[發(fā)明專利]一種滅弧系統(tǒng)以及具有該滅弧系統(tǒng)的分?jǐn)嗥骷?/span>在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011047837.3 | 申請日： | 2020-09-29 |
| 公開（公告）號： | CN112071683A | 公開（公告）日： | 2020-12-11 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 陳默;林新德;王應(yīng)波;林耀國;卓江海;張金泉 | 申請（專利權(quán)）人： | 廈門宏發(fā)開關(guān)設(shè)備有限公司 |
| 主分類號： | H01H9/34 | 分類號： | H01H9/34 |
| 代理公司： | 廈門市精誠新創(chuàng)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 35218 | 代理人： | 何家富 |
| 地址： | 361000 福建省*** | 國省代碼： | 福建;35 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 系統(tǒng) 以及 具有 器件 | ||
1.一種滅弧系統(tǒng)，包括多個(gè)單獨(dú)的滅弧柵片相互間隔排列組成的滅弧柵片組，其特征在于：還包括設(shè)置在所述滅弧柵片組外側(cè)的氣體增壓通道，定義朝向氣體增壓通道一側(cè)為上側(cè)，朝向滅弧柵片組一側(cè)為下側(cè)，以及還包括成對設(shè)置的至少一對導(dǎo)流件，每對導(dǎo)流件分別在各自的相對側(cè)至少具有一組相對設(shè)置、并互相朝向?qū)Ψ酵蛊鸬耐蛊鸩?，所述滅弧柵片組中相鄰的兩個(gè)滅弧柵片之間具有柵片間隙，所述凸起部被整體地插入設(shè)置在所述柵片間隙中靠下端的位置，由至少一組凸起部與相鄰的兩個(gè)滅弧柵片形成拉瓦爾噴口通道，所述氣體增壓通道是呈口徑逐步朝所述滅弧柵片組擴(kuò)大的結(jié)構(gòu)并與所述拉瓦爾噴口通道連通，從而使所述滅弧系統(tǒng)所產(chǎn)生的氣體經(jīng)由位于上側(cè)的所述氣體增壓通道增壓后，再由位于下側(cè)所述拉瓦爾噴口通道排出。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的滅弧系統(tǒng)，其特征在于：所述導(dǎo)流件大致呈條形片狀結(jié)構(gòu)，每對所述導(dǎo)流件相面對地插伸到所述柵片間隙中，從而使所述凸起部被插入設(shè)置在所述柵片間隙中以基本填充封閉所述柵片間隙兩側(cè)的間隙。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的滅弧系統(tǒng)，其特征在于：所述導(dǎo)流件具有多個(gè)，全部的所述導(dǎo)流件間隔排列并且其上端固定連接在同一個(gè)第一連接部上以形成一體式梳子狀結(jié)構(gòu)，通過所述一體式梳子狀結(jié)構(gòu)整體地使全部的所述導(dǎo)流件插伸到所述滅弧柵片組的所述柵片間隙。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的滅弧系統(tǒng)，其特征在于：所述導(dǎo)流件具有多個(gè)，每兩個(gè)所述導(dǎo)流件平行間隔排列并且二者的側(cè)端固定連接在一個(gè)第二連接部上以形成U型夾板狀結(jié)構(gòu)，通過多個(gè)成對的所述U型夾板狀結(jié)構(gòu)分別地將所述導(dǎo)流件從所述滅弧柵片組的兩側(cè)部插伸到所述柵片間隙中。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的滅弧系統(tǒng)，其特征在于：多個(gè)所述U型夾板狀結(jié)構(gòu)是逐一全部插入或者間隔一個(gè)滅弧柵片插入。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的滅弧系統(tǒng)，其特征在于：所述氣體增壓通道以覆蓋觸頭系統(tǒng)的動(dòng)觸頭的運(yùn)動(dòng)軌跡的方式設(shè)置。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的滅弧系統(tǒng)，其特征在于：所述滅弧柵片組外側(cè)設(shè)置有分別相對設(shè)置在所述觸頭系統(tǒng)的動(dòng)觸頭的運(yùn)動(dòng)軌跡兩側(cè)的第一隔板和第二隔板，所述第一隔板和第二隔板在各自的相對側(cè)分別具有朝對方延伸凸起的第一凸臺和第二凸臺，所述第一隔板和第二隔板在各自的相對側(cè)還分別具有與所述第一凸臺和第二凸臺銜接的第一斜坡和第二斜坡，相對設(shè)置的所述第一斜坡和第二斜坡組合形成大致向所述滅弧柵片組逐步擴(kuò)大的所述氣體增壓通道。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的滅弧系統(tǒng)，其特征在于：還包括大致設(shè)置在所述拉瓦爾噴口通道排出口下側(cè)的分流錐，所述分流錐包括兩斜面對接形成的尖錐結(jié)構(gòu)，其中所述斜面傾斜于所述拉瓦爾噴口通道，以將經(jīng)由所述拉瓦爾噴口通道排出的氣體沿所述滅弧柵片組的長度方向分別朝兩背離的方向引導(dǎo)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的滅弧系統(tǒng)，其特征在于：所述分流錐設(shè)置在所述滅弧柵片組長度上的中間位置或設(shè)置在正對觸頭系統(tǒng)的動(dòng)觸頭和靜觸頭接觸位置的位置。
10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的滅弧系統(tǒng)，其特征在于：所述導(dǎo)流件由絕緣產(chǎn)氣材料制成。
11.一種分?jǐn)嗥骷?，包括觸頭系統(tǒng)和滅弧系統(tǒng)，其特征在于：所述滅弧系統(tǒng)是如權(quán)利要求1-10任一所述的滅弧系統(tǒng)。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的分?jǐn)嗥骷?，其特征在于：所述分?jǐn)嗥骷菙嗦菲鳌?/p>
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于廈門宏發(fā)開關(guān)設(shè)備有限公司，未經(jīng)廈門宏發(fā)開關(guān)設(shè)備有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011047837.3/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 接收裝置以及接收方法、以及程序
- 凈水濾芯以及凈水裝置、以及洗漱臺
- 隱匿檢索系統(tǒng)以及公開參數(shù)生成裝置以及加密裝置以及用戶秘密密鑰生成裝置以及查詢發(fā)布裝置以及檢索裝置以及計(jì)算機(jī)程序以及隱匿檢索方法以及公開參數(shù)生成方法以及加密方法以及用戶秘密密鑰生成方法以及查詢發(fā)布方法以及檢索方法
- 編碼方法以及裝置、解碼方法以及裝置
- 編碼方法以及裝置、解碼方法以及裝置
- 圖片顯示方法以及裝置以及移動(dòng)終端
- ENB以及UEUL發(fā)送以及接收的方法
- X射線探測方法以及裝置以及系統(tǒng)
- 圖書信息錄入方法以及系統(tǒng)以及書架
- 護(hù)耳器以及口罩以及眼鏡
