[發(fā)明專利]一種耐伽瑪射線輻照聚脲材料及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011094016.5 | 申請日: | 2020-10-14 |
| 公開(公告)號: | CN112341916A | 公開(公告)日: | 2021-02-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 郭輝;陳玉;姜欣怡;蔣林志;盧春江;凌星鵬 | 申請(專利權(quán))人: | 西南科技大學(xué) |
| 主分類號: | C09D175/02 | 分類號: | C09D175/02;C09D7/63;C08G18/50 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 621010 四*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 耐伽瑪 射線 輻照 材料 及其 制備 方法 | ||
1.一種抗伽瑪射線輻照聚脲彈性體材料,其特征在于,原料包含A和B兩種組分,所述A組分為多異氰酸酯,占比為20~30質(zhì)量份;所述B組分中聚四亞甲基醚二對氨基苯甲酸酯,占比為65~75質(zhì)量份;B組分中助劑為受阻酚類抗氧化劑、活性稀釋劑、偶聯(lián)劑、流平劑,占比為5~10質(zhì)量份。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗伽瑪射線輻照聚脲材料,其特征在于,A組分和B組分的摩爾比為1.05:1混合涂刷和灌注組成;所述A組分多異氰酸酯為二苯基甲烷二異氰酸酯及其衍生物、異佛爾酮二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、二甲基二苯基甲烷二異氰酸酯中的一種或幾種組合。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗伽瑪射線輻照聚脲材料,其特征在于,所述B組分中聚四亞甲基醚二對氨基苯甲酸酯選自Versalink系列端氨基聚醚P250、P650和P1000中的一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗伽瑪射線輻照聚脲材料,其特征在于,所述受阻酚類抗氧化劑為3, 5-二叔丁基-4-羥基苯丙酸異辛酯,N, N,-雙-[3-(3,5-二叔丁基-4-羥基苯基)丙酰基]己二胺,3, 5-二叔丁基-4-羥基苯基丙酸十八酯中的任意一種,質(zhì)量占比為0.3~0.8%。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗伽瑪射線輻照聚脲材料,其特征在于,所述活性稀釋劑為亞烷基碳酸酯,質(zhì)量占比為3~7%。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗伽瑪射線輻照聚脲材料,其特征在于,所述偶聯(lián)劑為γ-氨丙基三乙氧基硅烷、N-(β-氨乙基)- γ-氨丙基三乙氧基硅烷中的任意一種,質(zhì)量占比為0.5~1%。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗伽瑪射線輻照聚脲材料,其特征在于,所述流平劑為BYK-359,最優(yōu)質(zhì)量占比為0.5~1%。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-7所述的抗伽瑪射線輻照聚脲材料,其特征在于,以待制備的質(zhì)量百分含量計,所述制備方法為:將聚四亞甲基醚二對氨基苯甲酸酯添加到反應(yīng)釜中,真空脫水2.5小時后,依次加入抗氧化劑、活性稀釋劑、偶聯(lián)劑和流平劑,并繼續(xù)真空脫水0.5小時,然后加入異氰酸酯固化劑混合均勻后出料,經(jīng)灌注和涂刷即得抗伽瑪射線輻照聚脲材料。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-8任一權(quán)利要求所述的抗伽瑪射線輻照聚脲材料主要替代環(huán)氧樹脂涂料,乙烯樹脂涂料、有機(jī)硅涂料等,主要用于核電站反應(yīng)堆和排污設(shè)備等部位,起到隔離射線,防潮去污的作用。
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