料及其制備方法

在審

• 申請號: 202011145411.1
• 申請日: 2020-10-23
• 公開（公告）號: CN112251016A
• 公開（公告）日: 2021-01-22
• 發明（設計）人: 王貴超;曾弟明;鞠慧萍;宋艷超;錢衛平
• 申請（專利權）人: 蘇州中核華東輻照有限公司
• 主分類號: C08L75/08
• 分類號: C08L75/08;C08L25/18;C08K13/04;C08K7/26;C08K3/04;C08K5/18;C08K5/39
• 代理公司: 上海微策知識產權代理事務所(普通合伙) 31333
• 代理人: 張靜

1.一種耐伽馬照射材料，其特征在于，按重量份計，包括高分子聚合物80-150份，抗靜電劑0.1-1份，抗氧劑0.1-1份，光穩定劑0.5-5份，填料1-5份，其他助劑0.1-3份；所述高分子聚合物由聚醚多元醇與異氰酸酯反應得到，所述聚醚多元醇與異氰酸酯的摩爾比為1：1～2。

2.根據權利要求1所述的一種耐伽馬照射材料，其特征在于，所述聚醚多元醇的羥值為56～238mgKOH/g；所述聚醚多元醇在溫度為25℃下的粘度為155～370mPa.s。

3.根據權利要求1所述的一種耐伽馬照射材料，其特征在于，所述異氰酸酯為二苯甲烷二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯的混合物，三者質量比為1：0.2～0.8：0.8～0.2。

4.根據權利要求1所述的一種耐伽馬照射材料，其特征在于，所述抗靜電劑為聚苯乙烯磺酸鈉。

5.根據權利要求4所述的一種耐伽馬照射材料，其特征在于，所述聚苯乙烯磺酸鈉在溫度為25℃下的粘度為1～100mPa.s，數均分子量為50000-100000。

6.根據權利要求1所述的一種耐伽馬照射材料，其特征在于，所述抗氧劑為N-苯基-α-萘胺和二烷基二硫代氨基甲酸酯的混合物，二者質量比為1～1.5：0.8～1。

7.根據權利要求1所述的一種耐伽馬照射材料，其特征在于，所述填料為氧化石墨烯與白炭黑的混合物，二者質量比為1：0.2～0.5。

8.根據權利要求7所述的一種耐伽馬照射材料，其特征在于，所述氧化石墨烯的氧含量為30-50％，直徑為8-15μm。

9.根據權利要求7所述的一種耐伽馬照射材料，其特征在于，所述白炭黑的粒徑為40-120目，吸油值為220-280ml/100g。

10.一種根據權利要求1-9任一項所述的耐伽馬照射材料的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1，將聚醚多元醇放入反應釜中在120-140℃，真空度80-120MPa下反應1-2h，冷卻降溫至70-90℃后加入異氰酸酯，混合攪拌均勻，在120-140℃下反應0.5-1h，得聚氨酯預聚體；

S2，在上述步驟S1的反應釜中加入擴鏈劑，在80-90℃下反應0.5-1h后，將反應釜中物料快速放入烘箱中，在100-120℃的溫度下烘培3-6h，得高分子聚合物；

S3，將所述高分子聚合物、抗靜電劑、抗氧劑、光穩定劑、填料以及其他助劑通過高速攪拌機攪拌均勻，得混合組分；

S4，將所述的混合組分通過密煉機熔融共混，再通過擠出機擠出成型得耐伽馬照射材料。