[發(fā)明專利]蒸鍍用掩模以及有機EL顯示面板的制造方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 202011083653.2
• 申請日: 2020-10-12
• 公開（公告）號: CN112662992A
• 公開（公告）日: 2021-04-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 杉本晃
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社日本有機雷特顯示器
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56;H01L27/32
• 代理公司: 北京信慧永光知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11290
• 代理人: 王玉玲;李雪春

本發(fā)明提供一種掩模，在與能夠追加開口的顯示面板的顯示區(qū)域外對應(yīng)的蒸鍍用掩模尤其是用于形成評價用試驗片的蒸鍍用掩模中，即使施加拉伸應(yīng)力，也難以發(fā)生開口的變形以及位置的移動。所述蒸鍍用掩模在制造顯示面板時的氣相生長工序中使用，在為了在所述顯示面板的顯示區(qū)域外側(cè)的面板表面形成質(zhì)量管理用的圖案而在第一方向上施加張力的狀態(tài)下使用，是在所述第一方向上為長條的形狀，其具備：一個以上的第一區(qū)域，形成有第一開口；以及一個以上的第二區(qū)域，在所述第一方向上與所述第一區(qū)域相鄰，形成有一個以上的第二開口，所述第二開口的與所述第一方向正交的第二方向上的寬度小于所述第一開口，在所述第二方向上為長條。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及在真空蒸鍍、濺射、CVD等氣相生長法中使用的蒸鍍用掩模，尤其涉及用于制造顯示面板的掩模。

背景技術(shù)

作為顯示裝置的顯示元件，正在普及利用有機EL元件等有源元件的顯示元件。

顯示元件具有在兩個電極之間亦即陽極與陰極之間夾有功能層的結(jié)構(gòu)。作為形成功能層、電極的方法，可以利用真空蒸鍍法、濺射法、化學(xué)氣相沉積法(CVD；Chemical VaporDeposition)、原子層沉積法(ALD；Atomic Layer Deposition)等氣相生長法來進行形成。在氣相生長法中，利用使用蔭罩掩模(以下也表記為“蒸鍍用掩模”或者只表記為“掩模”)僅在必要的部位進行成膜，由此同時進行成膜以及圖案化。

掩模物理性地遮蔽基板的一部分，因此掩模開口與形成的圖案為相同的尺寸，基板尺寸與掩模尺寸也為相同的尺寸。因此，伴隨面板的大型化，需要掩模的大型化。因此，利用如下的方法：代替基板尺寸的一個掩模，將多個細長方形的掩模組合用作與一個基板對應(yīng)的掩模(例如參照專利文獻1)。

現(xiàn)有技術(shù)文獻

專利文獻1：日本專利公開公報特開2015-28214號

專利文獻2：日本專利公開公報特開2014-133934號

專利文獻3：日本專利公開公報特開2009-41061號

由于通常將金屬用于掩模，所以為了防止因熱膨脹、重力負荷等導(dǎo)致的褶皺、彎曲引起的圖案的變形，在施加拉伸應(yīng)力(張力)的狀態(tài)下保持掩模。但是，在組合多個細長方形的掩模的情況下，由于無法在短軸方向上施加拉伸應(yīng)力，所以變成僅在長軸方向上施加張力。因此，如果在掩模的開口部周圍產(chǎn)生應(yīng)力集中，則存在如下的情況：開口部周圍發(fā)生不均勻地伸展或者壓縮，發(fā)生開口的變形、位置移動，圖案化精度降低。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于，提供在與顯示面板的顯示區(qū)域外對應(yīng)的蒸鍍用掩模尤其是用于形成評價用的試驗片的蒸鍍用掩模中即使施加拉伸應(yīng)力也不易發(fā)生開口的變形以及位置的移動的掩模、以及包括使用該掩模的氣相生長工序的顯示面板的制造方法。

本發(fā)明的一個實施方式涉及的蒸鍍用掩模，其是在第一方向上為長條的形狀，在制造顯示面板時的氣相生長工序中使用，在為了在所述顯示面板的顯示區(qū)域外側(cè)的面板表面形成質(zhì)量管理用的圖案而在所述第一方向上施加了張力的狀態(tài)下使用，所述蒸鍍用掩模具備：一個以上的第一區(qū)域，形成有第一開口；以及一個以上的第二區(qū)域，在所述第一方向上與所述第一區(qū)域相鄰，形成有一個以上的第二開口，所述第二開口的與所述第一方向正交的第二方向上的寬度小于所述第一開口且在所述第二方向上為長條。

按照上述方式的蒸鍍用掩模，能夠限制施加了拉伸應(yīng)力的情況下的第一區(qū)域的最大應(yīng)力以及第二區(qū)域的最大應(yīng)力，能夠容易地抑制開口的變形以及位置的移動。因此，能夠提高發(fā)光面板的氣相生長膜的圖案化的精度。

附圖說明

圖1是實施方式的一個方式涉及的蒸鍍用掩模100的俯視概略圖以及表示使用狀態(tài)的俯視概略圖。

圖2是實施方式的一個方式涉及的蒸鍍用掩模100的俯視概略圖以及表示使用狀態(tài)的俯視概略圖。