[發(fā)明專(zhuān)利]烘焙模型AO貼圖的方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011124881.X
• 申請(qǐng)日: 2020-10-20
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112419459B
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-09-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳思敏
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 上海嗶哩嗶哩科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G06T15/00
• 分類(lèi)號(hào): G06T15/00;G06T15/50;G06T19/20
• 代理公司: 北京英特普羅知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11015
• 代理人: 程超

1.一種烘焙模型AO貼圖的方法，其特征在于，包括：

獲取待烘焙模型和所述待烘焙模型的貼圖坐標(biāo)信息；

在第一位置設(shè)置攝像機(jī)，其中，所述待烘焙模型位于所述攝像機(jī)的視場(chǎng)內(nèi)；

通過(guò)所述攝像機(jī)渲染所述待烘焙模型的SSAO圖；其中，SSAO圖中的坐標(biāo)對(duì)應(yīng)所述待烘焙模型的頂點(diǎn)；

將所述SSAO圖中的色值信息寫(xiě)入所述貼圖坐標(biāo)信息的對(duì)應(yīng)坐標(biāo)，得到所述第一位置對(duì)應(yīng)的AO子圖；

計(jì)算多個(gè)位置對(duì)應(yīng)的所述AO子圖的均值，得到所述待烘焙模型的AO圖；

其中，將所述SSAO圖中的色值信息寫(xiě)入所述貼圖坐標(biāo)信息的對(duì)應(yīng)坐標(biāo)，得到所述第一位置對(duì)應(yīng)的AO子圖的步驟包括：

以所述貼圖坐標(biāo)信息作為所述待烘焙模型的材質(zhì)，通過(guò)所述攝像機(jī)，渲染所述待烘焙模型，得到坐標(biāo)關(guān)系圖；

將所述SSAO圖中的色值信息作為所述AO子圖中的色值信息，將所述坐標(biāo)關(guān)系圖中的色值信息作為所述AO子圖中的坐標(biāo)，得到所述第一位置對(duì)應(yīng)的AO子圖。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的烘焙模型AO貼圖的方法，其特征在于，還包括：

獲取球模型；

將所述待烘焙模型設(shè)置于所述球模型的球心；

縮放所述待烘焙模型，以使所述待烘焙模型各頂點(diǎn)至所述球心的距離均小于或等于所述球模型的半徑；

其中，所述第一位置為所述球模型上的一個(gè)頂點(diǎn)，所述多個(gè)位置為所述球模型上的多個(gè)頂點(diǎn)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的烘焙模型AO貼圖的方法，其特征在于，所述球模型為幾何球模型。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的烘焙模型AO貼圖的方法，其特征在于，

所述第一位置對(duì)應(yīng)的AO子圖用數(shù)組表示，其中，所述數(shù)組的元素包括貼圖坐標(biāo)和遮蔽度；

將所述SSAO圖中的色值信息作為所述AO子圖中的色值信息，將所述坐標(biāo)關(guān)系圖中的色值信息作為所述AO子圖中的坐標(biāo)，得到所述第一位置對(duì)應(yīng)的AO子圖的步驟包括：

提取所述坐標(biāo)關(guān)系圖中第一坐標(biāo)的色值信息，得到第一色值信息，其中，所述第一坐標(biāo)為所述待烘焙模型的屏幕坐標(biāo)；

將所述第一色值信息轉(zhuǎn)換為第一UV坐標(biāo)；

判斷所述第一UV坐標(biāo)是否為0；

若所述UV坐標(biāo)為0，將所述第一UV坐標(biāo)作為所述數(shù)組中第一元素的貼圖坐標(biāo)，將0作為所述第一元素的遮蔽度；

若所述第一UV坐標(biāo)不為0，提取所述SSAO圖中對(duì)應(yīng)所述第一坐標(biāo)的色值信息，得到第二色值信息；

將所述第一UV坐標(biāo)作為所述第一元素的貼圖坐標(biāo)，將所述第二色值信息作為所述第一元素的遮蔽度。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的烘焙模型AO貼圖的方法，其特征在于，

所述數(shù)組還包括采樣次數(shù)，所述烘焙模型AO貼圖的方法還包括：若所述第一UV坐標(biāo)為0，將0作為所述第一元素的采樣次數(shù)；若所述第一UV坐標(biāo)不為0，將1作為所述第一元素的采樣次數(shù)；

計(jì)算多個(gè)位置對(duì)應(yīng)的所述AO子圖的均值，得到所述待烘焙模型的AO圖的步驟包括：

計(jì)算所述多個(gè)位置對(duì)應(yīng)的數(shù)組中所述第一元素的遮蔽度的和，得到第一總遮蔽度；

計(jì)算所述多個(gè)位置對(duì)應(yīng)的數(shù)組中所述第一元素的采樣次數(shù)的和，得到第一總采樣次數(shù)；

計(jì)算所述第一總遮蔽度和所述第一總采樣次數(shù)的商，得到所述AO圖中所述第一元素的貼圖坐標(biāo)處的遮蔽度。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的烘焙模型AO貼圖的方法，其特征在于，所述烘焙模型AO貼圖的方法還包括：

若所述第一UV坐標(biāo)為0，將所述第一UV坐標(biāo)的臨近UV坐標(biāo)作為第二元素的貼圖坐標(biāo)，將0作為所述數(shù)組中第二元素的遮蔽度，其中，所述臨近UV坐標(biāo)與所述第一UV坐標(biāo)相鄰或間隔N個(gè)坐標(biāo)，N小于預(yù)設(shè)閾值；

若所述第一UV坐標(biāo)不為0，將所述臨近UV坐標(biāo)作為所述第二元素的貼圖坐標(biāo)，將所述第二色值信息作為所述第二元素的遮蔽度。