[發(fā)明專利]一種氮化物單晶生長(zhǎng)裝置及方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011133464.1 | 申請(qǐng)日: | 2020-10-21 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112430848B | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-09-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王智勇;黃瑞;蘭天;李穎 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C30B29/40 | 分類號(hào): | C30B29/40;C30B15/34;C30B15/14;C30B15/20;C30B15/02 |
| 代理公司: | 北京路浩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002 | 代理人: | 鄭朝然 |
| 地址: | 100022 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 氮化物 生長(zhǎng) 裝置 方法 | ||
1.一種氮化物單晶生長(zhǎng)裝置,其特征在于,包括:反應(yīng)室、坩堝、加熱器、第一電極和單晶生長(zhǎng)模塊,其中,所述反應(yīng)室為密閉的,所述坩堝位于所述反應(yīng)室內(nèi),所述加熱器用于對(duì)所述坩堝加熱,每一單晶生長(zhǎng)模塊位于所述坩堝內(nèi),所述坩堝用于放置目標(biāo)金屬熔體,所述第一電極的至少部分用于浸沒(méi)于所述目標(biāo)金屬熔體中,所述目標(biāo)金屬為所述目標(biāo)氮化物中對(duì)應(yīng)的金屬;
所述單晶生長(zhǎng)模塊包括第二電極、籽晶夾持器、籽晶桿、目標(biāo)氮化物籽晶和導(dǎo)模板,其中,所述導(dǎo)模板位于所述坩堝內(nèi),所述籽晶夾持器的下端與所述籽晶桿的上端連接,所述籽晶桿的下端與所述目標(biāo)氮化物籽晶的上端連接,所述目標(biāo)氮化物籽晶的下端位于所述導(dǎo)模板的上方,所述第二電極環(huán)繞所述籽晶桿,以使得所述第二電極與所述導(dǎo)模板上沉積的目標(biāo)氮化物晶體之間形成電場(chǎng);
所述第一電極與目標(biāo)電源的負(fù)極連接,所述第二電極與所述目標(biāo)電源的正極連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氮化物單晶生長(zhǎng)裝置,其特征在于,所述目標(biāo)電源的大小可調(diào)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氮化物單晶生長(zhǎng)裝置,其特征在于,還包括第一調(diào)節(jié)模塊,所述第一調(diào)節(jié)模塊與所述導(dǎo)模板連接,用于調(diào)節(jié)所述導(dǎo)模板的狹縫長(zhǎng)度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氮化物單晶生長(zhǎng)裝置,其特征在于,還包括第二調(diào)節(jié)模塊,所述第二調(diào)節(jié)模塊與所述導(dǎo)模板連接,用于調(diào)節(jié)所述導(dǎo)模板的狹縫寬度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氮化物單晶生長(zhǎng)裝置,其特征在于,還包括第三調(diào)節(jié)模塊,所述第三調(diào)節(jié)模塊與所述籽晶夾持器連接,用于控制所述籽晶夾持器在豎直方向上下移動(dòng),且移動(dòng)速度可調(diào)。
6.一種基于權(quán)利要求1至5任一所述的氮化物單晶生長(zhǎng)裝置的氮化物單晶生長(zhǎng)方法,其特征在于,包括:
向所述反應(yīng)室內(nèi)通入氮?dú)庵令A(yù)設(shè)壓力狀態(tài),通過(guò)所述加熱器將所述坩堝的加熱至預(yù)設(shè)溫度;
將所述第一電極與所述目標(biāo)電源的負(fù)極連接,所述任一單晶生長(zhǎng)模塊的所述第二電極與所述目標(biāo)電源的正極連接;
確定所述目標(biāo)氮化物熔體沿著所述導(dǎo)模板中的毛細(xì)管爬升至所述導(dǎo)模板上部平臺(tái)處,控制所述籽晶夾持器通過(guò)所述籽晶桿帶動(dòng)所述目標(biāo)氮化物籽晶,以使所述氮化物籽晶接觸爬升上來(lái)的所述目標(biāo)氮化物晶體;
取出所述目標(biāo)氮化物籽晶。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的氮化物單晶生長(zhǎng)方法,其特征在于,還包括:
若所述目標(biāo)氮化物晶體的沉淀高度達(dá)到預(yù)設(shè)閾值,則通過(guò)所述籽晶夾持器帶動(dòng)所述目標(biāo)氮化物籽晶向上運(yùn)動(dòng),拉制單晶。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的氮化物單晶生長(zhǎng)方法,其特征在于,所述向所述反應(yīng)室內(nèi)通入氮?dú)庵令A(yù)設(shè)壓力狀態(tài),且所述坩堝的溫度為預(yù)設(shè)溫度,之前還包括:
將固體目標(biāo)金屬材料放置在所述坩堝底部,密封所述反應(yīng)室,抽出所述反應(yīng)室內(nèi)的其它氣體,向所述反應(yīng)室內(nèi)通入氮?dú)猓ㄟ^(guò)所述加熱器將所述坩堝加熱至所述預(yù)設(shè)溫度,所述目標(biāo)金屬材料與所述目標(biāo)氮化物相對(duì)應(yīng)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的氮化物單晶生長(zhǎng)方法,其特征在于,所述取出所述目標(biāo)氮化物籽晶之后還包括:
若所述目標(biāo)氮化物晶體的沉淀高度達(dá)到預(yù)設(shè)閾值,斷開(kāi)所述第一電極、所述第二電極與所述目標(biāo)電源的連接,斷開(kāi)所述加熱器的電源,停止加熱,待所述反應(yīng)室內(nèi)的溫度冷卻至室溫,將所述目標(biāo)氮化物晶體從所述反應(yīng)室內(nèi)取出。
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