[發明專利]可控制的光透射率調控裝置及系統

在審

• 申請號: 202011091106.9
• 申請日: 2020-10-13
• 公開（公告）號: CN112213870A
• 公開（公告）日: 2021-01-12
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 金華伏安光電科技有限公司
• 主分類號: G02F1/01
• 分類號: G02F1/01
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明涉及可控制的光透射率調控裝置及系統，特別是涉及透射率調控技術領域。本申請提供的可控制的光透射率調控裝置包括：基底、半導體層、第一金屬層、第二金屬層、第一壓電部和第二壓電部；當需要對光透射率進行調節的時候，改變該第一壓電部和第二壓電部上的壓力，使得該第一壓電部和第二壓電部產生電荷，該電荷沿第一金屬層和第二金屬層進行傳遞，并且由于局域位點的強電場產生的高能孔洞驅動反應，在強電場區域等離子體誘導電荷分離的氧化反應使得產生氧化鉛沉積，使得金屬層的透射率發生變化，繼而完成對光的透射率的調控，本申請提供的裝置通過對鉛離子的氧化反應與沉積，改變該光的透射率。

技術領域

本發明涉及透射率調控技術領域，特別是涉及一種可控制的光透射率調控裝置及系統。

背景技術

光透射率是表示透明體透過光的程度，通常用透過后的光通量與入射光通量之比來表征物體的透光性質。在不同的場景下，對光的透射率有不同的要求，比如，白天我們需要玻璃透射率強晚上透光率弱；寫作業的臺燈可能有時想要光透射率強有時想要光透射率弱；光學實驗室，在測試時我們需要照明的燈光透射率弱不測試時要光透射率強。但是不同條件下，往往不能較容易的調節光透射率。

現有技術中，一般調控透光體的光透射率是通過鍍膜，在原有的透光體上鍍有增加光透射率的膜或者減少光透射率的膜，以改變投光體的光透射率。

但是，上述采用鍍膜的方法改變光透射率，不僅成本高，且需要一定的鍍膜工藝，且調節光透射率的過程是不可逆的。

發明內容

本發明的目的在于，針對上述現有技術中的不足，提供一種可控制的光透射率調控裝置及系統，以解決現有技術中采用鍍膜的方法改變光透射率，不僅成本高，且需要一定的鍍膜工藝，且調節光透射率的過程是不可逆的問題。

為實現上述目的，本發明實施例采用的技術方案如下：

第一方面，本申請提供一種可控制的光透射率調控裝置，裝置包括：基底、半導體層、第一金屬層、第二金屬層、第一壓電部和第二壓電部；第二金屬層設置在第一金屬層的一側，第一壓電部和第二壓電部分別設置在第一金屬層和第二金屬層的兩端，第一金屬層和第二金屬層之間存在間隙，第一金屬層和第二金屬層的結構均包括多個周期排列的金屬結構，第一金屬層和第二金屬層中的金屬結構的空隙中填充有鉛離子溶液，半導體層設置在第一金屬層遠離第二金屬層的一側，基底設置在半導體層遠離第一金屬層的一側。

可選地，該第一金屬層和第二金屬層中的金屬結構為長方體。

可選地，該第一金屬層和第二金屬層中的金屬結構為梭子形金屬結構。

可選地，該第一金屬層和第二金屬層中兩個相鄰的金屬結構之間的間距為2nm-60nm。

可選地，該第一金屬層中的金屬結構與第二金屬層中的金屬結構在半導體層上的投影不重合。

可選地，該基底的材料為柔性材料。

可選地，該半導體層的材料為二氧化鈦。

可選地，該第一壓電部和第二壓電部的材料為聚偏氟乙烯壓電膜。

可選地，該第一金屬層和第二金屬層中的金屬結構的材料為金。

第二方面，本申請提供一種可控制的光透射率調控系統，系統包括：壓力釋放結構和第一方面任意一項的可控制的光透射率調控裝置，壓力釋放結構設置在第一壓電部和第二壓電部上，用于對第一壓電部和第二壓電部釋放壓力。

本發明的有益效果是：