[發明專利]一種可抑制超臨界流體流量分配偏差的通道結構

有效

• 申請號: 202011089489.6
• 申請日: 2020-10-13
• 公開（公告）號: CN112228905B
• 公開（公告）日: 2022-01-21
• 發明（設計）人: 姜俞光;周啟林;王常偉;張晉;范瑋
• 申請（專利權）人: 西北工業大學
• 主分類號: F23R3/28
• 分類號: F23R3/28;F02K7/10;F02K7/14
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種可抑制超臨界流體流量分配偏差的通道結構，其特征在于：包括冷劑進口、進口集液腔室、液態腔室、混合腔室、超臨界態腔室、出口集液腔室及冷劑出口，所述液態腔室包括多個平行設置的等截面流道，所述混合腔室包括多個規律設置的楔形擾流結構，所述超臨界態腔室包括多個等間隔設置的變截面流道，所述等截面流道的數量及位置同所述變截面流道分別對應；

所述混合腔室中心位置設置在傳統通道結構高溫流道臨界態流體處，所述混合腔室流向長度大于10倍的所述液態腔室流道寬度，所述傳統通道結構為整體內流道均采用液態腔室內流道結構設計的通道結構；

所述楔形擾流結構同所述液態腔室流道間隔錯位布置，所述楔形擾流結構寬度等于所述液態腔室流道寬度；

所述變截面流道中進出口截面面積比大于0.5且小于1。