[發明專利]陣列基板及其制作方法、顯示面板

有效

• 申請號: 202011088930.9
• 申請日: 2020-10-13
• 公開（公告）號: CN112241089B
• 公開（公告）日: 2022-07-12
• 發明（設計）人: 唐維;黃建龍;曹志浩
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電技術有限公司
• 主分類號: G02F1/1362
• 分類號: G02F1/1362;G02F1/1335;H01L27/12;H01L21/77
• 代理公司: 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570
• 代理人: 何志軍

本發明提供一種陣列基板，該陣列基板包括源漏極層，源漏極層包括第一鈦金屬層，第二鈦金屬層，以及設置在第一鈦金屬層和第二鈦金屬層之間的鋁金屬層，鋁金屬層未被第一鈦金屬層和第二鈦金屬層覆蓋的側面具有缺陷，陣列基板還包括黑色矩陣層，黑色矩陣層至少覆蓋上述缺陷，以使源漏極層具有缺陷的側面呈平面黑色矩陣層。本發明提供的陣列基板應用于液晶顯示面板，在給液晶顯示面板提供背光之后，由于源漏極層的側面為平面，因此照射至源漏極層的側面的光線均向彩膜基板側的黑色矩陣匯聚進而被彩膜基板側的黑色矩陣遮擋，解決了液晶顯示面板的顯示畫面出現黑階條紋的問題。本發明還提供該陣列基板的制作方法以及具有該陣列基板的顯示面板。

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種陣列基板及其制作方法，以及具有該陣列基板的顯示面板。

背景技術

液晶顯示面板包括相對設置的陣列基板和彩膜基板，其中，陣列基板包括源漏極層，源漏極層包括源極、漏極以及與源極一體設置的數據線。源漏極層是由一金屬層經過圖案化制成，該金屬層通常采用鈦(Ti)-鋁(Al)-鈦的疊層結構。因為該圖案化制程包含曝光蝕刻工藝，同時因為鋁較鈦更容易被蝕刻，因此圖案化的源漏極層容易出現側向蝕刻嚴重的問題，如圖1所示，源漏極層中的鋁層的側面容易出現缺陷，如各種凹槽。

在給液晶顯示面板提供背光之后，照射至源漏極層的側面的光線會在上述凹槽處發生如圖2所示的雜亂無章的反射，其中的大部分反射光由于無法被彩膜基板側的黑色矩陣(BM)遮擋，導致液晶顯示面板的顯示畫面中出現黑階條紋。

發明內容

因此，有必要提供一種陣列基板及其制作方法，用以解決現有技術中因源漏極層側向蝕刻嚴重導致的液晶顯示面板的顯示畫面中出現黑階條紋的技術問題。

第一方面，本發明提供一種陣列基板，包括源漏極層，所述源漏極層包括第一鈦金屬層，第二鈦金屬層，以及設置在所述第一鈦金屬層和所述第二鈦金屬層之間的鋁金屬層，所述鋁金屬層未被所述第一鈦金屬層和所述第二鈦金屬層覆蓋的側面具有缺陷，所述陣列基板還包括黑色矩陣層，所述黑色矩陣層至少覆蓋所述缺陷，以使所述源漏極層具有所述缺陷的側面呈平面。

在一些實施例中，所述黑色矩陣層僅覆蓋所述缺陷。

在一些實施例中，所述黑色矩陣層完全覆蓋所述源漏極層具有所述缺陷的側面。

在一些實施例中，所述黑色矩陣層填充所述缺陷。

在一些實施例中，所述黑色矩陣層完全覆蓋所述源漏極層除底面外的所有外表面。

在一些實施例中，所述黑色矩陣層填充所述缺陷。

在一些實施例中，所述黑色矩陣層與所述源漏極層通過同一道光罩制程制備形成。

第二方面，本發明提供一種陣列基板的制作方法，所述陣列基板的制作方法至少包括以下步驟：

在層間介質層上設置金屬層，并圖案化所述金屬層形成源漏極層；其中，所述源漏極層包括第一鈦金屬層，第二鈦金屬層，以及設置在所述第一鈦金屬層和所述第二鈦金屬層之間的鋁金屬層，所述鋁金屬層未被所述第一鈦金屬層和所述第二鈦金屬層覆蓋的側面具有缺陷；以及

制備至少覆蓋所述缺陷的黑色矩陣層，以使所述源漏極層具有所述缺陷的側面呈平面。

在一些實施例中，所述黑色矩陣層與所述源漏極層通過同一道光罩制程制備形成。

第三方面，本發明提供一種顯示面板，所述顯示面板包括上述的陣列基板。

本發明提供的陣列基板通過在源漏極層上設置黑色矩陣層以至少覆蓋源漏極層側面的缺陷，當該陣列基板應用于液晶顯示面板中時，由于源漏極層的側面為平面，因此在給液晶顯示面板提供背光之后，照射至源漏極層側面的光線均向彩膜基板側的黑色矩陣匯聚進而被彩膜基板側的黑色矩陣遮擋，解決了液晶顯示面板的顯示畫面出現黑階條紋的問題，改善了顯示效果。