[發(fā)明專利]一種晶圓蝕刻槽

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011059375.7
• 申請日: 2020-09-30
• 公開（公告）號: CN112185859A
• 公開（公告）日: 2021-01-05
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 賴情依
• 申請（專利權(quán)）人: 賴情依
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發(fā)明公開了一種晶圓蝕刻槽，其結(jié)構(gòu)包括頂蓋、蝕刻槽、控制按鈕、機(jī)體，頂蓋與機(jī)體的上端鉸鏈連接，控制按鈕與機(jī)體的前端活動卡合，蝕刻槽安裝于機(jī)體的上表面位置，通過晶圓及其上表面的蝕刻液對承載塊產(chǎn)生的壓力，能夠使承載塊上的吸附盤受擠壓在收縮板的配合下向下收縮，從而使密封塊能夠?qū)ξ奖P的中部進(jìn)行密封，故而使吸附盤能夠受擠壓對晶圓的底部進(jìn)行吸附，當(dāng)儲液腔外部的蝕刻液通過透液機(jī)構(gòu)進(jìn)入其內(nèi)部時，通過外部的蝕刻液對聯(lián)動板產(chǎn)生的擠壓，能夠使聯(lián)動板與外管之間產(chǎn)生間隙，且通過外擺板自身的重力，能夠在失去外管內(nèi)壁的擠壓下向外擺動，從而使外擺板能夠配合阻擋塊對外部的晶圓碎屑進(jìn)行阻擋。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及晶圓蝕刻領(lǐng)域，具體的是一種晶圓蝕刻槽。

背景技術(shù)

晶圓蝕刻槽主要是用于對晶圓進(jìn)行蝕刻的設(shè)備，通過將晶圓放置于晶圓蝕刻槽內(nèi)部，再通過晶圓蝕刻槽內(nèi)部的蝕刻液能夠?qū)A的表面進(jìn)行腐蝕，從而使晶圓表面除了電路多余的區(qū)域能夠被去除，故而能夠在晶圓表面蝕刻出電路，是晶圓蝕刻行業(yè)的常見設(shè)備，基于上述描述本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，現(xiàn)有的一種晶圓蝕刻槽主要存在以下不足，例如：

由于晶圓蝕刻槽內(nèi)部是裝有蝕刻液的，若圓形晶圓在放置進(jìn)晶圓蝕刻槽內(nèi)部時發(fā)生傾斜，則會使晶圓在蝕刻液中下降時出現(xiàn)翻轉(zhuǎn)，從而使晶圓含有電路的一面容易朝下貼合于晶圓蝕刻槽的底部，若此時用鑷子對晶圓進(jìn)行夾取調(diào)整，則容易出現(xiàn)已被腐蝕出的細(xì)小電路被夾壞的情況。

發(fā)明內(nèi)容

針對上述問題，本發(fā)明提供一種晶圓蝕刻槽。

為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明是通過如下的技術(shù)方案來實現(xiàn)：一種晶圓蝕刻槽，其結(jié)構(gòu)包括頂蓋、蝕刻槽、控制按鈕、機(jī)體，所述頂蓋與機(jī)體的上端鉸鏈連接，所述控制按鈕與機(jī)體的前端活動卡合，所述蝕刻槽安裝于機(jī)體的上表面位置；所述蝕刻槽包括伸縮架、儲液腔、板體、透液機(jī)構(gòu)，所述伸縮架與板體活動卡合，所述儲液腔與板體為一體化結(jié)構(gòu)，所述透液機(jī)構(gòu)與儲液腔嵌固連接。

作為本發(fā)明的進(jìn)一步優(yōu)化，所述伸縮架包括承載塊、上接板、底板、彈力片，所述承載塊與上接板活動卡合，所述底板與上接板的底部嵌固連接，所述彈力片安裝于承載塊與上接板之間，所述承載塊設(shè)有六個，且均勻的在上接板的上端位置呈平行分布。

作為本發(fā)明的進(jìn)一步優(yōu)化，所述承載塊包括吸附盤、底置板、收縮板、密封塊，所述吸附盤與收縮板的上端相連接，所述收縮板與底置板間隙配合，所述密封塊與底置板為一體化結(jié)構(gòu)，通過蝕刻液及晶圓對吸附盤施加的壓力，能夠使吸附盤在底置板在配合下向下收縮一段距離。

作為本發(fā)明的進(jìn)一步優(yōu)化，所述密封塊包括伸縮塊、板塊、固定板、彈性環(huán)，所述伸縮塊與固定板間隙配合，所述板塊與固定板為一體化結(jié)構(gòu)，所述彈性環(huán)安裝于伸縮塊的底部與固定板之間，所述伸縮塊設(shè)有三個，且均勻的在固定板上呈平行分布。

作為本發(fā)明的進(jìn)一步優(yōu)化，所述透液機(jī)構(gòu)包括套框、外管、回彈片、聯(lián)動板，所述套框與外管為一體化結(jié)構(gòu)，所述回彈片安裝于兩個套框之間，所述聯(lián)動板與套框活動卡合，所述聯(lián)動板設(shè)有兩個，且均勻的在外管的內(nèi)部呈對稱分布。

作為本發(fā)明的進(jìn)一步優(yōu)化，所述阻擋塊包括阻擋塊、板面、外擺板，所述阻擋塊與外擺板為一體化結(jié)構(gòu)，所述外擺板與板面的左側(cè)鉸鏈連接，所述外擺板設(shè)有兩個，且均勻的在板面的左側(cè)靠上端呈平行分布。

作為本發(fā)明的進(jìn)一步優(yōu)化，所述板面包括承接板、引液腔、擠壓珠，所述引液腔與承接板為一體化結(jié)構(gòu)，所述擠壓珠安裝于引液腔的內(nèi)部位置，所述引液腔呈內(nèi)外通透結(jié)構(gòu)。

本發(fā)明具有如下有益效果：

1、通過晶圓及其上表面的蝕刻液對承載塊產(chǎn)生的壓力，能夠使承載塊上的吸附盤受擠壓在收縮板的配合下向下收縮，從而使密封塊能夠?qū)ξ奖P的中部進(jìn)行密封，故而使吸附盤能夠受擠壓對晶圓的底部進(jìn)行吸附，從而能夠避免晶圓在進(jìn)入蝕刻槽內(nèi)部時出現(xiàn)翻轉(zhuǎn)，導(dǎo)致帶有電路的一面與蝕刻槽的底部相貼合的情況。