[發(fā)明專利]異物檢查裝置和異物檢查方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011104108.7 | 申請(qǐng)日: | 2020-10-15 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112666175A | 公開(公告)日: | 2021-04-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 飯野正義;中野裕已;矢澤康弘;前田浩平;中島大輔 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 佳能株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G01N21/94 | 分類號(hào): | G01N21/94;H01L21/66 |
| 代理公司: | 中國(guó)貿(mào)促會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038 | 代理人: | 宋巖 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 異物 檢查 裝置 方法 | ||
1.一種異物檢查裝置,所述異物檢查裝置檢查包括檢查區(qū)域和布置在所述檢查區(qū)域外側(cè)的非檢查區(qū)域的被檢查物體上的異物的存在/不存在,所述裝置包括:
傳感器,被配置成照明所述被檢查物體并且輸出通過檢測(cè)來自包括所述檢查區(qū)域的區(qū)域的光而獲取的結(jié)果作為圖像;以及
處理器,被配置成基于通過從所述傳感器輸出的所述圖像中排除作為所述非檢查區(qū)域的圖像的非檢查區(qū)域圖像而獲取的檢查區(qū)域圖像來檢測(cè)異物,
其中,所述非檢查區(qū)域圖像包括通過來自所述被檢查物體的所述非檢查區(qū)域的預(yù)定部分的光而生成的第一部分和其像素值從所述第一部分的像素值起連續(xù)的第二部分,并且所述處理器基于所述第二部分的像素值從所述第一部分的像素值起連續(xù)的事實(shí)來指定所述第二部分。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的異物檢查裝置,其中,所述處理器基于所述預(yù)定部分的特征來識(shí)別所述第一部分。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的異物檢查裝置,其中,所述非檢查區(qū)域包括框狀部,并且所述預(yù)定部分是所述框狀部的角部。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的異物檢查裝置,其中,所述第一部分和所述第二部分由各自具有不小于預(yù)定值的像素值的像素形成,并且在相鄰像素中的每個(gè)像素具有不小于預(yù)定值的像素值的情況下,所述處理器確定所述相鄰像素的像素值具有連續(xù)性。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的異物檢查裝置,其中,所述第一部分和所述第二部分由各自具有飽和像素值的像素形成,并且在相鄰像素中的每個(gè)像素具有飽和像素值的情況下,所述處理器確定所述相鄰像素的像素值具有連續(xù)性。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的異物檢查裝置,其中,所述傳感器包括光照射器和光檢測(cè)器,所述光照射器被配置成以相對(duì)于所述被檢查物體的表面的法線傾斜的角度用光照射所述表面,所述光檢測(cè)器被配置成檢測(cè)來自所述表面上的異物的光。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的異物檢查裝置,其中,所述處理器通過將基于預(yù)設(shè)信息從所述檢查區(qū)域圖像中提取的圖像設(shè)定為檢查目標(biāo)來檢測(cè)異物。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的異物檢查裝置,其中,所述處理器控制顯示單元以便顯示所述檢查區(qū)域圖像。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的異物檢查裝置,其中,所述處理器控制所述顯示單元,使得異物檢查結(jié)果將被疊加并顯示在所述檢查區(qū)域圖像上。
10.一種異物檢查方法,所述異物檢查方法用于檢查包括檢查區(qū)域和布置在所述檢查區(qū)域外側(cè)的非檢查區(qū)域的被檢查物體上的異物,所述方法包括:
照明所述被檢查物體并且獲取通過檢測(cè)來自所述檢查區(qū)域的光而獲取的結(jié)果作為圖像;以及
基于通過從所述獲取中獲取的所述圖像中排除作為所述非檢查區(qū)域的圖像的非檢查區(qū)域圖像而獲取的檢查區(qū)域圖像來檢測(cè)異物,
其中,所述非檢查區(qū)域圖像包括通過來自所述被檢查物體的所述非檢查區(qū)域的預(yù)定部分的光而生成的第一部分和其像素值從所述第一部分的像素值起連續(xù)的第二部分,并且基于所述第二部分的像素值從所述第一部分的像素值起連續(xù)的事實(shí)在所述檢測(cè)中識(shí)別所述第二部分。
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