[發(fā)明專利]高能量離子源在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011080535.6 | 申請(qǐng)日: | 2020-10-10 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112086330A | 公開(公告)日: | 2020-12-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 郭方準(zhǔn);石曉倩;朱美強(qiáng) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 大連交通大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01J3/04 | 分類號(hào): | H01J3/04;H01J3/18;H01J3/08;H01J3/10 |
| 代理公司: | 大連東方專利代理有限責(zé)任公司 21212 | 代理人: | 徐華燊;李洪福 |
| 地址: | 116028 遼寧*** | 國(guó)省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 高能量 離子源 | ||
1.一種高能量離子源,其特征在于,包括離子聚焦機(jī)構(gòu)、離子產(chǎn)生與引導(dǎo)機(jī)構(gòu)、電子發(fā)射機(jī)構(gòu)和氬氣進(jìn)入機(jī)構(gòu),所述氬氣進(jìn)入機(jī)構(gòu)的輸出端與準(zhǔn)備腔室相連,所述氬氣進(jìn)入機(jī)構(gòu)用于將氬氣采用脈沖方式通入到準(zhǔn)備腔室中,所述準(zhǔn)備腔室的上方通過第二進(jìn)氣孔與電子發(fā)射機(jī)構(gòu)相連,所述電子發(fā)射機(jī)構(gòu)包括離子發(fā)生網(wǎng)和用于通電釋放出熱電子的燈絲,所述電子發(fā)射機(jī)構(gòu)用于通過燈絲與離子發(fā)生網(wǎng)之間存在的電位差將電子束縛在離子發(fā)生網(wǎng)內(nèi)部,所述離子產(chǎn)生與引導(dǎo)機(jī)構(gòu)包括設(shè)置于所述電子發(fā)射機(jī)構(gòu)輸出端的引出極,其相對(duì)于氬離子處于負(fù)電壓,所述離子產(chǎn)生與引導(dǎo)機(jī)構(gòu)的輸出端與離子聚焦機(jī)構(gòu)相連,所述離子聚焦機(jī)構(gòu)包括聚焦透鏡,其用于對(duì)經(jīng)過電子發(fā)射機(jī)構(gòu)、離子產(chǎn)生與引導(dǎo)機(jī)構(gòu)的離子束進(jìn)一步約束。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高能量離子源,其特征在于,所述燈絲包括直徑為0.125mm的鉭絲,處于負(fù)高壓,兩端與燈絲桿相連。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高能量離子源,其特征在于,燈絲為兩根,共同使用一個(gè)公用電極。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高能量離子源,其特征在于,所述離子發(fā)生網(wǎng)為不銹鋼柵網(wǎng),圍成一個(gè)圓柱形狀,離子發(fā)生網(wǎng)對(duì)于燈絲處于正電位,電壓值在數(shù)百至數(shù)千伏特之間可調(diào)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高能量離子源,其特征在于,電子發(fā)射機(jī)構(gòu)的輸入端、輸出端均安裝有法蘭,所述第二進(jìn)氣孔與法蘭連接,法蘭的外側(cè)套接有外罩。
6.跟據(jù)權(quán)利要求5所述的高能量離子源,其特征在于,所述引出極為外罩前端的離子引導(dǎo)孔上覆蓋的柵網(wǎng),其與聚焦透鏡相鄰。
7.跟據(jù)權(quán)利要求1或6所述的高能量離子源,其特征在于,所述聚焦透鏡包括第一圓筒電極、第二圓筒電極和第三圓筒電極構(gòu)成,相鄰圓筒電極之間設(shè)有絕緣片,聚焦透鏡的外側(cè)設(shè)有絕緣外罩,所述第二圓筒電極處于正電壓,其可以通過電壓改變電阻進(jìn)行調(diào)節(jié)離子束,第一圓筒電極和第三圓筒電極接地處于零電位。
8.跟據(jù)權(quán)利要求1所述的高能量離子源,其特征在于,還包括角度可調(diào)機(jī)構(gòu),所述角度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)用于將第一進(jìn)氣孔和第二進(jìn)氣孔調(diào)整為同軸。
9.跟據(jù)權(quán)利要求1所述的高能量離子源,其特征在于,高能量離子源選用的材料為304不銹鋼和聚四氟乙烯。
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