[發明專利]溫度測量系統和溫度測量方法在審
| 申請號: | 202011060754.8 | 申請日: | 2020-09-30 |
| 公開(公告)號: | CN112697295A | 公開(公告)日: | 2021-04-23 |
| 發明(設計)人: | 吳同;永井健治 | 申請(專利權)人: | 東京毅力科創株式會社 |
| 主分類號: | G01K11/00 | 分類號: | G01K11/00 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 溫度 測量 系統 測量方法 | ||
本公開涉及溫度測量系統和溫度測量方法。對具有第一及與第一主表面相向的第二主表面的測定對象物的溫度進行測量,具備:光源部,其產生輸出光,所述輸出光包括第一及第二波長范圍,所述輸出光透過測定對象物;測定部,其測定來自第一及第二主表面的反射光的光譜;光程比計算部,其通過對光譜進行傅立葉變換來計算光程比,所述光程比為關于第一波長范圍的輸出光的光程與關于第二波長范圍的輸出光的光程之比;以及溫度計算部,其基于光程比及預先獲取到的折射率比與測定對象物的溫度之間的關系來計算測定對象物的溫度,所述折射率比為關于第一波長范圍的輸出光的在測定對象物的折射率與關于第二波長范圍的輸出光的在測定對象物的折射率。
技術領域
本公開的實施方式涉及一種溫度測量系統和溫度測量方法。
背景技術
在專利文獻1中,記載了一種利用光干涉來對測定對象物的溫度進行測量的溫度測量系統。該系統具備光源、光環形器、準直器、分光器、光程計算部以及溫度計算部。來自光源的測定光被測定對象物的兩個端面分別反射后,經由準直器和光環形器而到達分光器。分光器測定反射光的強度分布即干涉強度分布。光程計算部對干涉強度分布進行傅立葉變換,來計算與測定對象物的厚度相對應的光程。溫度計算部基于針對每個測定對象物預先測定出的表示溫度與光程之間的關系的溫度校正數據,來計算測定對象物的溫度。
專利文獻1:日本特開2012-109472號公報
發明內容
本公開提供一種能夠高精度地對測定對象物的溫度進行測定的溫度測量系統和溫度測量方法。
基于本公開的一個方式的溫度測量系統用于對具有第一主表面及與第一主表面相向的第二主表面的測定對象物的溫度進行測量,所述溫度測量系統具備:光源部,其用于產生輸出光,所述輸出光包括第一波長范圍及與所述第一波長范圍不同的第二波長范圍,所述輸出光透過所述測定對象物;至少一個光學元件,其向測定對象物的第一主表面射出來自光源部的輸出光,并且來自第一主表面和第二主表面的反射光入射到該至少一個光學元件;測定部,其與至少一個光學元件連接,來測定依賴于波長的來自第一主表面和第二主表面的反射光的光譜;光程比計算部,其通過對由測定部測定出的光譜進行傅立葉變換來計算光程比,所述光程比為關于第一波長范圍的輸出光的光程即第一光程與關于第二波長范圍的輸出光的光程即第二光程之比;溫度計算部,其基于光程比及預先獲取到的折射率比與測定對象物的溫度之間的關系,來計算測定對象物的溫度,所述折射率比為關于第一波長范圍的輸出光的在測定對象物的折射率即第一折射率與關于第二波長范圍的輸出光的在測定對象物的折射率即第二折射率之比。
根據本公開,能夠提供一種能夠高精度地對測定對象物的溫度進行測定的溫度測量系統和溫度測量方法。
附圖說明
圖1是概要性地示出一個實施方式所涉及的溫度測量系統的圖。
圖2是分光器和運算裝置的功能框圖。
圖3是說明入射光光譜和反射光光譜的概要圖。
圖4是說明反射光光譜的傅立葉變換的概要圖。
圖5是示出折射率比與測定對象物的溫度之間的關系的溫度校正數據的一例。
圖6是示出一個實施方式所涉及的溫度測量方法的流程圖。
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