[發(fā)明專利]激光照射裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011101674.2
• 申請日: 2020-10-15
• 公開（公告）號: CN113441853A
• 公開（公告）日: 2021-09-28
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 林東彥;金泳植;金志洙;金炫眞;柳壎澈
• 申請（專利權(quán)）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: B23K26/53
• 分類號: B23K26/53;B23K26/70;H01L27/12
• 代理公司: 北京金宏來專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11641
• 代理人: 樸英淑

1.一種激光照射裝置，包括：

光學(xué)系統(tǒng)，照射激光束；

密封盒，包括截斷從所述光學(xué)系統(tǒng)提供的所述激光束的兩末端來使所述激光束通過的多個光束切割器；

腔體，包括支承基板的工作臺，以向該基板照射從所述密封盒提供的所述激光束；

排氣部，與所述密封盒連接；

第一傳感器，配置在所述密封盒內(nèi)，且測量所述密封盒內(nèi)的溫度；以及

控制部，根據(jù)由所述第一傳感器測量出的測量溫度，控制所述排氣部使得所述排氣部的排氣壓力可變。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光照射裝置，其中，

所述測量溫度越高，所述排氣壓力越增加。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的激光照射裝置，其中，

所述排氣部包括通過所述控制部的控制而旋轉(zhuǎn)的排氣扇，

所述排氣扇的每分鐘轉(zhuǎn)速根據(jù)所述測量溫度而可變。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的激光照射裝置，其中，

在所述測量溫度小于或等于基準(zhǔn)溫度時，以第一每分鐘轉(zhuǎn)速驅(qū)動所述排氣扇。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的激光照射裝置，其中，

在所述測量溫度大于所述基準(zhǔn)溫度時，以比所述第一每分鐘轉(zhuǎn)速大的第二每分鐘轉(zhuǎn)速驅(qū)動所述排氣扇。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的激光照射裝置，其中，

所述第一每分鐘轉(zhuǎn)速具有比500每分鐘轉(zhuǎn)速小的值，所述第二每分鐘轉(zhuǎn)速具有大于或等于所述500每分鐘轉(zhuǎn)速的值，

所述測量溫度越高，所述第二每分鐘轉(zhuǎn)速的值越增加。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的激光照射裝置，還包括：

第二傳感器，配置在所述密封盒內(nèi)，且測量所述密封盒內(nèi)的壓力，

所述控制部根據(jù)由所述第二傳感器測量出的測量壓力來控制所述排氣部，使得所述排氣部的排氣壓力可變。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的激光照射裝置，其中，

所述測量壓力越高，所述排氣壓力越增加。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的激光照射裝置，其中，

在所述測量壓力小于或等于基準(zhǔn)壓力時，以第一每分鐘轉(zhuǎn)速驅(qū)動所述排氣扇。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的激光照射裝置，其中，

在所述測量壓力大于所述基準(zhǔn)壓力時，以比第一每分鐘轉(zhuǎn)速大的第二每分鐘轉(zhuǎn)速驅(qū)動所述排氣扇，

所述測量壓力越大，所述第二每分鐘轉(zhuǎn)速的值越增加。