[發(fā)明專利]一種氣體靜壓軸承氣膜流場觀測裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011138201.X
• 申請日: 2020-10-22
• 公開（公告）號: CN112556964B
• 公開（公告）日: 2022-12-09
• 發(fā)明（設計）人: 陳國達;盧奇;陳燚杰
• 申請（專利權）人: 浙江工業(yè)大學
• 主分類號: G01M9/00
• 分類號: G01M9/00
• 代理公司: 杭州天正專利事務所有限公司 33201
• 代理人: 王兵

1.一種氣體靜壓軸承氣膜流場觀測裝置，其特征在于：包括軸承系統(tǒng)和氣源系統(tǒng)；

所述軸承系統(tǒng)包括電控升降臺（3）、止推板（4）和測試板（5），電控升降臺（3）包括水平設置的底盤和升降平臺，底盤與升降平臺之間設有剪型升降支撐結構，剪型升降支撐結構與驅動剪型升降支撐結構升降的驅動裝置連接；升降平臺上水平放置有止推板（4），止推板（4）的上表面設有若干未貫穿止推板（4）的節(jié)流孔，止推板（4）的側壁面開設有自側壁面向內部延伸的供氣孔，供氣孔與節(jié)流孔連通；止推板（4）上水平放置有測試板（5），測試板（5）呈透明的圓板狀；測試板（5）的上方設有用于拍攝氣膜流場的CCD相機（6），CCD相機（6）的鏡頭對準測試板（5）；

電控升降臺（3）的兩側對稱設有機架（1），機架（1）的頂部設有互相平行的第一絲桿和導軌，第一絲桿與機架（1）螺接，導軌位于靠近測試板（5）的一側，且第一絲桿的軸心線垂直于測試板（5）的軸心線；第一絲桿的一端與第一步進電機連接，另一端與夾緊塊（2）連接，夾緊塊（2）的底部滑動置于導軌內，兩個夾緊塊（2）朝向相對的兩個面為夾緊面，夾緊塊（2）的夾緊面大致呈V形，兩個夾緊塊（2）能將測試板（5）夾緊在兩個夾緊面之間；

所述氣源系統(tǒng)包括用于產生高壓氣體的氣源發(fā)生器（9）、用于對高壓氣體進行過濾凈化、減壓、穩(wěn)壓和控溫的氣體處理裝置（8）、以及用于釋放均勻的熒光粒子的熒光粒子存儲裝置（7），氣源發(fā)生器（9）通過氣管依次連接氣體處理裝置（8）、熒光粒子存儲裝置（7）和止推板（4）的供氣孔，并在止推板（4）與測試板（5）之間形成渦旋情況隨供氣壓力變化而改變的氣膜。

2.如權利要求1所述的一種氣體靜壓軸承氣膜流場觀測裝置，其特征在于：所述剪型升降支撐結構包括第一剪叉桿和第二剪叉桿，第一剪叉桿和第二剪叉桿通過鉸鏈軸裝配成剪叉結構，升降平臺和底盤相互靠近的表面分別設有上滑軌和下滑軌，第一剪叉桿的一端與升降平臺鉸接、另一端通過第一滑動件安裝在下滑軌中，第二剪叉桿的一端與底盤鉸接、另一端通過第二滑動件安裝在上滑軌中；所述驅動裝置包括第二步進電機（3-1）和第二絲桿（3-3），第二絲桿（3-3）與底盤一端螺接，第二絲桿（3-3）的兩端部分別與第一滑動件和第二步進電機（3-1）連接；第二步進電機（3-1）驅動第二絲桿（3-3）轉動從而帶動剪叉結構升降。