[發明專利]一種高溫等離子反應裝置

在審

• 申請號: 202011139423.3
• 申請日: 2020-10-22
• 公開（公告）號: CN112619334A
• 公開（公告）日: 2021-04-09
• 發明（設計）人: 楊逸波
• 申請（專利權）人: 無錫英普朗科技有限公司
• 主分類號: B01D50/00
• 分類號: B01D50/00
• 代理公司: 蘇州隆恒知識產權代理事務所(普通合伙) 32366
• 代理人: 周子軼

本發明公開了一種高溫等離子反應裝置，包括第一管體、等離子發生器、第二管體、噴淋裝置和液體槽。第一管體的上端設有集氣口。等離子發生器設于第一管體的上端并與第一管體連通，以向第一管體中輸入高溫等離子體。第二管體套設于第一管體的外部以在第二管體和第一管體之間形成噴淋腔，第一管體的底端與第二管體連通。噴淋裝置設于噴淋腔中以向噴淋腔中噴灑液體。液體槽設于第二管體的底部，液體槽與噴淋裝置連通以向噴淋裝置中輸入液體，液體槽與第二管體連通以排出第二管體中的液體。第二管體設有出氣口以排出噴淋腔中洗滌后的氣體。本發明實高溫等離子反應裝置在對氣體進行洗滌凈化的過程中，同時對裝置進行降溫，避免高溫對反應裝置的損壞。

技術領域

本發明涉及了廢氣凈化技術領域，具體的是一種高溫等離子反應裝置。

背景技術

廢氣是指人類在生產過程中排出的有毒有害的氣體。特別是在半導體、電子、醫療、化工等行業中，都會產生大量廢氣，對人類生活和健康產生了嚴重的后果。因此在廢氣排放時，需要進行凈化處理。

采用高溫等離子體凈化廢氣是一種高效的廢氣凈化方式。高溫等離子體凈化廢氣的同時伴隨這上千度的反應溫度，較高的溫度可能會對反應裝置造成破壞。

因此，有必要研發出一種新的高溫等離子反應裝置，以能夠避免高溫對反應裝置的破壞。

發明內容

為了克服現有技術中的缺陷，本發明實施例提供了一種高溫等離子反應裝置，其能夠在對改性氣體進行洗滌的過程中，同時對裝置進行降溫，避免高溫對反應裝置的損壞。

本發明公開了一種高溫等離子反應裝置，包括：

第一管體，所述第一管體沿豎直方向設置，所述第一管體的上端設有集氣口以收集廢氣；

等離子發生器，所述等離子發生器設于所述第一管體的上端并與所述第一管體連通，以向所述第一管體中輸入高溫等離子體，進而作用于所述第一管體中的廢氣使得所述第一管體中的廢氣形成改性氣體；

第二管體，所述第二管體套設于所述第一管體的外部以在所述第二管體和所述第一管體之間形成噴淋腔，所述第一管體的底端與所述第二管體連通以使所述第一管體中的改性氣體能夠進入所述第二管體中；

噴淋裝置，所述噴淋裝置設于所述噴淋腔中以向所述噴淋腔中噴灑液體，進而對所述第二管體中的改性氣體進行洗滌；

液體槽，所述液體槽設于所述第二管體的底部，所述液體槽與所述噴淋裝置連通以向所述噴淋裝置中輸入液體，所述液體槽與所述第二管體連通以排出所述第二管體中的液體；

其中，所述第二管體設有出氣口以排出所述噴淋腔中洗滌后的氣體；

其中，所述液體的溫度低于所述改性氣體的溫度并低于所述第一管體內的溫度。

作為優選，所述第一管體和所述第二管體同軸設置。

作為優選，所述噴淋裝置包括多個第一噴淋頭以及第一噴淋管路，多個所述第一噴淋頭通過所述第一噴淋管路與所述液體槽連通。

進一步優選，任意一個所述第一噴淋頭通過支架立設于所述噴淋腔中。

進一步優選，任意一個所述第一噴淋頭固定于所述第二管體的內壁上。

作為優選，所述第一管體包括第一分段和與所述第一分段連接的第二分段，所述第二分段設于所述第一分段的下端，所述第一分段的材質為陶瓷，所述第二分段的材質為不銹鋼。

進一步優選，所述第二分段的外壁連接有多個第二噴淋頭，所述第二噴淋頭通過第二噴淋管路與所述液體槽連通。

作為優選，所述第二管體的材質為不銹鋼。

本發明的有益效果如下：